【課題】品質低下を招くことなく均一で高品質の膜を形成する。
【解決手段】液状体を吐出して、基板２０上のシール部Ｓに囲まれた膜形成領域Ａに膜を形成する。膜形成領域Ａの面積に対して１．３倍以上の面積で、且つシール部Ｓよりも内側に前記液状体を塗布する。 （もっと読む）

【課題】低抵抗かつ高透過率であるとともに、反射が抑えられた透明導電膜を再現性良く製造できる方法を提供する。
【解決手段】基材上に透明導電膜を形成する方法であって、（Ｉ）基材上に、表面が疎水性でありかつ黒色顔料を含有する層からなる網目状の疎水性領域によって、親水性領域が囲まれている網目パターンを形成する工程と、（ＩＩ）前記網目パターンが形成された基材上に、有機溶剤相中に導電性粒子を含むＷ／Ｏ型エマルジョンからなる塗布液を塗布し、乾燥させて、前記疎水性領域に導電性粒子を付着させる工程と、（ＩＩＩ）前記疎水性領域に付着した導電性粒子を焼結させる工程を有することを特徴とする透明導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 表面に所望の硬度を有すると共に基体との密着性に優れた光触媒層を備えた有機無機複合体、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 式（Ｉ）
Ｒ_ｎＳｉＸ_４−ｎ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒは、式中のＳｉに炭素原子が直接結合するような有機基を表し、Ｘは、水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは１又は２を表す。）で表される有機ケイ素化合物の縮合物を主成分とし、金属キレート化合物、金属有機酸塩化合物、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属化合物、それらの加水分解物、及びそれらの縮合物からなる群より選ばれる少なくとも１種の３５０ｎｍ以下の波長の光に感応する光感応性化合物、及び／又はそれから誘導される化合物を含有するポリシロキサン系複合体表面に、光触媒層を備えたことを特徴とする有機無機複合体、及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】インクジェット方式を用いてカラーフィルタを製造するに際し、隣接する画素間での混色を防止したカラーフィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明基板上に所定のパターンの遮光層を形成する工程、前記遮光層の開口部に、各色の着色材料をインクジェット法により規定の配列となるように吐出し、第１の膜厚を有する着色層を形成する工程、前記着色層中の溶媒を蒸発させ、着色層の膜厚を前記第１の膜厚より小さい第２の膜厚にする工程、及び
前記着色層を加熱処理する工程を具備し、前記第１の膜厚（Ｔ１）に対する第２の膜厚（Ｔ２）の比（Ｔ２／Ｔ１）は、０．６〜０．９５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ダイコータを用いて生産性において問題の無い高い塗工速度で位相差層を形成した場合でも、横スジムラの発生が極めて少なく、均一な位相差層が得られる液晶組成物、およびこれを用いたカラーフィルタ、ならびにこのカラーフィルタを用いた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】１種または２種以上の架橋性液晶分子を含有し、動的表面張力が表面寿命１０ｍｓで３１ｍＮ／ｍ〜５０ｍＮ／ｍ、かつシェアレートが１００ｓ^-1の際の動的粘度が２．０ｍＰａ・ｓ〜４．０ｍＰａ・ｓの範囲内にある液晶組成物であって、動的表面張力が表面寿命１０ｍｓで２７ｍＮ／ｍ〜５０ｍＮ／ｍの溶媒、および／またはアルキルエーテル系、シリコーン系もしくはフッ素系の界面活性剤を含有することを特徴とする液晶組成物、およびこれを基材に塗工して固定化した位相差層を備えるカラーフィルタならびに該カラーフィルタを表示側基板とする液晶表示装置。 （もっと読む）

【課題】 電磁波シールド性、透明性、非視認性及び接着性を有する電磁波シールド基板を提供する。
【解決手段】表面にOH基を含有する樹脂基板又はガラス基板上にチオール反応性アルコキシシラン化合物を用いて単分子薄膜層を形成する（S12）。次に、当該基板面を光不透過部（幾何学図形部と額縁部）と光透過部（幾何学図形部と額縁部以外の部分）からなるマスクで覆い、露光して（S14）、反応性部分と非反応性部分からなる配線像を表面に描く。これを、触媒溶液に浸漬し（S15）、無電解めっき溶液に浸漬し（S1６）て露光されなかった部分を金属めっきして、幾何学模様の金属配線部と額縁部からなり電磁波シールド性と透明性を有する電磁波シールド基板を製造する。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性に優れ、有機溶剤の使用量が低減された水中油（O/W）型エマルション塗布組成物、積層体、偏光板、画像表示装置を提供する。
【解決手段】水相及び油相を有する水中油（O/W）型エマルション塗布組成物であって、
（A）分子中に少なくとも３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する活性エネルギー線硬化性多官能（メタ）アクリレートと、
（B）有機溶剤とを油相に含み、該有機溶剤は１００ｇの水に対する溶解度が３０ｇ以下であり、かつ基材を膨潤又は溶解させる性質を持つ有機溶剤である水中油（O/W）型エマルション塗布組成物。 （もっと読む）

【課題】従来のようなプライマ塗装を施す必要がなく、樹脂ガラス用高分子基板とハードコート層との付着性が十分に高く、しかも樹脂ガラス用高分子基板の紫外線による劣化が十分に防止できる高度な耐候性を発揮できるとともに優れた耐擦傷性を発揮することが可能な樹脂ガラス用積層体、並びに、その樹脂ガラス用積層体を効率よく且つ確実に製造することが可能な樹脂ガラス用積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂ガラス用高分子基板と、前記樹脂ガラス用高分子基板上にアルミニウム、ケイ素、チタン、アルミニウム化合物、ケイ素化合物及びチタン化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の微粒子を付着してなる無機層と、前記無機層を介して前記樹脂ガラス用高分子基板に積層されたアルコキシシラン含有ハードコート層とを備えることを特徴とする樹脂ガラス用積層体。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低エネルギー、低コスト、高生産性で材料提供範囲の広い有機皮膜の成膜方法及び装置を提供することにあり、更に多層成膜が容易かつ高精度に
できる有機皮膜の成膜方法及び装置を提供することにある。
【解決手段】基板の表面に、有機皮膜を形成する成膜方法であって、皮膜材料を粒子状で含有する塗布液を前記表面に塗布する塗布ステップと、塗布液の乾燥を防止し、形成された塗布膜を安定化するステップ、更に、塗布膜を乾燥するステップ、粒子状の皮膜を溶融するステップ、溶融された皮膜を平坦化し、成膜するステップ、をそれぞれ有することを特徴とする成膜方法。 （もっと読む）

【課題】
低粘度のインキ液を用いて印刷用凸版を用いて印刷する際における上記のような印刷再現性の低下、特に精密部品に対するパターン印刷における再現性の低下やパターン膜の不均一の発生を解消する印刷用凸版及びその印刷用凸版の製造方法及び精密印刷製造物を提供する。
【解決手段】
凸状部を備えた電子材料の印刷用凸版であって、該凸版の凹状部に、該電子材料インキとの接触角が３０°〜９０°である撥液剤層が形成されていることを特徴とする電子材料の印刷用凸版を提供する。 （もっと読む）

【課題】可視領域での高い光透過性を有し、低抵抗で、かつ表面平滑性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子への適性を備えた透明導電膜を有する基材を提供する。
【解決手段】基材上に少なくとも１層の結晶化した透明導電膜を有し、該結晶化した透明導電膜の上に、金属酸化物、金属水酸化物及び金属炭酸塩から選ばれる少なくとも１種の金属化合物から構成されるナノ粒子を含有するコロイド分散物を含む塗布液をコーティングしたことを特徴とする透明導電膜を有する基材。 （もっと読む）

【課題】画像の修正を容易にしかも精度よく、更に非接触での修正が可能となる平版印刷版材料の画像修正方法、及び該画像修正方法を可能にする印刷機を提供する。
【解決手段】非感脂性表面に感脂性画像を有する平版印刷版上の特定の感脂性画像領域を選択的に非感脂化するための修正液をインクジェット方式により供給する。 （もっと読む）

【課題】
高屈折率で分散性、耐光性、耐候性、透明性に優れた超微粒子、該超微粒子が水あるいは有機溶媒に分散してなるゾル液、及びそれを含んだ分散安定性、塗布適性に優れた高屈折率硬化膜形成用塗布液を提供する。さらには樹脂あるいはガラスなどの透明基材などに塗布した際の耐光性、耐候性、透明性、耐擦傷性、耐磨耗性、耐熱性、帯電防止性等が良好な高屈折率硬化膜、およびそれを含んでなる光学部材を提供する。
【解決手段】
（１）屈折率が１．５〜２．８である、ルチル型酸化チタン超微粒子を核とし、特定の手法でケイ素酸化物からなる被覆層を設けた被覆型酸化物超微粒子またはそのゾル液、（２）硬化性バインダー成分、および（３）水または有機溶媒を含有してなる高屈折率硬化膜形成用塗布液、当該高屈折率硬化膜形成用塗布液を用いて形成した高屈折率硬化膜、およびそれを含んでなる光学部材。 （もっと読む）

【課題】無機又は有機微粒子を用いることなく、表面凹凸構造を有する表面凹凸シートを簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】少なくともペンタエリスリトールアクリレート系紫外線硬化型樹脂材料又はトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートアクリレート系紫外線硬化型樹脂材料を含む紫外線硬化型樹脂材料と、前記紫外線硬化型樹脂材料に対して非相溶性のポリプロピレングリコールとを混合し、塗工液を調製する第１工程と、前記塗工液を基材に塗布し、前記紫外線硬化型樹脂材料と前記ポリプロピレングリコールとが相分離した相分離構造を有する塗膜を作製する第２工程と、前記塗膜に硬化処理を施し、前記紫外線硬化型樹脂材料を硬化させて前記相分離構造を固定化した硬化膜を作製し、該硬化膜中から前記ポリプロピレングリコールを除去し、表面凹凸構造を有する成形体を形成する第３工程とを含んでいる表面凹凸シートの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】１液にて塗工後に２層に分かれる塗工液により、製造効率のよく、しかも各層間の密着性のよい反射防止積層体を提供する。
【解決手段】バインダー樹脂中に比重と屈折率の異なる複数種類の微粒子が分散されているコーティング組成物を用いて形成されたワンコートにて形成された塗膜を含む反射防止積層体であって、該コーティング組成物中の該バインダー樹脂の粘度が２００ｍＰａ・ｓ／２５℃以下であり、比重の差により、塗膜の上部乃至中間部に低屈折率微粒子が偏在して低屈折率層２となり、且つ中間部乃至下部に中乃至高屈折率微粒子が偏在して中乃至高屈折率層３となった反射防止積層体である。 （もっと読む）

【課題】分散均一性に優れる、少なくとも一種の、微粒子と溶剤を含む塗布組成物、該塗布組成物を用いて形成される層を有する塗工物、ハードコートフィルム、光学フィルム、反射防止フィルム、並びに、これらを有する偏光板、および画像表示装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも一種の、微粒子及び溶剤を含む塗布組成物であって、該微粒子のぬれ速度が最大になる溶剤の溶解度パラメータと、塗布組成物に含まれる溶剤の溶解度パラメータの差の絶対値が２[(J/cm³)^1/2]以下であることを特徴とする塗布組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた再現性を有する高精細パターンを可撓性基材上に安定して印刷する印刷方法を提供すること。
【解決手段】基体上に剥離層を形成してインキ剥離性基板を作製するインキ剥離性基板作製工程と、
前記剥離層上へインキ液膜を形成するインキ液膜形成工程と、
前記インキ液膜に、モールドを接触することにより、前記剥離層上に画像パターンおよび非画像パターンを形成する画像パターンおよび非画像パターン形成工程と、
前記画像パターンを可撓性被印刷基材に接触することにより、可撓性被印刷基材上に画像パターンを転写する画像パターン転写工程を有する印刷方法であって、
前記基体をガラス、半導体ウエハーまたは金属とし、前記モールドをガラス、半導体ウエハーまたは金属とすること。 （もっと読む）

【課題】塗布液の送液脈動を有効に抑制することにより、薄層で均一な塗布膜を得ることができる塗布方法、装置、及び光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】塗布液１４を供給するポケット１８と、ポケットと連通し塗布液を外部に吐出させるスロット２０と、を内部に備えるスロットダイ１２を使用して連続走行する支持体Ｗ上に塗布液を塗布する塗布方法である。ポケットの内部又はポケットの給液口にオリフィス７０を設ける。 （もっと読む）

【課題】高塗布厚のウェット塗布層を、短い時間で乾燥処理し、所望の塗膜を効率よく形成することのできる工程用シートを提供する。
【解決手段】基材の一方の面に、それに接して熱伝導体層を少なくとも有し、その反対側の面に塗工液を塗布・乾燥して塗膜を形成するための工程用シートであって、熱伝導率が０.２０〜０.３５Ｗ／ｍ・Ｋであることを特徴とする工程用シートである。 （もっと読む）

【課題】熱可塑性樹脂基材表面にゾル−ゲル法による有機−無機複合薄膜を製膜した、優れたバリア機能を有するバリア性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】熱可塑性樹脂基材表面に、液相析出法（ＬＰＤ法）により酸化ケイ素膜からなるアンダーコート層を形成する。液相析出法の反応液を、シリカゲル飽和ケイフッ化水素酸を用いて調製する。これにより、熱可塑性樹脂基材表面に密着性に優れたゾル−ゲル法による有機−無機複合薄膜を形成することができる。 （もっと読む）