【課題】膜厚が均一な厚膜の塗布膜を形成する方法を含む半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】高粘度のレジスト３塗布によって形成された半導体ウェハ外周部分の盛り上がり部を有する第一の塗布膜上にダイナミックディスペンスにて低粘度のレジストを高回転で塗布し、盛り上がり部の膜厚を第一の塗布膜の膜厚と第二の塗布膜の膜厚の和と同程度にする。 （もっと読む）

【課題】液状体の種類の変更にかかる時間を短縮する。
【解決手段】第２タンク１１７内の機能液５３を吐出ヘッド３３に導く第２供給管１１９と、第２供給管１１９の途中に設けられたフィルター１２４と、第２タンク１１７とフィルター１２４との間に設けられ、第２供給管１１９を開閉する第１バルブ１２７と、第２タンク１１７と第１バルブ１２７との間において第２供給管１１９から分岐し、フィルター１２４を迂回してからフィルター１２４と吐出ヘッド３３との間において第２供給管１１９に合流する迂回管１２０と、迂回管１２０を開閉する第２バルブ１２９と、第１バルブ１２７とフィルター１２４との間において第２供給管１１９から分岐し、機能液５３を第２供給管１１９外に排出する第１排出管１２１と、第１排出管１２１を開閉する第３バルブ１３１と、を有する、ことを特徴とする液滴吐出装置。 （もっと読む）

【目的】 塗布液微粒子の再付着を防止し塗布される膜厚を比較的簡単な構造で効果的に均一化することが可能な比較的小型なスピンコータを廉価に実現する。
【構成】 被塗布材である基板３を水平に保持して回転する回転テーブル１と、この回転テーブル１の周囲を覆うように構成され、基板３から飛散する塗布液を受け止めるカップ６とを備え、基板３の表面上に滴下される塗布液を基板３の表面上に遠心力で拡散させて塗布するスピンコータにおいて、カップ６の底部中心の開口部に接続されて排気を誘導する排気誘導ボックス７を設け、この排気誘導ボックス７を介してカップ６の内部の排気を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、所定の間隔で間欠的に液体を被塗工対象へ塗工する塗工装置であって、作業者のスキルに影響されずに、長時間に亘って高品質の塗工が可能な塗工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明の塗工装置１０は、液体が通過する管１１と、管１１を通過した液体を吐出させる吐出手段１２と、管１１を仕切ると共に、液体を通過させるための開口１４を備えた仕切体１３と、吐出手段１２側へ移動することにより開口１４を開く弁１５と、開口１４を通過する時の液体の流出速度を取得し、該取得した流出速度と一致する移動速度で弁１５を移動させる制御手段１６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】フラッシングによりノズルから吐出される液体の堆積による印刷不良を防止することにある。
【解決手段】本発明に係る液体吐出装置は、液体を吐出するノズルを有するヘッドと、前記ヘッドがフラッシングを行うことにより前記ノズルから吐出された液体を受ける傾斜面を有する第一液体受け部と、前記傾斜面から落下した液体を受け止めて貯留する第二液体受け部と、を備える。これにより、フラッシングによりノズルから吐出された液体を垂れ流すことができるため、当該液体の堆積による印刷不良を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】記録媒体上の光硬化型インクを確実に硬化させると共に、空走査の時間を短縮することができる記録装置の制御方法および記録装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、インクジェットヘッド５１を駆動して光硬化型のインクをワークＷ上に吐出着弾させて未硬化画像６０を形成すると共に、紫外線照射装置４５を駆動して未硬化画像６０を光硬化させる画像形成走査工程Ｓ１と、画像形成走査工程Ｓ１の結果、光硬化のための積算光量が不足するワークＷ上の光量不足領域６１に対し、インクジェットヘッド５１および紫外線照射装置４５を相対的に移動させながら、紫外線照射装置を駆動して積算光量を充足させる光硬化走査工程Ｓ２と、を備え、光硬化走査工程Ｓ２における相対的な移動を、画像形成走査工程Ｓ１における相対的な移動より高速で行う。 （もっと読む）

【課題】 塗布ヘッドの各ノズルからの液滴の吐出量の差に起因する塗布膜のむらを簡易に解消すること。
【解決手段】 塗布装置１０において、塗布ヘッド２０の各ノズルから大きさの異なる複数種類の液滴の組合せからなる基本吐出パターンで液滴を吐出させたときの各ノズルからの液滴の平均吐出量と前記基本吐出パターンで前記ノズルから吐出されるべき液滴の理論平均吐出量とを比較し、前記平均吐出量と前記理論平均吐出量とが異なっているノズルがある場合、そのノズルからの前記平均吐出量が前記理論平均吐出量になるように基本吐出パターンを変更するもの。 （もっと読む）

【課題】液滴の着弾位置の精度を向上させるとともに、塗布する液滴量を均一化させる。
【解決手段】ワークに向けて液滴吐出ヘッドから機能液を液滴として吐出させる制御部を備え、前記制御部は、前記液滴の吐出速度を所定速度に調整させ、次いで、調整した前記吐出速度によって吐出される前記液滴の重量を測定させ、次いで、測定した前記液滴の重量に基づいて、前記機能液の塗布量に対応する前記液滴の吐出数を演算させ、次いで、前記所定領域に向けて演算された前記吐出数の前記液滴を吐出させる。 （もっと読む）

【課題】基板周縁近くの領域でのレジスト膜等の膜厚を均一に維持することが可能な回転塗布方法を提供する。
【解決手段】基板に形成する膜の原料薬液を基板に滴下し、基板を回転することにより膜を形成する方法であって、基板回転保持部に保持される基板の周囲を囲むカップ部を第１のカップ排気量で排気しつつ、所定の回転速度で第１の基板に膜を形成し、カップ部を第２のカップ排気量で排気しつつ、所定の回転速度で第２の基板に膜を形成し、第１のカップ排気量、第１の基板に形成された膜の膜厚、第２のカップ排気量、および第２の基板に形成された膜の膜厚に基づいて、カップ排気量に対する膜の膜厚の変化率を取得し、取得した変化率に基づいてカップ排気量を決定し、決定したカップ排気量にてカップ部を排気しつつ、所定の回転速度で基板を回転することにより、膜を第３の基板上に形成する方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子に用いる機能性材料塗布液を、大きな面積で、はじきや、スジ故障の発生なく均一に安定に塗布することができる塗布方法を得ることにある。
【解決手段】有機ＥＬ層塗布液を、塗布装置に供給して、帯状可撓性支持体上に塗布を行う塗布方法であって、塗布液供給手段により塗布液を制御しながら塗布装置に供給する塗布方法であり、前記塗布液の制御は、塗布液の供給を、塗布する前には、塗布液の塗布流量の１倍以上の流量で供給し、その後、塗布直前に供給を停止し、停止後３０秒以内に再度塗布液を供給し、塗布を行うよう制御することを特徴とする塗布方法。 （もっと読む）

【課題】連結された板幅の異なる薄鋼板の端面に、煩雑な作業を要することなく、確実に液状物を塗布する薄鋼板端面への液状物塗布方法を提供する。
【解決手段】外周部２４に液状物が付けられた回転自在のロール１４を、通板されている連結された板幅の異なる複数の薄鋼板１１、１２、１３の端面に順次当接させ、しかも、鉛直方向に対して上側が薄鋼板１１、１２、１３よりに傾斜した斜軸２３に回動可能に取り付けられた回動材２２に、中心軸２５が取り付けられたロール１４は、自重によって通板中の薄鋼板１１、１２、１３の端面に向かって付勢される薄鋼板端面への液状物塗布方法であって、斜軸２３を薄鋼板１１、１２、１３の幅方向に進退する進退手段３３が設けられ、進退手段３３は、通板中の薄鋼板１１、１２、１３の現在位置及び板幅の情報を基に、斜軸２３を進退して、ロール１４を通板中の薄鋼板１１、１２、１３の端面に当接させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布液を塗布する際に、塗布液の供給量を少量に抑えつつ、基板面内で均一に塗布液を塗布する。
【解決手段】回転中のウェハ上に溶剤を供給し、ウェハを第６の回転数で回転させて溶剤を拡散させる（工程Ｓ１）。ウェハの回転を第１の回転数まで加速させ、第１の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ２）。ウェハの回転を第２の回転数まで減速させ、ウェハＷを第２の回転数で回転させる（工程Ｓ３）。ウェハの回転を第３の回転数までさらに加速し、第３の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ４）。ウェハの回転を第４の回転数である０ｒｐｍ超５００ｒｐｍ以下まで減速させ、第４の回転数で１〜１０秒間ウェハを回転させる（工程Ｓ５）。ウェハの回転を第５の回転数まで加速し、第５の回転数でウェハを回転させる（工程Ｓ６）。工程Ｓ２から工程Ｓ３の途中まで、あるいは工程Ｓ２の間ウェハの中心にレジスト液を連続的に供給する。 （もっと読む）

【課題】着弾精度が要求される塗布膜形成プロセスにおいて、塗布膜形成装置周辺の環境条件に影響を受けずに所望する位置に高精度で塗布膜を形成し、かつ装置コストを低減させることができる塗布膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る塗布膜形成方法は、塗布対象物上の所定領域を覆う塗布膜を、液体を塗布することによって形成する際、上記所定領域の中心位置とは異なる位置座標に、複数個のパターン構造をそれぞれの位置座標が互いに異なるように形成し、少なくとも２個の上記パターン構造のエッジが１つの液溜りの内になるように、塗布対象物上の一部分に液体を塗布して当該液溜りを形成する。 （もっと読む）

【課題】ダイヘッドを用いて基板の表面に塗布液を塗布する場合に、高品質な塗布膜を実現する塗布方法を提供する。
【解決手段】ダイヘッド内部の塗布液を戻り配管を介して供給タンクへと循環させる流量を、その流量によって除去できる沈降物の量が、粒子の沈降速度から算出される沈降量以上になる流量で循環させて、塗布欠陥のない高品質な塗布膜を実現する。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び方法並びにナノインプリントシステムを提供する。
【解決手段】基板(102)上に機能性液を打滴する複数のノズル(120)、及び少なくとも一部が圧電素子(123)で構成された側壁（121）によって区画され、各ノズルのそれぞれに連通される液室を具備し、圧電素子をせん断変形させて液滴を打滴する液体吐出ヘッド(110)と、基板と液体吐出ヘッドとを相対的に移動させる搬送部(108)と、を具備し、液体吐出ヘッドに具備される複数のノズルについて、両隣のノズルが異なるグループに属するように複数のノズルを３つ以上のグループにグループ化するとともに、同一の打滴タイミングにおいて同一のグループに属するノズルのみから打滴を行い、液体を前記基板上に離散的に着弾させるように圧電素子の動作が制御される。 （もっと読む）

【課題】 ドット部のマーキング対象物との密着力が向上する識別コードの提供及び、識別コードを構成するドット部とマーキング対象物との接触面積が大きく、密着力を向上させ、識別コードを構成するドット部の欠けや脱落、倒れを防ぎ、識別コードの判別性を向上させる手段を提供する。
【解決手段】 マーキング対象物の上に、複数のドット部の集合体で構成される識別コードにおいて、各々のドット部を、マーキング材料が複数のドットを積層して形成し、上層のドットの中心位置を、下層のドットの中心位置に対してずらして形成する。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式による基板への機能性液の打滴が最適化され、好ましい微細パターンを形成し得る液体塗布装置及び液体塗布方法並びにナノインプリントシステムを提供する。
【解決手段】基板(102)上に光硬化性樹脂を含有する液体を打滴するための複数のノズル(120)が所定の方向に沿って一列に並べられた構造を有し、複数のノズルのそれぞれに連通される複数の液室(122)、及び複数の液室に対応して配設される液室内の液体を加圧するための圧電素子を具備する液体吐出ヘッド(110)を備え、基板と液体吐出ヘッドとを相対的に移動させて、液体を基板上に離散的に着弾させるように圧電素子を動作させるとともに、前記液体吐出ヘッドの構造に対応して前記複数のノズルがグループ化され、該グループごとに圧電素子の動作が制御される。 （もっと読む）

【課題】インク消費量を低減しつつインク滴の吐出不良を回復することができる液滴吐出装置、および液滴検知方法を提供する。
【解決手段】ノズルから吐出された液滴を検知する検知部１４２と、液滴が吐出された時点から液滴が検知されるまでの検知時間を計測する計測部１４３と、検知時間が予め定められた閾値を超えるか否かを判断し、閾値を超えると判断した場合にノズルによる液滴の吐出状態が不良であると判断する判断部１４４と、吐出状態が不良であると判断された場合に、吐出状態の不良を回復させるために吐出させる液滴の量を算出する算出部１４５と、算出された量の液滴をノズルに吐出させる吐出制御部１４６と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】 例えば太陽電池用のフィンガー配線パターンなどのパターンを、その開始端も含めて均一に形成することができるパターン形成方法およびパターン形成装置を提供する。
【解決手段】 ペーストに加えるせん断応力の増加に応じたペーストの粘度変化（粘度特性）を測定する（ステップＳ１０）。測定した粘度特性に応じて、ノズルからのペーストの吐出を開始する際における基板の移動速度条件を調整する（ステップＳ２０）。調整された速度条件で基板を移動させるとともにノズルからペーストを線状に吐出して基板上に線状のフィンガー配線パターンを塗布形成する（ステップＳ３０）。 （もっと読む）

【課題】ロールコーターを用いて基材に連続して塗布処理を行うに際して、常に安定して、所望の膜厚と良好な塗布外観の両方を得ることができる連続塗布処理方法を提供する。
【解決手段】ロールコーター１Ａの下流側に設置した膜厚計１１の測定値と予め設定した膜厚設定値との差に応じて、ピックアップロール４の周速Ｖｐ、ドクターロール５の周速Ｖｄ、アプリケーターロール６の周速Ｖａを自動的に調整するフィードバック制御によって膜厚制御を行うに際して、各ロール４、５、６の周速Ｖｐ、Ｖｄ、Ｖａについて上下限値を設定するとともに、フィードバック制御を開始する時は、ドクターロール５の周速Ｖｄの調整のみで膜厚制御を行い、ドクターロール５の周速Ｖｄがその上下限値に達した後は、ピックアップロール４の周速Ｖｐまたは／およびアプリケーターロール６の周速Ｖａの調整によって膜厚制御を行うことを特徴とする連続塗布処理方法。 （もっと読む）