【課題】耐久性ないしは耐環境性に優れるとともに良好な光学特性を備えた赤外用多層膜を提供する。
【解決手段】赤外光学用基板２、１２に形成される赤外用多層膜３、１３。この赤外用多層膜３、１３は、前記基板側から、屈折率の低い低屈折層４、１４、この低屈折層４、１４よりも屈折率の高い中間屈折層５、１５、この中間屈折層５、１５よりも屈折率の高い高屈折層６、１６、中間屈折層７、１７、低屈折層８、１８、及び非酸化物材料からなる保護層９、１９がこの順に積層された積層体からなっている。前記低屈折層４、１４、８、１８はフッ化物膜からなり、前記中間屈折層５、１５、７、１７はＺｎＳ膜又はＺｎＳｅ膜からなり、且つ前記高屈折層６、１６はＧｅ膜からなる。
（もっと読む）

【課題】大面積においてもロスが小さく、また、導電フィルムの色が問題とならず、かつ、屈曲に強く、ＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性も高い、フレキシブルな透明電極に好適な導電フィルムを提供する。
【解決手段】透明フィルム基材上に、該透明フィルム基材に近い側から、銀を含有する導電性パターンと、その上に導電性高分子化合物からなる透明導電膜とが隣接して設けられている透明導電フィルムにおいて、該導電性パターンが該透明フィルム基材上にハロゲン化銀粒子を含有する層を設け、かつ、所望するパターンで露光、現像処理することにより、所望するパターンの金属銀部を形成し、さらに物理現像処理することにより形成されたことを特徴とする透明導電フィルム。 （もっと読む）

【課題】乾燥風による乾燥ムラがなく、透明性に優れる電磁波遮蔽フィルムの製造方法、及び該製造方法で製造された電磁波遮蔽フィルムを提供すること。
【解決手段】支持体上に金属塩微粒子を含有する塗布液を均一に塗布、乾燥し、その塗布層をメッシュ露光、現像することによりメッシュ状金属部を形成し、更に物理現像及び／またはメッキすることにより、メッシュ状に金属部を形成し、導電性を与えることにより電磁波遮蔽機能を付与する電磁波遮蔽フィルムの製造方法において、全乾燥ゾーンの入り口から５０〜７５％の領域において塗膜と乾燥ノズルの間隙を１００〜２５０ｍｍ、乾燥風の圧力を１〜１０Ｐａ、乾燥風の温度を８０〜１００℃として乾燥することを特徴とする電磁波遮蔽フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、所定のパターンを有するマスクを介して連続して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成した、異物付着がなく、安定した導電性を有する電磁波シールドフィルムの製造方法と電磁波シールドフィルム及びこの電磁波シールドフィルムを使用したプラズマディスプレイパネルの提供。
【解決手段】支持体の上に感光性層を有する感光材料を露光した後、少なくとも化学現像処理工程、定着処理工程、物理現像処理工程をこの順で有する製造装置を用いて、導電性金属部と光透過性部とを有する光透過性電磁波シールドフィルムの製造方法において、前記化学現像処理工程から少なくとも前記物理現像処理工程までを乾燥させることなく処理することを特徴とする光透過性電磁波シールドフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】光透過における写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品を提供することを課題とする。
【解決手段】基材上に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を各１層以上交互に積層した薄膜積層体であり、且つ、前記光学薄膜積層体が光透過における写像性を有することを特徴とする光学薄膜積層体とする。また、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度（ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて８５％以上であることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜積層体とする。 （もっと読む）

【課題】高い導電性と光透過性を有し、かつ、干渉ムラとモアレを低減し、さらには耐候性、カール品質、密着性が良好な透光性導電膜、その製造方法及びその透光性導電膜を用いた透光性電磁波遮蔽フィルターを提供することにある。
【解決手段】透明支持体上に銀塩含有層を有する感光材料を、露光、現像処理することにより金属銀部及び透光性部を形成し、さらに前記金属銀部をメッキ処理することにより導電性を増幅して製造する透光性導電膜の製造方法において、銀塩を含有しバインダー主成分がゼラチンである水系塗布液を透明支持体上に塗設し、セットせずに乾燥固定化して前記銀塩含有層を形成することを特徴とする透光性導電膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 表面へイズが高い（１２％以上３５％以下程度）防眩ハードコート層に、乾式成膜法である真空成膜法を用いて無機の低屈折率層を成膜することで、精度の高い反射防止積層体を安価で大量に生産することを課題とする。
【解決手段】 屈折率が１．３６以上１．４３以下であるＬｉＦ、ＭｇＦ_２、ＣａＦ_２、ＢａＦ_２、ＡｌＦ_３のいずれか、もしくは、それらの混合材料を用いて低屈折率層を真空成膜法により形成し、物理膜厚を８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下とする。 （もっと読む）

表面を有する可撓性基材、及び相互に対して離隔した関係で前記表面に付与された複数の分離保護板を含む保護材料。前記保護板は高熱の付与により大きく膨張する材料を含み断熱、難燃性層を形成する。
（もっと読む）

【課題】基材に反射防止用の被膜を形成するにあたり、少ない層数で良好な反射防止性能を発揮することができて製造効率を向上することができる反射防止基材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、紫外線硬化性樹脂と、この紫外線硬化性樹脂よりも比重が小さく且つこの紫外線硬化性樹脂の硬化物４よりも屈折率が低い屈折率１．０〜１．５の低屈折率粒子３と、溶剤とを含有するコーティング材組成物１を基材２に塗布して湿潤塗膜５を形成する工程と、前記湿潤塗膜５を加熱して溶剤を蒸発させることにより乾燥塗膜６を形成する工程と、前記乾燥塗膜６に紫外線を照射して紫外線硬化性樹脂を硬化させることにより硬化被膜７を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】高い電磁波シールド能を維持しながら、画像の鮮鋭性、色調が良好でモアレが少なく、金属格子の密着性が高く、補力時間が短く、塗布性が良好な電磁波シールドフィルム及びこれを用いたプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【解決手段】支持体上にハロゲン化銀及びバインダーを含有する感光性層を有するハロゲン化銀感光材料をパターン露光後、白黒現像及び補力処理を行って作製し、金属を格子状に配置した電磁波シールドフィルムにおいて、金属格子の線幅が３〜２０μｍ、開口率が８０〜９５％、かつ、金属格子間距離の標準偏差が０．１〜１．３であることを特徴とする電磁波シールドフィルム。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽性能に優れ、且つ高い透明性を有し、更に導電性金属パターンの密着性が向上した透明電磁波遮蔽フィルム、及びその作製方法を提供すること。
【解決手段】支持体上にめっき処理により導電性金属パターンを形成してなる透明電磁波遮蔽フィルムにおいて、めっき処理前の金属パターン部の反射率が０．２〜０．５５であることを特徴とする透明電磁波遮蔽フィルム。 （もっと読む）

【課題】構造制御の可能な有機無機層状ペロブスカイト化合物薄膜の作製方法を提供すること。
【解決手段】少なくとも、ＩＶ族元素又は遷移金属のハロゲン化物からなる第１の無機ハライドとアルカリ金属のハロゲン化物からなる１種以上の第２の無機ハライドとを溶解させた水相上に、少なくとも有機アンモニウム塩を溶解させた有機溶媒を展開し、生成した有機無機層状ペロブスカイトの単分子膜を基板上に移し取る。これにより、１種以上の有機アンモニウムイオンからなる１層以上の有機層とＩＶ族元素又は遷移金属のハロゲン化物イオンからなる無機層とが交互に積層されてなる有機無機層状ペロブスカイト化合物薄膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】広い波長範囲において十分に高度な反射防止性能を発揮することが可能な反射防止膜を提供すること。
【解決手段】光学基板と媒質との界面における光線の反射を低減させるために該光学基板の光学面上に形成された反射防止膜であって、
隣接する層同士の屈折率が異なるようにして８層以上の層が積層されてなり、前記媒質と接する最表層の屈折率ｎ_１が設計中心波長λ_０において１．３０以下であり、且つ、波長範囲がλ_０±１２０ｎｍの範囲にある入射光に対する反射率Ｒが、光線入射角０〜１０度の範囲において０．１％以下であることを特徴とする反射防止膜。 （もっと読む）

本発明は、特殊な構造を有する銀錯体化合物と有機酸金属塩を利用して、少なくとも１層以上の複合多層膜から構成された透明導電膜を製造する方法に関する。本発明の透明導電膜の製造方法は、溶液工程を通じて、１）透明基材上に導電層の透明度を向上させる透明層を形成する段階と、２）伝導度を付与する導電層を形成する段階と、を含むことを特徴とし、３）導電膜の経時変化を防ぐための保護層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする。本発明によると、工程が簡単で、且つ伝導度と透過率に優れた大面積の透明導電膜を容易に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】十分な耐熱性を有し、導電性も高く、マイグレーションの起きにくい導電性材料を製造するための導電性材料前駆体を提供する。
【解決手段】耐熱性支持体上に少なくとも物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層をこの順に有する導電性材料前駆体において、該物理現像核層と、該耐熱性支持体と該物理現像核層との間の下引き層の少なくとも一方がポリイミドおよび／またはポリアミドイミドを含有し、該物理現像核層が物理現像核として金属硫化物を含有することを特徴とする導電性材料前駆体を用いる。 （もっと読む）

【課題】波長270〜600 nmで透過帯を有し、波長700〜2,500 nmで不透過帯を有する赤外カットフィルター及びそれを用いた医療用内視鏡を提供すること。
【解決手段】基板上に形成された長波長帯域カット多層膜であって、最も長波長側の不透過帯域中心波長λに対して、λ/2〜λ/7の連続した波長域に透過帯域を有することを特徴とする長波長帯域カット多層膜。 （もっと読む）

【課題】電磁波遮蔽性能に優れ、かつ高い透明性を有し、メッシュパターンのスポット欠陥が少なく、メッシュの均一性に優れた電磁波シールドフィルム及びその製造方法、さらに長尺連続ロール生産においても、メッシュパターンのめっき層はがれが起こりにくく、経時での変色も少なく安定性に優れた電磁波シールドフィルム及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】透明支持体を有するハロゲン化銀感光材料を露光し、現像処理を施すことによって金属銀メッシュ部を形成し、さらに該金属銀メッシュ部に銅めっき処理を施して高導電性メッシュ部を形成する電磁波シールドフィルムの製造方法において、該銅めっき処理に用いる硫酸銅が、鉄（Ｆｅ）含有率が１００ｐｐｍ以下の精製硫酸銅であることを特徴とする電磁波シールドフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い光透過性と導電性（電磁波シールド能）の性能を有し、更に銀塩メッシュ法の課題である金属メッシュ線と基材または感光材料との密着性の改良された透明電磁波シールドフィルム及びそれ用いたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】支持体上に感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有する層を設けて成る感光材料をメッシュパターン露光後、化学現像処理し、その後、物理現像処理し、更にその後めっき処理することにより導電性金属メッシュを形成する工程を経て製造される透明電磁波遮断フィルムにおいて、該物理現像処理で生成される現像銀量が該化学現像処理で生成される現像銀量の５倍以上５０倍以下であることを特徴とする透明電磁波遮断フィルム及びプラズマディスプレイパネル。 （もっと読む）

【課題】クロム酸塩処理及びリン酸塩処理に匹敵する付着性、加工性、耐食性を持つ無公害型の表面処理組成物を提供すること。
【解決手段】ポリエポキシ化合物（ａ）とアミン化合物（ｂ）との反応によって得られるアミノ基を有するエポキシプレポリマー（Ｉ）と、カルボキシル基含有ジオール（ｃ）を含む１分子中に活性水素基を２つ以上含有する化合物（ｄ）とポリイソシアネート化合物（ｅ）との反応により得られる末端にイソシアネート基を有するウレタンプレポリマー（ＩＩ）との反応によって得られるポリウレタン樹脂の水性分散体（Ａ）、シリカ粒子（Ｂ）、並びに金属弗化水素酸、金属弗化水素酸塩、バナジウム化合物、モリブデン化合物及びタングステン化合物から選ばれる少なくとも１種の化合物（Ｃ）、を含有することを特徴とする金属表面処理組成物。 （もっと読む）

【課題】ハロゲンを含有する塩酢ビ系の樹脂を使用しなくとも、高温条件や冷熱サイクル条件下でも、反発力によって遮光層と粘着剤層との剥離が生じにくい遮光性粘着テープを提供する。
【解決手段】樹脂フィルム１、遮光層２および粘着剤層４が積層され、樹脂フィルムと粘着剤層との間に遮光層を有する遮光性粘着テープであって、遮光層のハロゲン含有量が０．３質量％以下であり、遮光層がインキからなる層であり、当該インキが４０μｍの厚みとしたシート状での弾性率が０．３〜５ＧＰａで、引張強度１０ＭＰａでの引張方向への伸び率が０．５〜１０％である遮光性粘着テープであり、高温条件や冷熱サイクル条件下でも、反発力によるインキ層からの粘着剤の剥がれを生じにくい遮光性粘着テープ。 （もっと読む）