【課題】複数の着弾領域への各着弾量を精度良く均一化することができる。
【解決手段】ワークＷ上に画成された複数の着弾領域の各着弾領域に対し、１以上の吐出ノズル２１により液滴を吐出着弾させると共に、各吐出ノズル２１に対し、複数種の適正駆動電圧のうちの任意の１の適正駆動電圧を設定して、複数の着弾領域に吐出着弾する複数の吐出ノズル２１を適正駆動電圧毎にグループ化する液滴吐出ヘッド１の駆動電圧設定方法であって、グループ毎の前記適正駆動電圧を設定する適正電圧設定工程と、着弾領域毎に吐出着弾した液滴の着弾量が、前記複数の着弾領域の相互間で均一になるように、複数の吐出ノズル２１を複数のグループに割り付けるノズル割付工程と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】インキを液柱状に塗布する方法を用いて、複数の有機ＥＬ素子にわたって膜厚が等しい共通層を形成することのできる、複数の有機ＥＬ素子を備える発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】平面上において所定の列方向に所定の間隔を開けて、前記列方向とは方向が異なる行方向に延びる複数の行が設定されており、各前記行上において前記行方向に所定の間隔をあけて設けられる複数の有機ＥＬ素子であって、それぞれが、一対の電極と、該電極間に設けられ、各有機ＥＬ素子に共通して設けられる共通層とを含んで構成される前記複数の有機ＥＬ素子を備える発光装置の製造方法において、前記共通層を形成する工程を含み、共通層を形成する工程では、共通層が形成されていない行について、前記列方向にｍ行の間隔を開けて共通層を塗布成膜するプロセスを、（ｍ＋１）回行う、発光装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】計測時間を短くし、生産効率の向上を図ることが可能な液滴吐出装置及び液滴吐出方法を提供する。
【解決手段】第１の全吐出パターンにおけるノズルごとの吐出量と第１〜第Ｎの吐出パターンにおけるノズルごとの吐出量とに基づいて各ノズルの吐出量の差を第１〜第Ｎの係数として求める工程と、第１〜第Ｎの係数を記憶する工程と、第１の全吐出パターンに対する新たな第２の全吐出パターンにおける吐出量をノズルごとに測定する工程と、第２の全吐出パターンにおけるノズルごとの吐出量を記憶する工程と、第１〜第Ｎの係数と第２の全吐出パターンにおけるノズルごとの吐出量とに基づいて第１〜第Ｎの吐出パターンに対応する各ノズルの推定吐出量を演算する工程と、第１〜第Ｎの吐出パターンに対応するノズルごとの推定吐出量を記憶する工程と、各ノズルの推定吐出量に基づいて液滴吐出ヘッドの吐出動作を制御する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡易な方法かつ低コストで、光学フィルム製造用ロール金型の表面を傷つけず錆の発生や異物の付着などを防止する保護皮膜の製造方法を提案することを目的とする。
【解決手段】本発明の保護皮膜の製造方法は、光学フィルム製造用ロール金型の表面に前記ロール金型を回転させながら保護皮膜剤を塗布する塗布工程と、前記ロール金型を回転させながら前記保護皮膜剤を乾燥硬化させる乾燥硬化工程とを少なくとも有することを特徴とする。本発明の保護皮膜の製造方法は、塗布工程と乾燥硬化工程において、未硬化の保護皮膜剤が流動しない回転速度で光学フィルム製造用ロール金型の回転が行われることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板に対し、機能液滴が各画素領域に正確に着弾しなくても、異色の機能液滴が混色することを防止することができる液滴吐出装置の描画方法を提供する。
【解決手段】ワークＷと機能液滴吐出ヘッド７１とを相対的に走査し、ワークＷに機能液を吐出して描画を行なう液滴吐出装置の描画方法であって、走査方向に沿った複数の領域を描画する第１の走査と、第１の走査で描画した複数の領域の間の領域を描画する第２の走査と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吐出される液滴の量の変動を小さくできる描画方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッドから基板へ液滴を吐出して描画する描画方法にかかわる。液滴吐出ヘッドと基板とを相対移動させて基板へ液滴を吐出するステップＳ２の第１吐出工程及びステップＳ４の第２吐出工程の吐出工程と、液滴吐出ヘッドと基板との相対移動方向を反転させ、液滴吐出ヘッドを暖機駆動するステップＳ３の第１反転工程及びステップＳ６の第２反転工程の反転工程と、を有し、吐出工程と反転工程とを繰り返して描画する。繰り返し行われる各反転工程において液滴吐出ヘッドの温度を同じ目標温度に暖機駆動する。 （もっと読む）

【課題】パターン描画方法および装置において、被描画体の表面に描画されるパターンの歪みやムラを低減することができるようにする。
【解決手段】描画経路を設定する描画経路設定工程Ｓ１と、描画経路を点列｛ｐ_ｉ｝によって区間に区分する描画経路区分工程Ｓ２と、多軸移動手段により各点ｐ_ｉを点状領域の中心に順次位置づけるため、各駆動部に設定する位置制御パラメータ組Ｃ_ｉを生成する位置制御情報生成工程Ｓ３と、ｉ番目の区間の区間距離ΔＬ_ｉを各区間についてそれぞれ算出する区間距離算出工程Ｓ４と、区間移動時間Δｔ_ｉを、各区間について区間距離ΔＬ_ｉに比例するように設定する区間移動時間設定工程Ｓ５と、区間移動時間Δｔ_ｉの間に位置制御パラメータ組がＣ_ｉからＣ_ｉ＋１に遷移するように各駆動部の駆動速度を制御して、被描画体を移動させつつ、描画手段によって描画を行う描画工程Ｓ６とを備える。 （もっと読む）

【課題】 市販の塗工液を用いて、様々な材質の基材に対し、塗工液層を数十〜数百ミクロンの範囲の厚みとした、任意の形状のパターンコーティングを行うこと。
【解決手段】 基材４のコーティング面４ａ側に設けたロール１と、コーティング面４ａの裏面４ｂ側に設けた版ロール２とを備え、コーティング面４ａに塗工液５を供給しながらロール１と版ロール２の隙間から基材４と塗工液５を送り出し、塗工液層６を形成するコーティング装置Ｃである。版ロール２の周面に、未塗工領域６ａの形状に対応した凸部２ａを有する所要の凹凸パターン２ｂを形成した構成である。
【効果】 凸部２ａに対応する部分には塗工液層６が形成されないので、任意の形状のパターンコーティングができる。塗工液５や基材４の種類は限定されない。塗工液層６の厚みは凸部２ａの高さなどで調整でき、数十〜数百ミクロンの範囲とすることができる。 （もっと読む）

【課題】基材の大きさ、形状によらず、液歩留まりよく、塗膜を、特に膜厚の厚い場合においても透視歪み等のない均一な膜厚に形成することが可能な塗布方法およびその方法により得られる、膜厚が厚い場合にも均一な膜厚分布を有する被膜付き基材を提供する。
【解決手段】傾斜をつけた基材塗布面に供給された塗布液が重力によって塗布面上を流下することで塗布が行われるフローコート法を応用した塗布の方法であって、基材塗布面に供給された塗布液が重力により流下するように基材に傾斜を設け、その傾斜の方向が連続的に、または断続的に変化するように基材を揺動させることで、塗布液の塗布面上での流下方向を変化させて、基材塗布面全体に塗布液を塗布する塗布方法である。 （もっと読む）

【課題】高速で連続的に又は両面に画像形成する場合において、スタッカーブロッキングの発生が防止された画像形成方法を提供する。
【解決手段】塗工層を有し、面積が１２５０ｃｍ^２以上の記録媒体上に処理液を付与する処理液付与工程と、少なくとも顔料と沸点の異なる二種の有機溶剤とを含み、前記有機溶剤の少なくとも一種は沸点が２００℃以下であるインク組成物を、２００ｍｍ／ｓ以上の搬送速度で搬送される前記処理液付与工程後の記録媒体に付与するインク付与工程と、付与された前記処理液及び前記インク組成物を加熱乾燥する乾燥工程と、加熱乾燥後の前記記録媒体の温度を３５℃以下に冷却する冷却工程と、冷却後の前記記録媒体を集積部に集積する集積工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドとワークの相対速度を変更するときにも吐出される液滴の量の変動を小さくできる描画方法を提供する。
【解決手段】液滴吐出ヘッドと基板とを相対移動させて液滴吐出ヘッドから基板へ液滴を吐出する描画方法にかかわる。基板へ液滴を吐出して描画するステップＳ８の描画工程と、描画工程における液滴吐出ヘッドと基板との相対速度を設定するステップＳ２の速度設定工程と、相対速度を用いて描画工程における液滴吐出ヘッドの温度である描画時ヘッド温度を推定するステップＳ３のヘッド温度推定工程と、液滴吐出ヘッドの温度を描画時ヘッド温度にするステップＳ７の第２暖機工程と、を有し、描画工程の前に第２暖機工程が行われる。 （もっと読む）

【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取る。次いで、プライミングローラ１４の回転速度を一気に上げて、スリットノズル７２側とプライミングローラ１４側とに分かれるようにレジスト液Ｒの液膜を切り離し、切り離した後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４上のレジスト液膜ＲＭ₁を所定の待機用回転角位置へ着かせる。 （もっと読む）

【課題】断面の外周が円形をなす各種の円筒状物に、均一厚さの塗膜を形成する。
【解決手段】塗料Ｐを収容する塗料パン３と、前記塗料パン３から直接又は中間ロール１０を介して塗料Ｐを外周面２Ａに付着させるとともにこの外周面２Ａに付着した塗料Ｐを被塗物Ｈに付着させて塗装を行うアプリケーションローラー２とを含むロールコーター装置１を用いて断面の外周が円形である被塗物Ｈに塗料Ｐを塗装する塗装方法である。アプリケーションローラー２と被塗物Ｈとを同一方向に回転させるとともに、被塗物Ｈの周速度Ｓｏと、前記アプリケーションローラーの周速度Ｓａとの比Ｓｏ／Ｓａを１．０よりも大とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に複数のパターンを形成する工程中でディスペンサを複数回にわたって上昇・下降させて前記基板とノズルとの間のギャップを調節する過程を繰り返さないで、全体の工程時間を短縮する、塗布装置の制御方法を提供する。
【解決手段】原料物質を貯留するシリンジと、基板上に前記原料物質を吐出するノズルと、シリンジとノズルとの間の連通を制御するバルブとを有し、基板上に複数のパターンを離隔させて形成するディスペンサを備える塗布装置の制御方法であって、ディスペンサを水平移動させて原料物質を基板上に吐出して複数のパターンを形成し、基板上に原料物質を吐出する時の基板とノズルとの間のギャップと、基板上に原料物質を吐出しない時の基板とノズルとの間のギャップとを同一にすることで、前記ディスペンサを水平移動させる塗布装置の制御方法。 （もっと読む）

【課題】基板が載置される載置台に対する塗布部の相対的な速度を大きくすることが可能であり、また、基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基台１１上に、当該基台１１の長手方向に沿って一の方向に直線状に移動し、基板Ｓが載置される載置台１６が設けられている。また、基台１１上に、当該基台１１の長手方向に沿って一の方向とは逆の方向である他の方向に直線状に移動し、塗布部３０を支持する塗布部支持機構２０が設けられている。制御部５０は、載置台１６を一の方向に移動させるとともに塗布部支持機構２０を他の方向に移動させ、この際に塗布部３０から載置台１６に載置された基板Ｓに塗布液を供給することにより基板Ｓに塗布液を塗布するよう制御を行う。 （もっと読む）

【課題】基板における塗布液の膜厚が略均一であるような有効塗布領域を比較的大きくすることができる塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓに塗布液を塗布する塗布装置１０において、塗布部支持機構２０に対して塗布部３０を塗布部支持機構２０の移動方向に摺動させるための摺動機構３２、３４が設けられている。制御部５０は、塗布部支持機構２０を移動させ始める際に、載置台１２に対する塗布部３０の相対速度が所定の大きさに達するまで、塗布部支持機構２０を移動させるとともに摺動機構３２、３４により塗布部支持機構２０に対して塗布部３０を塗布部支持機構２０の移動方向に摺動させるよう制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 高品質のワニス処理を実現する。
【解決手段】 回転電機１００のコアの中心軸１００ａを水平面に対して４５度傾斜させ、さらに、回転台座５を回転し、回転電機を中心軸を中心に自転させる。
この状態での、回転電機の傾斜上端部１００Ｕに向かって、ノズル３０によってワニス２００を流下する。回転電機は自転することによって、傾斜上端部となる回転電機の部分が循環・周回し、回転電機の端部全体にワニスが供給される。巻線に流下したワニスは、重力により中心軸下方および巻線周方向に流れ、巻線表面全体にワニスが供給される。このように、重力および回転電機自体の動きによって、ワニスを巻線表面全体に拡げるので、ワニスの供給量を最小限に抑えることができ、歩留りを改善し得る。 （もっと読む）

【課題】 スペーサ粒子分散液の塗布動作とインクジェットヘッドの洗浄動作をより短時間で連続して実行することが可能なインクジェット塗布装置およびインクジェット塗布方法を提供する。
【解決手段】 透明基板１を支持したテーブル１１が搬入搬出位置から塗布位置に向けて移動し、ガントリー１３におけるインクジェットヘッドにより透明基板１の表面にスペーサ粒子分散液を塗布し、スペーサ粒子分散液を塗布後の透明基板１を支持したテーブル１１が塗布位置から搬入搬出位置に移動する一連の塗布動作と、洗浄部２２が待機位置から洗浄位置に向けて移動し、洗浄部２２により各インクジェットヘッドを洗浄し、洗浄部２２が洗浄位置から待機位置に移動する一連の洗浄動作とを、互いに重複して実行させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。
【解決手段】回転中のウェハ上に溶剤を供給し、ウェハの表面をプリウェットする（工程Ｓ１）。ウェハを第５の回転数で回転させる（工程Ｓ２）。ウェハの回転を第１の回転数まで加速させ、第１の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ３）。ウェハの回転を第２の回転数である１５００ｒｐｍまで減速させ、ウェハＷを第２の回転数で０．５秒回転させる（工程Ｓ４）。ウェハの回転を第３の回転数までさらに減速させ、第３の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ５）。ウェハの回転を第４の回転数まで加速させ、第４の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ６）。工程Ｓ２の途中から工程Ｓ５の途中まで、ウェハの中心にレジスト液を連続的に供給する。 （もっと読む）

【課題】製造物の部品に溶融流動性材料を塗布する方法を開示する。
【解決手段】本件に開示される方法および装置は、適切な流動性材料の作成，流動性材料が塗布される方法に対する制御，流動性材料の塗布前の製品処理などに関する。さらに、本装置および方法は、自動車，航空宇宙および海洋輸送手段における表面と部品とに流動性材料を塗布するのに特に適する。 （もっと読む）