【課題】 耐久性の高い画像表示装置用ユニットを提供する。
【解決手段】 本発明は、光学フィルム積層体と画像表示装置用パネルとが接着剤層を介して積層された画像表示装置用ユニットを提供する。光学フィルム積層体は、偏光子と、偏光子の一方の面のみに積層された偏光子保護機能層とを含む。接着剤層は、偏光子の偏光子保護機能層が接する面とは反対側の面に積層されている。画像表示装置用パネルは、接着剤層の偏光子が接する面とは反対側の面に積層されている。接着剤層は、ガラス転移温度が５０℃以上９０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】高い赤外線反射性と高い可視光透過性を持つ積層型の赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材上に第１層を形成するための酸化チタンを含有し、さらにチタン系架橋剤を含む第１層形成用溶液、及び、その第１層形成用溶液上に第１層よりも屈折率が小さい第２層を形成するための化合物を含有し、さらに前記チタン系架橋剤と反応する高分子化合物を含む第２層形成用溶液、の少なくとも２種の溶液を準備する第１工程と、第１層形成用溶液及び第２層形成用溶液を重ねると共に、両溶液の界面に第１層形成用溶液が含むチタン系架橋剤と第２層形成用溶液が含む高分子化合物との反応生成物を生成させる第２工程と、第２工程で重ねられた両溶液を光透過性基材上に塗布する第３工程と、光透過性基材上に塗布された両溶液及び反応生成物を乾燥する第４工程とを有する赤外線反射フィルムの製造方法により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高い光学発現性を有し、支持体との剥離性が良く、液晶表示装置に組み込んだときの正面コントラストが高いセルロースアシレート積層フィルムの提供。
【解決手段】少なくとも１層の下記式（２）を満たすセルロースアシレートを含むスキンＢ層１２２ａと、下記式（１）を満たすセルロースアシレートを含み且つ前記スキンＢ層よりも厚いコア層１２０ａとを含み、前記コア層および前記スキンＢ層に屈折率異方性を有するレターデーション調整剤を含み、フィルムの一方の表面から測定した屈折率異方性ともう一方の表面から測定した屈折率異方性の差が０．０００５以下であることを特徴とするセルロースアシレート積層フィルム。式（１）２．００＜Ｚ１≦２．５０（式（１）中、Ｚ１はコア層のセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。）式（２）２．５０≦Ｚ２＜３．００（式（２）中、Ｚ２はスキンＢ層のセルロースアシレートの総アシル置換度を表す。） （もっと読む）

【課題】切断時における厚さ方向の変形や、切断線の非直線化を極力抑制して、仕上がりが良好で且つ形状的にも見栄えのよい光学シート、及び光学シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、基材層１２と、基材層１２の一方の面に沿って並列する複数の光透過部１６及び光透過部１６の間に形成された光吸収部１７を有し且つ基材層１２の一方の面側に積層された光学機能層１３と、基材層１２の他方の面側に積層された保護層１１と、光学機能層１３の他方の面側に積層された粘着剤層１４と、粘着剤層１４を剥離可能に被覆する被覆層１５と、が一体的に積層されてなる平面視において矩形状に形成される光学シート１であって、被覆層１５の側の幅が最も小さく、且つ、保護層１１の側に向かって漸次幅が大きくなるように、厚さ方向Ｄ３の断面において略台形状に形成されている光学シート１である。 （もっと読む）

【課題】キャリア付き薄銅箔であって、ビルドアップ配線板のビア形成でレーザー穴あけ加工を行う際に、レーザー吸収層及び薄銅の飛散、銅の盛り上がりが生成することがない、薄銅箔、および該薄銅箔を用いたプリント配線板、多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】キャリア箔１、剥離層２、レーザー吸収層５、薄銅箔４がこの順に形成されているレーザー吸収層付き銅箔であって、前記キャリア箔と銅箔とを剥離した時の前記レーザー吸収層表面の表面粗さＲｚ＝２．０μｍ以下、明度Ｌ＝３０、色度ａ＝７、色度ｂ＝３に対し、色差ΔＥ＝６以下であるレーザー吸収層付き銅箔である。前記レーザー吸収層は、波長９〜１２μｍの光に対して、消光係数ｋ＝２５以上である２種以上の元素で構成され、かつ前記２種以上の金属元素の内の１種は少なくとも原子量５０〜７０の中の金属元素であり、該金属元素と他の元素との単位面積あたりの原子数比＝１〜５である。 （もっと読む）

【課題】クレーズ形成用ポリプロピレンフィルム及びそのクレーズ形成品を提供すること。
【解決手段】ポリプロピレンを主成分とするインフレーション成形法、またはＴダイ成形法による無延伸フィルムであって、結晶核剤としてβ晶核剤を含有することを特長とするクレーズ形成用フィルム。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、シワ・欠点のない金属積層板を作製するための残溶媒量の少ない接着剤付きポリイミドフィルムの製造方法を提供することにある。
【解決手段】
耐熱性ポリイミドフィルムにポリアミック酸および溶媒を含有する溶液を塗布した後、前記溶媒の沸点以上の温度で処理する接着剤付きポリイミドフィルムの製造方法であって、前記処理の工程が耐熱性ポリイミドフィルムを加熱ロールに０．２〜１０秒接触させる工程を有することを特徴とする接着剤付きポリイミドフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】粗化処理された絶縁フィルムの表面粗さを小さくすることができ、更に絶縁フィルムによる絶縁性に優れている積層構造体を得ることができる積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る積層体１の製造方法は、積層フィルム１０を絶縁フィルム１１の第２の表面１１ｂ側から積層対象部材２１に積層する積層工程と、基材フィルム１２を絶縁フィルム１１から剥がさずに、絶縁フィルム１１をメチルエチルケトンに２３℃で２４時間浸漬した後のゲル分率が２０重量％以上になるまで加熱処理する第１の加熱工程と、基材フィルム１１を絶縁フィルム１１Ａから剥がし、絶縁フィルム１１Ａの第１の表面１１ａを露出させる剥離工程と、絶縁フィルム１１Ｃの第１の表面１１ａを粗化処理する粗化工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】ウエハ表面の段差にかかる研削応力を分散させ、ウエハにおけるディンプルやクラックの発生を抑制することができる粘着シートの基材フィルムを提供する。
【解決手段】（Ａ）厚みが１００〜４００μｍであり、２３℃における貯蔵弾性率が０．２〜６．０ＭＰａである段差吸収層と、（Ｂ）熱可塑性樹脂からなる層とから構成された基材フィルム２２であって、複数のデバイスがストリートによって区画されて形成されたデバイス領域と、該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とが表面に形成された該ウエハの表面側を研削装置の保持テーブルにて保持し、該ウエハの裏面のうち該デバイス領域に相当する領域１６を研削して凹部を形成し、該凹部の外周側にリング状補強部１７を形成する裏面研削工程で、該ウエハ表面に貼付される粘着シートに用いられる。 （もっと読む）

【課題】高温高湿の環境下から低温低湿の環境下へ外的環境が急激に変化しても、白化を抑制でき、かつ粘着性に優れた粘着剤組成物、および該粘着剤組成物を用いた積層体の提供。
【解決手段】水酸基含有重合性単量体を５〜４０質量％含む単量体成分（ａ）を重合したポリマー（Ａ）と、イソプロピルアクリルアミドを９０質量％超含む単量体成分（ｂ）を重合したポリマー（Ｂ）と、イソシアネート（Ｃ）とを含有し、前記ポリマー（Ａ）１００質量部に対して、ポリマー（Ｂ）の含有量が２質量部以上であり、イソシアネート（Ｃ）の含有量が０．２〜１．４質量部である粘着剤組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】保護層の表面の凹凸が粘着層に転写されることを大幅に抑制できる積層シート、光学シート、積層シートの製造方法、光学シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ロール状に巻回され、裁断して光学シート１００となる積層シート１０は、光学作用を有する光学層１１と、光学層１１の一方の面に設けられ、光学層１１を保護する保護層１４と、光学層１１の他方の面に設けられる粘着層１５と、粘着層１５の光学層１１とは反対側の面に設けられる粘着基材層１６とを一体に積層して備え、保護層１４の表面の最大高さＲｍａｘ（ＪＩＳ Ｂ ０６０１：１９８２）は、Ｒｍａｘ≦０．８５μｍを満たすものとした。 （もっと読む）

【課題】導電層を損傷させることなく転写できる導電性転写シートと、該導電性転写シートを用いて転写された導電層を有する導電性積層体の提供。
【解決手段】剥離性表面を有する剥離性基材１８の前記剥離性表面上に、転写層１５が形成された転写シート１であって、転写層１５が、ポリチオフェン系導電剤または銀ナノワイヤ系導電剤を有し、剥離性表面に接するように位置する導電層１２と、該導電層１２上に形成された中間層１３と、該中間層１３上に形成された接着層１４とからなり、中間層１３は、接着層１４よりも、破断伸度が小さく、破断強度が大きくなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、製造工程を簡略化して製造単価を低め、また気孔度が高く、表面粗さが優秀で、製品特性に合わせて多様な素材の選択が可能で、吸着剥離時に吸着対象物の損傷を最小化することができる、多孔性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリマの溶解されたポリマ溶液と接着材料の溶解された接着溶液とを混合した紡糸液を製造し、紡糸液を静電紡糸してポリマと接着材料とが混合された微細繊維を形成し、微細繊維に向けて接着材料の溶解された接着溶液を噴射し、接着溶液噴射過程を経た微細繊維を支持層に結合させて微細繊維ウェブ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】異なる組成のスパッタリングターゲットを使用して、インラインで積層し、短時間の加熱処理で結晶性を有することができ、低抵抗の透明導電膜を有した透明導電性積層体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜はＩｎ、Ｓｎ、Ｏを主成分とし、Ｓｎの含有量が１重量％以上４重量％以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第一透明導電膜３ａと、同じくＩｎ、Ｓｎ、Ｏを主成分とし、Ｓｎの含有量が４重量％超え、１０重量％以下であるインジウム・スズ複合酸化物からなる第二透明導電膜３ｂで形成され、前記第一及び第二透明導電膜の膜厚がそれぞれ１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下であり、両者の透明導電膜の合計厚みが２０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、真空中で加熱温度が１２０℃以上２００℃以下であり、加熱時間が１分以上、３０分以下の条件で加熱処理することで前記第一及び第二透明導電膜のいずれも結晶化することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】二軸配向ポリエステルフィルム上に易接着層を介しハードコート層を設けたハードコートフィルムであって、特に耐湿熱条件下での密着性にも優れるハードコートフィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、二軸配向ポリエステルフィルム１の少なくとも片面に設けられた易接着層２を介してハードコート層３が設けられたハードコートフィルム１０である。前記易接着層２は、ガラス転移点５０〜１０５℃であり、且つ重量平均分子量が３０〜５５万のアクリル変性物からなる。前記ハードコート層３は、電離放射線硬化型樹脂組成物を含有する。 （もっと読む）

【課題】偏光板として用いたとき、偏光層が退色することが抑制される反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】反射防止フィルム１０は、透明基材１１とアミド化合物を含むハードコート層１２との間に、酸化ケイ素を含む遮蔽層１４を設けることにより、透明基材１１側方向へのアミド化合物による影響を抑制することが出来る。このため、反射防止フィルム１１の遮蔽層１４の形成面と反対側の透明基材１１上に偏光層を設けることで、偏光層が退色することが抑制される。 （もっと読む）

【課題】
透明性が必要な光学用フィルムにおいて、粒子添加を行わずにフィルム表面の粗さを特定の範囲とすることで、低ヘイズであり、フィルム表面のキズも少なく、かつ製膜工程及び加工工程での搬送性が良好なポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】
フィルムの片面の平均表面粗さが１０〜３０ｎｍであり、内部ヘイズが０．２％以下であり、フィルム幅方向に対する角度が４５°以内、長さが０．３μｍ以上および深さが０．５μｍ以上のキズが、フィルム１ｍ^２当たりに両面合わせて１０個以下である、ポリエステルフィルム。 （もっと読む）

【課題】 欠陥の低減された超薄膜素子が得られる平坦性に優れた透明電極を提供することである。
【解決手段】 実施形態の透明電極は、透明基板（１１）と、前記透明基板上に形成され、金属ナノワイヤーの三次元網目構造（２０）を含む電極層（１２）とを具備する。前記電極層は、表面の金属が反応して反応生成物が形成された金属ナノワイヤー（２２）を含む第一の導電性領域（１４）と、前記第一の導電性領域に隣接し、前記金属ナノワイヤー（２１）の表面の金属が未反応で前記第一の導電性領域より導電性が高い光透過性の第二の導電性領域（１３）とを含むこと特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、太陽電池のバックシート、食品や医薬品等の包装分野に用いられるガスバリアフィルムと製造方法に関するものであって、そのガスバリア層が、基材であるプラスチックフィルムとの密着力に優れるガスバリアフィルムと、その製造においては、インラインでの形成が可能で、高い生産能率を有する生産方法を提供することを課題とするものである。
【解決手段】基材となるプラスチックフィルムの片面、もしくは両面にプラズマ化学的気相成長法（ＰＥＣＶＤ法）により形成された、ＳｉＯｘＣｙ膜からなる密着層の膜の組成が、基材表面から膜表面に向けて傾斜的に変化していき、その上にガスバリア層をこの順に、減圧環境化のインライン成膜にて形成するガスバリアフィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高いバリアー性能とイオン溶出防止性能を有するバリアーフィルム及びバリアーフィルムの製造方法を実現する。
【解決手段】ポリシラザン骨格を有する少なくとも１層のガスバリアー層２と、無機骨格を主体としポリシロキサン骨格を有する少なくとも１層のイオンバリアー層３を、隣接させて積層した層構造を形成することによって、高いガスバリアー性能とイオン溶出防止性能を兼ね備えたバリアーフィルム１０（１１）を製造することが可能になった。 （もっと読む）