【課題】プライミング処理の信頼性を保障しつつ洗浄液の使用量を一層削減すること。
【解決手段】スリットノズル７２の吐出口をプライミングローラ１４の頂部に対して平行に対向させ、スリットノズル７２に一定量のレジスト液Ｒを吐出させ、そのまま所定時間放置する。次に、プライミングローラ１４の回転を開始して、プライミングローラ１４の外周面上にレジスト液Ｒを巻き取り、その後もプライミングローラ１４の回転をそのまま継続させて、プライミングローラ１４に巻き取られた塗布液膜の自然乾燥を促し、所定時間経過後にプライミングローラ１４の回転を停止させて該塗布液膜を所定の待機用回転角位置に着かせ、該塗布液膜の自然乾燥を継続する。その後、この塗布液膜を洗浄によって除去する。 （もっと読む）

【課題】 基板を傾斜させて搬送する場合においても、基板の裏面のみに適切に処理液を塗布することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】 処理液吐出パイプ３０は、搬送ローラ１０により搬送される基板１００が塗布ローラ２０に到達する前に、基板１００の下方側で、かつ、搬送ローラ１０による基板１００の搬送方向の上流側から、塗布ローラ２０の表面に向けて処理液を吐出する。そして、搬送ローラ１０により搬送される基板１００の後端が塗布ローラ２０に到達する前に、処理液吐出パイプ３０からの処理液の吐出が停止される。 （もっと読む）

【課題】所期の特性を有する塗布膜を形成することができる加熱装置、塗布装置及び加熱方法を提供すること。
【解決手段】塗布膜を有する基板が配置される基板位置を前記塗布膜の膜厚方向に挟む第一加熱部及び第二加熱部と、前記基板位置と前記第一加熱部との第一距離、及び、前記基板位置と前記第二加熱部との第二距離、のうち少なくとも一方を調整する距離調整部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 塗工装置では紙走行の随伴空気流で供給される塗料の挙動が不安定となり、特にカーテンコーターの場合にはカーテン状の塗料膜が容易に揺らいでしまうから、随伴空気に対抗させる対抗空気を吹き付けて随伴空気の風圧を相殺しているが、下流側で周辺空気の滞留が生じ、蒸発した塗料が塗料供給口の周壁面に結露し、水滴が落下して紙の表面を損なうことになることに鑑み、周辺空気の滞留をなくして塗料の結露を生じさせない塗工装置の結露防止装置を提供する。
【解決手段】 前記対抗空気を吹き出すエアカット装置４の上部に、紙Ｐの走行方向Ｑの下流側を指向した吸込口6aが形成された吸引ダクト６を有する排気装置を配設し、周辺空気を吸引させる。このとき、塗料供給口3aから供給される塗料の挙動を乱さない程度の大きさに吸引力を調整する。 （もっと読む）

【課題】シート状部材の表面上への材料の塗布及び乾燥を効率よく行い、光学フィルム用基材及びフレキシブル基板の表面に高い生産効率で薄膜を形成できる薄膜塗布乾燥装置及び薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜塗布乾燥装置１は、筐体１０の内部に、貯留部１３内に貯留された液状又はペースト状の材料３の一部に進入して筐体１０の内部を第１の空間１６と第２の空間１７とに区画する隔壁１５を有する。搬送部（搬送ローラ１４）は、シート状部材２を第１の空間１６から貯留部１３内の材料３中に浸漬させた後、第２の空間１７にてシート状部材２を材料３から取り出すように、シート状部材２を搬送する。第１の空間１６内及び第２の空間１７内は、夫々第１及び第２の排気部材４により排気され、第２の空間１７に取り出されたシート状部材２は、表面に付着した材料３が第２の空間１７で乾燥される。 （もっと読む）

【課題】本発明の解決しようとする課題は、従来の減圧乾燥装置における問題を解消し、長期間に亘って安定した上蓋密閉動作を実現するとともに、異常発生時にも、装置に大きな損害を与えないで済む減圧乾燥装置を提案するものである。
【解決手段】基板上に塗布された塗膜中の溶媒を除去するために用いる減圧乾燥装置であって、本体と上蓋からなる真空容器と、該上蓋を上下に移動して真空容器を開閉する上蓋開閉機構と、真空容器中の空気を排気する排気装置と、真空容器中に基板を搬送する搬送機構と、真空容器中にあって基板を保持する基板保持機構とを有し、前記上蓋開閉機構は、サーボモーターによって駆動され、駆動系内に駆動トルク検出機構を有し、該サーボモーターは、予め設定した閉止トルク値を、前記駆動トルク検出機構が検出した時点で停止し、上蓋が閉止するようにしたことを特徴とする減圧乾燥装置 （もっと読む）

【課題】効率良く且つ十分に予備加熱を行うことが可能な熱交換方法及び熱交換装置を提供する。
【解決手段】乾燥炉１１から搬出された搬出車１２Ｂ及び乾燥炉１１へ搬入される搬入物としての搬入車１２Ａのそれぞれの搬出路１６、搬入路１３を同一の閉断面通路１７内に設けるとともに、閉断面通路１７を搬送方向に複数のエリアとして第１エリア３１、第２エリア３２、第３エリア３３、第４エリア３４に区分けし、これらの区分けされたエリア３１〜３４毎に搬出車１２Ｂ、搬入車１２Ａ間でエリア３１〜３４の雰囲気を介して熱交換させる。 （もっと読む）

【課題】基板上に、有機ＥＬ素子の機能層をはじめとして、塗付膜をウェット法で形成する際に、基板上全体に配される塗膜形状のバラツキを抑えて、塗膜形状を均一化する。
【解決手段】乾燥装置２０は、減圧容器２１の内部に設けられた支持台２２上に、インクが充填された基板１が支持台２２に載置される。基板１の上方には、整流部材５０が配置されている。整流部材５０には、溶剤蒸気を流通させるスリット５３が複数並設されている。整流部材５０の下面には、各スリット５３の入口を覆うように、板上の網目部材４０が配設されている。網目部材４０には、各スリット５３に対して貫通孔４１が複数個づつ開設されている。 （もっと読む）

【課題】塗布膜に乾燥ムラが形成されるのを抑えることができる減圧乾燥装置を提供する。
【解決手段】基板１上に塗布された塗布膜を減圧環境下で乾燥させる乾燥装置であって、基板が収容される基板収容部を有するチャンバ部１０と、基板収容部に配置され、基板を載置する基板載置面２０ａを有するプレート部２０と、基板をプレート部に載置する位置と、プレート部から所定間隔離れた位置に位置させる基板浮上装置３０と、を備えており、基板浮上装置は、基板を浮上させる気体を噴出する噴出部３１を有しており、この噴出部がプレート部に埋設され、プレート部の基板載置面と、気体が噴出する噴出部の噴出面とが同一高さ位置に設定されていることにより、プレート部の基板載置面が略一様な平坦面に形成される構成とする。 （もっと読む）

【課題】基板の大型化にも影響されることなく、塗布基板を生産するのに必要なタクトタイムを短縮させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板を載置するステージと、塗布工程において前記ステージに載置された基板に塗布液を吐出して基板上に塗布膜を形成する塗布ユニットと、乾燥工程において前記ステージに載置された基板に形成された塗布膜を乾燥させる乾燥ユニットと、を備えており、前記塗布工程における基板を載置するステージと、前記乾燥工程における基板を載置するステージとが共通のステージとした。 （もっと読む）

【課題】工数を削減できると共に、エネルギの使用量を削減できる塗装物の製造方法を提供すること。
【解決手段】被塗装物に水性の第１塗料を塗布する第１塗料塗布工程Ｓ１と、第１塗料による塗膜が形成された被塗装物に、水性の第２塗料を塗布する第２塗料塗布工程Ｓ３と、第２塗料により形成された塗膜を半乾燥させるフラッシュオフ工程Ｓ４と、第２塗料により形成された塗膜上にクリア塗料を塗布するクリア塗料塗布工程Ｓ５と、３つの塗膜を形成した後に、高温乾燥を行う乾燥工程Ｓ６と、を備える塗装物の生産方法において、フラッシュオフ工程Ｓ４は、４０度以下の温度の半乾燥を行う。 （もっと読む）

【課題】連続的に走行する帯状の支持体上に塗布液を塗布して形成した塗布膜を乾燥風で乾燥する際に、塗布膜の乾燥状態が端部と中央部とで異なることのない塗布膜の乾燥装置及びそれにより製造された光学フィルムを提供する。
【解決手段】塗布膜が形成された連続走行する帯状の支持体１４を搬入出させるための入口３２と出口３６とを有するケーシングと、支持体１４の塗布膜面の全面に乾燥風を吹き付ける吹付手段２８と、支持体１４の塗布膜面から３〜１００ｍｍの距離に、支持体１４に対して略平行に設けられた多孔性の吹出板６０と、支持体幅方向両端部に吹き付けられる乾燥風を減少させる、吹出板に対して略平行且つ支持体幅方向の両端部側に設けられた遮風板６２と、を有するようにする。 （もっと読む）

【課題】基材フィルム上に硬化樹脂層を備える積層フィルムであって、十分な表面硬度を備え、かつ、カールが少なく、しわの少ない積層フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】連続で搬送される基材フィルムの一方の面に電離放射線硬化型材料と溶媒を含む塗液を塗布し、基材フィルム上に塗膜を形成する工程と、連続で搬送される基材フィルム上の塗膜を乾燥する工程と、連続で搬送される基材フィルム上の塗膜に電離放射線を照射し硬化樹脂層を形成する工程とを順に備え、該塗膜に電離放射線を照射し硬化樹脂層を形成する工程において、連続で搬送される基材フィルムの塗膜面と反対側の面を温調ロールで支持した状態で塗膜面側から塗膜に対して電離放射線が照射され、且つ、前記基材フィルムが前記温調ロールとの抱き角が３０°以上９０°以下の範囲内で連続搬送されることを特徴とする積層フィルムの製造方法とした。 （もっと読む）

【課題】 広い設置スペースを必要とせず、生産性に優れる塗装乾燥装置を提供する。
【解決手段】 製品Ｐを上昇移動させながら連続的に予熱し乾燥させるべく、垂直方向に配置した予熱乾燥炉１０と、予熱を終えた製品Ｐを予熱乾燥炉１０から塗装のために引出す引出し機構２０と、引出し機構２０によって引き出された製品Ｐを塗装する塗装ロボット３０と、予熱乾燥装置１０に隣接して垂直方向に配置され、製品Ｐを下降移動させながら冷却する冷却炉４０を設けて構成する。 （もっと読む）

【課題】高精度に紫外線の入射角度の調整が可能なパターン形成装置を提供する。
【解決手段】ロール状に巻かれたウェブフィルムＷを巻き出す巻出し部２と、巻出し部２により巻き出されたウェブフィルムＷにノズル４１からインクを噴射して塗布することで機能性のパターンを形成するパターン形成部４と、形成されたパターンを乾燥する乾燥部５と、乾燥後のパターンに紫外線を照射する紫外線照射部６と、紫外線照射後のウェブフィルムＷをロール状に巻き取る巻取り部７と、を備え、紫外線照射部６には、紫外線の入射方向に対するウェブフィルムＷの紫外線照射面Ａの傾斜角を変更するガイドロール６３ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】気化した低分子量化合物がベースフィルム裏面及び塗布膜面に付着することによる汚れムラのない光学フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】連続搬送される帯状ベースフィルム１４上に、硬化性塗布液を塗布し、乾燥ゾーン３２で塗布層を加熱風で乾燥させた後、硬化ゾーン３６で該塗布層を硬化させる光学フィルムの製造方法において、乾燥ゾーン３２と硬化ゾーン３６との間に仕切を介して中間ゾーン３４を設けるとともに、中間ゾーン３４の温度を乾燥ゾーン３２の温度と硬化ゾーン３６の温度の何れよりも低くなるように制御し、且つ、結露抑制手段で乾燥ゾーン３２及び硬化ゾーン３６で発生する気化した低分子量化合物の結露を防止する。 （もっと読む）

【課題】減圧乾燥装置の処理時間が長くなっても、その処理能力が減圧乾燥装置の処理時間に律せられない被膜形成装置、被膜形成方法を提供する。
【解決手段】減圧乾燥装置が第１減圧乾燥装置３０−１、第２減圧乾燥装置３０−２の順に直列に配設され、塗布装置２０と第１減圧乾燥装置の間に、待機／通過ステーション５０が配設され、奇数枚目の基板は、塗布後に待機／通過ステーションにて待機させたのちに第２減圧乾燥装置へ搬送し、続く偶数枚目の基板は、塗布後に待機／通過ステーションを通過させて第１減圧乾燥装置へ搬送し、両基板に対して同一条件にて同時に減圧乾燥処理を行う。 （もっと読む）

【課題】 電解清浄ラインの水切り装置の水切り性を大幅に向上させた装置を提供する。
【解決手段】 電解清浄タンクから出て来た鋼板を両面から挟む水切りロールが設けられた水切り装置において、前記水切りロールの下流側に設けられたスリットノズルをもつエアーワイパーと、該エアーワイパーに接続された送風手段と、前記エアーワイパーの下流側に設けられたドライヤーとを備えたものである。前記エアーワイパーは鋼板の幅方向の両端部に設けられている。前記エアーワイパーの取付状態は、ノズル噴射方向が鋼板平面に対し垂直から上流側に０〜６０度傾斜している。前記エアーワイパーの取付状態は、ノズルスリットの長さ方向が、鋼板幅方向に対し、下流側に０〜６０度傾斜している。
前記送風手段はルーツブロアである。 （もっと読む）

【課題】省スペースであっても薄膜状のシートを充分に乾燥させることが可能な薄膜塗布シート製造機を提供する。
【解決手段】乾燥装置１５ａ，１５ｂ，１５ｃ内に、複数の搬送ローラーを搬送方向に並設すると共に、搬送ローラーの下方に複数のエアー噴出シャフト１８を搬送ローラーの配置と同じ方向になるように並設し、搬送ローラーの各々の外周面に長尺状のベースシートを掛け回すと共にベースシートをエアー噴出装置１８に掛け回すようにした状態で配置する。乾燥装置１５ａ，１５ｂ，１５ｃ内でベースシートと一体化された複合体を乾燥させながら搬送する際、複数の搬送ローラー間の間隔よりも複数のエアー噴出シャフト１８間の間隔を大きくとり、複合体を略三角形状に折り返して迂回するようにした状態で搬送することが可能なので、乾燥装置１５ａ，１５ｂ，１５ｃを小型化することができる。 （もっと読む）

【課題】基板を略水平に保持した状態で所定の処理を行う基板処理装置および基板処理方法において、遮断板を用いた処理技術と同様の遮断効果を得ながらも、より装置の小型化に適した技術を提供する。
【解決手段】基板Ｗの略中央上方にガス噴射ヘッド２００を設ける。ガス導入口２９１から導入された窒素ガスを、内部のバッファ空間ＢＦを経てスリット状の噴射口２９３から噴射する。これにより基板の上方には、上下方向に噴射方向が制限される一方、水平方向には略等方的な放射状のガス流が形成される。そのため、基板周囲のゴミＤやミストＭ等は外方向へ押し流されて基板Ｗに付着することがない。ガス噴射ヘッド２００は基板Ｗの直径より小さくすることができ、しかも基板表面から退避させたり回転させる必要がないので、装置を小型に構成することができる。 （もっと読む）