【課題】基板を回転させて基板表面に塗布液を展開させることにより基板上に塗膜を形成する回転塗布装置において、回転駆動用モーターからの発熱が基板チャックステージの表面温度を上昇させることを簡単な手段により防ぎ、均一に膜厚制御された塗膜を基板上に形成できる回転塗布装置を提供すること。
【解決手段】基板を載置する基板チャックステージが、接合フランジを介して回転駆動軸と結合し、回転駆動軸に回転力を供給する駆動用モーターが接続する構造の中で、駆動用モーターから基板チャックステージに至る回転駆動軸または接合フランジの熱流路が熱流路中に設けた低熱伝導率材により遮られる。 （もっと読む）

【課題】 表面平坦性に優れる被膜を形成可能な被膜形成装置および被膜形成方法を提供する。
【解決手段】 本実施形態の被膜形成装置１０は、回転台３０と、加熱器５０と、を備えている。この回転台３０は、上面に基板１１を載せるものである。この加熱器５０は、該回転台３０の上面３０ａと対向して配置される。この加熱器５０は、回転台３０の回転の中心部の発熱温度に比べて当該回転台３０の回転の外周部の発熱温度が高くなるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】スピンコーティング法において基板上に形成される塗布膜の膜厚について高い面内均一性が得られる技術を提供すること。
【解決手段】ウエハＷの面内の膜厚分布は、レジスト液の種類及びウエハＷの回転数の推移パターンを含む処理レシピに応じて決まる。そこで、予めＬＥＤ４１の照射を含まない処理レシピを用いてウエハＷにレジスト塗布処理を行い、このウエハＷの面内の膜厚分布を求める。このようにして、ウエハＷの面内の膜厚分布における凹部８を事前に把握しておき、その上で、この膜厚分布における凹部８の位置にＬＥＤ４１を照射してウエハＷ上の当該部位を局所的に加熱する。 （もっと読む）

【課題】金属混合液を用いて基板上に金属膜を適切且つ効率よく形成する。
【解決手段】金属膜形成システム１は、ウェハＷを搬入出する搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に前処理液を塗布し、ウェハＷ上に下地膜を形成する前処理ステーション３と、下地膜が形成されたウェハＷ上に金属混合液を塗布し、ウェハＷ上に金属膜を形成する主処理ステーション４と、搬入出ステーション２と前処理ステーション３とを接続する第１のロードロックユニット１０と、前処理ステーション３と主処理ステーション４とを接続する第２のロードロックユニット１３とを有している。前処理ステーション３、主処理ステーション４、第１のロードロックユニット１０及び第２のロードロックユニット１３は、それぞれ内部を不活性ガスの大気圧雰囲気又は減圧雰囲気に切り替え可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】高い膜厚均一性を有するカラーレジスト膜を基板上に形成することが可能なレジスト塗布装置およびレジスト膜形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態によるレジスト塗布装置は、基板の中央部における温度よりも基板の周辺部における温度が高くなるように基板の温度を調整するよう構成された基板温度調整部と、中央部よりも周辺部において温度が高くなるように基板温度調整部により温度調整された基板上にカラーレジスト液を供給するカラーレジスト液供給部と、カラーレジスト液が供給された基板を回転する基板回転部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】スピンカップ内周面の温度調節を容易に行うことができるウエハ洗浄乾燥装置のスピンカップを提供することを目的とする。
【解決手段】ウエハを載せるチャックテーブルの周囲に配置され、ウエハ洗浄液の飛散や流出を防止するように設けられるウエハ洗浄乾燥装置のスピンカップであって、
前記スピンカップは、内側カップと外側カップからなる２重構造で構成され、
前記内側カップと外側カップとの間には隙間が形成されて、該隙間に流体が流通可能なように構成した。 （もっと読む）

【課題】ノズルへ供給される処理液を一定温度に維持できる処理液供給ユニットと、これを利用する基板処理装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明による基板処理装置及び方法は、ノズルアームと待機ポートとの間の熱伝達、そしてノズルアームとノズル移動ユニットとの間の熱伝達を通じて、待機位置での待機の時、工程位置での工程進行の時、待機位置と工程位置との間で移動する時、にノズルアームに内蔵された処理液配管内の処理液の温度を調節することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板上に供給されるレジスト液中の異物を低減し、レジスト液塗布後の基板の欠陥を低減する。
【解決手段】レジスト液供給装置２００は、レジスト液を貯留するレジスト液供給源２０１を有している。レジスト液供給源２０１は、供給管２０２を介して塗布ノズル１４２に接続されている。供給管２０２のレジスト液供給源２０１側には、供給管２０２内のレジスト液を加熱するヒータ２１０が設けられている。ヒータ２１０は、レジスト液を２３℃〜５０℃に加熱することができる。供給管２０２の塗布ノズル１４２側には、供給管２０２内のレジスト液を冷却する温調配管２１４が設けられている。温調配管２１４は、レジスト液を２３℃に冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】ストリエーションを発生させずに基板上に塗布液を塗布できる塗布装置を提供する。
【解決手段】塗布チャンバ１１と、塗布チャンバ１１内に設けられ、基板Ｓが載置される回転台１３と、前記回転台１３に載置される基板Ｓに塗布液を滴下するための塗布液用ノズル１４とを備え、前記塗布液用ノズル１４から、回転台１３により回転する基板Ｓの塗布面に塗布液を滴下して、遠心力により前記基板Ｓ上の前記塗布液を外周方向に伸展させて前記塗布面に塗布液を塗布する塗布装置１であって、前記塗布チャンバ１１には、塗布チャンバ１１内を、前記塗布液を構成する溶媒のうち少なくとも一つの溶媒の飽和蒸気で満たす雰囲気形成手段１７を備えたことを特徴とする塗布装置。 （もっと読む）

【課題】ヒータを簡単な構造とすることができ、均一なガラス層を形成することが可能な塗布装置を提供する。
【解決手段】液状の常温硬化ガラスＧを回転するガラス基板Ｂ上に滴下することで、均一なガラス層を形成する塗布装置１０において、ガラス基板Ｂを搭載して回転するターンテーブル１２と、ターンテーブル１２の下方からターンテーブル１２の下面を加熱するヒータ１５と、ヒータ１５の周囲を囲う熱防護部１６とを備えた。この熱防護部１６は、ヒータ１５の周囲を囲う円筒形状の壁部１６ａと、壁部１６ａの下部に、内側に突出した形成された環状凸部１６ｂとを備えている。熱防護部１６は、壁部１６ａがターンテーブル１２の下面の外周縁部に配設されていることで、熱防護部１６とターンテーブル１２とが一体に形成されている。 （もっと読む）

【課題】１Ｐａ・ｓオーダーの粘度の高いレジストをスピンコートした場合、顕著に観察されるレジスト膜のレジストエッジビードの課題について解決するためになされたものであり、スピンコート工程中のレジスト膜の外周のみの粘度を低下させ、レジストエッジビードを発生させることのないスピンコーター用チャック及びそれを用いたスピンコート方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板を真空吸着によって密着させ、レジストを回転塗布する際に用いるスピンコーター用チャックであって、前記スピンコーター用チャックの外周部にヒーターを備えたことを特徴とするスピンコーター用チャック及びそれを用いたスピンコート方法である。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上及び塗布膜厚の均一性の向上を図れるようにした基板処理装置を提供すること。
【解決手段】被処理基板であるウエハＷを回転可能に保持するスピンチャック５０と、スピンチャックによって保持されたウエハの表面にレジスト液を供給する塗布液供給ノズル５２と、スピンチャックと塗布液供給ノズルを収容する処理室４０と、ウエハに塗布液を供給する前のウエハを所定の温度に冷却する冷却プレート５６と、塗布液が塗布されたウエハを所定温度に加熱する加熱プレート５８と、処理室、冷却プレート及び加熱プレートとの間でウエハを搬送する搬送手段と、を具備する基板処理装置において、処理室、冷却プレート及び加熱プレートを外気と区画し、少なくとも処理室に、空気より動粘性係数の高いガス（Ｈｅガス）の供給源６８ｂを有するガス供給機構６０を接続して、処理室内をＨｅガスの所定濃度に維持する。 （もっと読む）

【課題】膜が均質で光学特性の優れた高分子薄膜を低コストで形成する。
【解決手段】ノズル３０とターゲット基板６０との間に直流電源５０で電圧を印加し、高分子材料を溶媒に分散させた高分子液２０をノズル３０から吐出させる。吐出物７０はターゲット基板６０に到達して高分子膜が形成される。ここで、ターゲット基板６０上で高分子液膜７０がレベリングを生じるように、高分子液２０には高沸点溶媒が用いられ、高分子材料の濃度が調整されている。 （もっと読む）

【課題】優れた生産性で自動操作によりピストンリングの側面に塗装を行う。
【解決手段】水平な公転軸(7c)により鉛直面内で回転可能であり、その面上で外周部(7b)に回転可能な複数の保持部(7a)を有するターンテーブル(7)と、水平な自転軸(3a)により単独で回転可能に保持部(7a)に装着されかつピストンリング(1)を支持する取付台(3)と、取付台(3)に支持されかつ回転するピストンリング(1)の両側面(1a, 1b)を加熱する加熱装置(12)と、ピストンリング(1)の両側面(1a, 1b)に塗料(5)を塗布する塗装装置(13)とをピストンリング側面塗装装置に設ける。水平な自転軸(3a)を回転させピストンリング(1)を自転して、ピストンリング(1)の側面(1a, 1b)を加熱すると共に、加熱された側面(1a, 1b)にほぼ同時に塗料(5)を塗布するので、側面(1a, 1b)への加熱と塗装とを連続的かつ自動的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】切欠き部を有するウェハーをホットプレートで加熱しながらスプレーコートするレジスト塗布装置において、ウェハー面内の温度ムラが発生することを防ぐ。
【解決手段】本発明のレジスト塗布装置は、ウェハー２を吸引保持し、ウェハー２を加熱しながら回転させる、ウエハー２の切欠き部より小さな半径の回転ホットプレート３と、回転ホットプレート３の周囲に配置した固定ホットプレート４と、回転するウェハー２上にレジストをウェハー２の半径方向に直進移動もしくは円弧移動しながら噴霧するスプレーノズル１を備えている。スプレーノズル１からウェハー２の切欠き部に噴霧されたレジストは固定ホットプレート４に設けられたレジスト排出溝８に落ちて排出され、ホットプレートへのレジストの付着を防ぐ。 （もっと読む）

【課題】被塗布面上の異物に起因する膜厚ムラを十分に低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。
【解決手段】被塗布物９が載置され、前記被塗布物９と一体化された状態で回転されるテーブル２と、前記被塗布物９に塗布液を供給する塗布液供給手段４と、前記テーブルを回転させる回転手段５と、塗布液供給手段４内の塗布液を加熱する塗布液加熱手段６と、前記被塗布物９を加熱する被塗布物加熱手段８とを備えているスピンコート装置とする。 （もっと読む）

【課題】被塗布面上の異物に起因する膜厚ムラを十分に低減させることができるスピンコート装置およびスピンコート方法を提供する。
【解決手段】被塗布物９が載置され、前記被塗布物９と一体化された状態で回転されるテーブル２と、前記被塗布物９に塗布液を供給する塗布液供給手段４と、前記テーブルを回転させる回転手段５と、前記被塗布物９を冷却する被塗布物冷却手段８とを備えているスピンコート装置とする。 （もっと読む）

【課題】フォトレジストの粘度の変動を抑制し、塗膜の膜厚のバラツキを従来に比較し小さなものにするスリットアンドスピンコータを提供する。カラーフィルタの製造方法、並びに製造方法により製造されたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】１）少なくともガラス基板を載置・固定するステージ１０と、ガラス基板上にフォトレジストを供給するスリットノズル６０を備え、
２）フォトレジストの温度を制御する温調機構１、ステージの温度を制御する温調機構２、ステージ上面に制御された温度の空気を供給する空調機構３を具備する。ステージ上のガラス基板の温度の制御が±０．３℃である。 （もっと読む）

【課題】工程単価の増加を防ぎ、且つ塗布不良発生を減らすことが可能な半導体装置製造装置を提供する。
【解決手段】塗布薬液を吐出する薬液ノズル１０と、塗布薬液を貯蔵し、薬液ノズル１０に塗布薬液を供給する薬液貯蔵部２０と、薬液貯蔵部２０で塗布薬液を貯蔵している時間及び最後に塗布薬液を吐出してからの時間を測定する時間測定装置３２と、時間測定装置３２から測定結果からダミーディスペンスの間隔と吐出量を制御する制御コンピュータ３０と、制御コンピュータ３０からダミーディスペンスの間隔と吐出量を受信し、塗布薬液の吐出を制御する薬液吐出制御バルブ２３を備える。 （もっと読む）

【課題】 液体材料を吐出する際に、液体材料の劣化を防ぎつつ、当該液体材料の流動性を確保することが可能な液滴吐出装置を提供すること。
【解決手段】 液体材料がチューブ１２内で自然冷却される時間を予め算出しておき、当該時間に応じてヒータ６０での加熱温度を制御する。すなわち、算出された時間が短い場合には、自然冷却による温度低下が小さいものとして加熱温度を低く設定して加熱し、算出された時間が長い場合には、自然冷却による温度低下が大きいものとして加熱温度は高く設定して加熱する。これにより、液体材料を常時加熱し続けなくてもヘッドに到達した液体材料の温度を高くすることができ、液体材料の粘度を高い状態にすることができるので、液体材料の劣化を防ぎつつ、当該液体材料の流動性を確保することが可能となる。 （もっと読む）