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Fターム[4F202AA44]の内容

プラスチック等の成形用の型 (108,678) | 樹脂材料等(主成形材料) (4,142) | 硬化性樹脂 (1,178) | エネルギー線硬化性樹脂(光、紫外線、電子線硬化) (366)

Fターム[4F202AA44]に分類される特許

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【課題】テンプレート表面に充填性と離型性を両立した離型層を形成する。
【解決手段】本実施形態では、インプリント処理時に光硬化性樹脂に接触させる凹凸を有するパターン面を備えたテンプレートの表面処理を行う。この表面処理方法は、テンプレート1のパターン面に第1シランカップリング剤を供給する工程と、テンプレート1のパターン面に第2シランカップリング剤を供給する工程と、を備えている。第1シランカップリング剤を使用してテンプレート表面に形成する離型層は、第2シランカップリング剤を使用してテンプレート表面に形成する離型層と比較して、前記光硬化性樹脂に対する接触角及び水に対する接触角が低い。 (もっと読む)


【課題】積層用フィルムの予備成形する領域を含む周囲全周をフィルムクランプと金型とで挟持し、予備成形を行う工程を有する射出成形同時積層法において、良好な成形性、耐カール性、及び耐傷性を備える積層用フィルム及びそれを用いた成形品、並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】積層用フィルムの予備成形する領域を含む周囲全周をフィルムクランプと金型とで挟持し、該金型側より真空吸引して予備成形を行う工程を有する射出成形同時積層法に用いられる積層用フィルムであって、該積層用フィルムが基材上に保護層を積層してなり、該保護層が電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物であり、該基材の厚さが40〜300μmであり、該保護層の厚さが50μm以下であり、該基材の引張弾性率が、該保護層の引張弾性率よりも高く、かつ、3000MPa以下であることを特徴とする射出成形同時積層用フィルム及びそれを用いた成形品、並びにそれらの製造方法。 (もっと読む)


【課題】樹脂フィルムに形状変化が生じた場合であっても、樹脂フィルムの凹凸パターンを基板の所望とする位置に合わせることができるアライメント方法を提供すること。
【解決手段】表面に微細な凹凸パターンが形成された樹脂フィルム11と、前記凹凸パターンが転写されるべき光硬化性樹脂層16を有する基板15とを貼り合わせる際に、前記樹脂フィルム11と前記基板15とを位置合わせするアライメント方法であって、前記樹脂フィルム11はその平面形状が多角形であり、前記樹脂フィルム11の頂点部分は保持せずに辺の縁部を保持して平面方向に伸長する工程を含むことを特徴とするアライメント方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、単レンズの表面に樹脂層を形成する際に、単レンズと樹脂層との光軸のずれを小さくした複合光学素子の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】吸引ノズル22bを有し、単レンズを吸引、保持する吸引保持型22と、単レンズを支持する単レンズ支持部材23と、紫外光を透過可能で樹脂層をプレス成形する樹脂層成形型24と、小径孔25aを上部に、小径孔25aよりも径の大きい大径孔25bを下部に有し、これらが1つの貫通孔として形成され、小径孔25aの下側開口部が、単レンズの傾斜面と同じ角度で、単レンズの傾斜面と輪環状に接触可能な対応傾斜面25cとされ、かつ、小径孔25aと大径孔25bの軸が一致して設けられている胴型25と、樹脂層のプレス成形時に、下方から樹脂層成形型24を透過させて樹脂層に紫外線を照射する紫外線照射手段26と、を有する複合光学素子の製造装置21。 (もっと読む)


【課題】光学素子の製造方法において、曲率を有する光学面を有する光学素子の光学面に複数の凹凸形状による微細構造を精度よく形成することができるようにする。
【解決手段】凸レンズ面1aに沿って配置された複数の凹凸形状による反射防止部を備える光学素子の製造方法であって、弾性体からなる基体部5Aの一表面に、反射防止部の凹凸形状を凸レンズ面1aの接線方向に沿って伸長または圧縮し反転させた形状からなる成形面部を形成して、微細構造形成用型5を製作する型製作工程と、微細構造用形成用型5を湾曲させて、一表面を凸レンズ面1aに実質的に沿う形状に変形させることにより、成形面部を反射防止部が反転した形状に変形させる型変形工程と、凸レンズ面1aを有するレンズ本体1の凸レンズ面1aに成形用樹脂を塗布し、型変形工程で変形された成形面部5c’を凸レンズ面1aに押圧し、成形用樹脂を硬化させる成形工程と、を備える方法とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、高屈折率材料の形成技術や加工技術を要することなく、凹凸構造のアライメントマークを光学的に識別することを可能とし、高いアライメント精度で位置合わせすることができるインプリント用テンプレート、インプリント用テンプレートの製造方法、およびインプリント方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 テンプレート基板に銀イオンを含有するイオン交換表面層を備えた高エネルギービーム感受性ガラス基板を用い、アライメントマークの凸部における可視光域の光に対する光学濃度を、前記アライメントマークの凹部における可視光域の光に対する光学濃度よりも高くすることにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】環状突起の倒れが少なくなるロール金型の製造方法、及び該ロール金型の製造方法を含む光学シートの製造方法を提供する。
【解決手段】表面に被加工層が形成されたロール基体21を回転させ、切削工具により光学シートの凸部に対応する溝23を被加工層に形成する切削工程を含み、該切削工程は、第1切削工程と、該1切削工程の後に行う第2切削工程とを含んでおり、第1切削工程と第2切削工程とで異なる形状の切削工具を用いることを特徴とするロール金型の製造方法、及び該ロール金型の製造方法を含む光学シートの製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】光学シートを形成するロール金型を製造するに際し、溝の切削開始部と溝の切削終了部とで、溝形状が変化してしまうことを抑制できるロール金型の製造方法を提供する。
【解決手段】凹凸形状を有する光学シート10の凹凸部分を成型するための環状突起22と溝23とを交互に有するロール金型20を製造する方法であって、表面に被加工層が形成されたロール基体21を回転させ、切削工具30により光学シートの凸部13に対応する溝を被加工層に形成する切削工程を含み、該切削工程は、溝が完成後の開口部形状を有するように溝の開口部側の一部を切削する第1切削工程と、該第1切削工程によって開口部側の一部が切削された溝であって、該溝の両側の溝に対しても第1切削工程が行われているについて、目的の深さまで切削する、第2切削工程とを含んでいることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微細構造形成用型および光学素子の製造方法において、被加工体の表面形状が変化しても、被加工体の表面に反射防止構造を容易かつ迅速に形成することができるようにする。
【解決手段】曲率を有する凹レンズ面1aを備えるレンズ本体1の凹レンズ面1aに凹凸形状の反射防止部を形成する微細構造形成用型5であって、反射防止部を転写する成形面部5aと、成形面部5aを湾曲可能に支持する基体部5と、基体部5を変形することにより成形面部5aを湾曲させる空洞部6、環状空洞部7、および流体供給部8と、を備える表面加工装置10を用いて、反射防止部を形成する。 (もっと読む)


【課題】ナノ粒子を成形するためのナノサイズの空孔を有するモールドを製造するための材料および方法を提供する。
【解決手段】所定の形状を有する空孔110を画定するポリマーの層と、該ポリマーの層に結合した支持層102と、該支持層102に結合したポリマーの層を受け入れるよう構成され大きさが決められた第1および第2のローラーとを含む積層ナノモールドシステム。 (もっと読む)


【課題】外部環境からの熱に起因した熱変形を低減するのに有利な型を提供する。
【解決手段】この型8は、被処理体13に対して成形すべきパターンが形成されたパターン部8aを有する。パターン部8aが設置されている側の面は、パターン部8aが配置された第1面と、パターン部8aが配置されていない第2面8bとを含む。型8は、第2面8bの表面に、外部環境からの熱を拡散させる熱拡散膜40(42、45)を有する。 (もっと読む)


【課題】テンプレートの洗浄時間を短縮できるテンプレート洗浄装置を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート洗浄装置は、表面に凹凸パターンおよび溝部が形成されているインプリント用のテンプレートの前記溝部のイメージを取得するためのイメージ取得手段10を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記イメージ取得手段10により取得された前記溝部のイメージと、予め取得しておいた基準イメージとを比較して、前記テンプレートの洗浄時間を決定する機能を含む洗浄時間決定手段12を具備する。実施形態のテンプレート洗浄装置は、さらに、前記洗浄時間決定手段12により決定された洗浄時間に基づいて、前記テンプレートを洗浄するための洗浄手段13を具備する。 (もっと読む)


【課題】高精度の微細パターンを有するインプリント用のパターンの形成方法およびテンプレートの製造方法を提供する。
【解決手段】基板31にクロム薄膜41を積層し、クロム薄膜41上に重合性樹脂層33を形成して、準備した透明のインプリント用テンプレート10と石英基板31上の重合性樹脂層33とを重ね合わせて、インプリント用テンプレート10のパターンである第1のパターン13により重合性樹脂層33を賦型し、重合性樹脂層33に第1のパターンの逆型形状である凹凸で構成された第2のパターン43を形成する。第2のパターン43をマスクとして石英基板31上に第3のパターン45を形成する。第3のパターン45をマスクとして基板31の表面に凹凸で構成された第4のパターン47を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、スタンパのゆがみを補正するスタンパの変形機構を有しながらもスタンパの面方向における小型化を達成することができる微細構造転写装置を提供することにある。
【解決手段】微細構造を有するスタンパ2を用いて、被転写体1上の光硬化性樹脂組成物に微細構造を転写する微細構造転写装置15において、前記スタンパ2は、前記微細構造が形成される微細構造形成層4と、この微細構造形成層4における前記微細構造の形成面の反対側で、この微細構造形成層4に沿うように設けられる光照射層5と、この光照射層5における前記微細構造形成層4側の面と反対の面に配置されると共に、前記スタンパ2を前記被転写体1側に凸となるように湾曲させる圧電素子6と、を備えることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ナノインプリント用モールドの製造において、ナノインプリント装置内でも簡便に離型処理を行うことを可能にしかつ凹凸パターン表面全体の離型性を向上させる。
【解決手段】モールド1の離型処理方法において、離型剤6が塗布された離型処理用基板5を用意し、凹凸パターン13の凸部の上部のみが離型剤6に接触した接触状態となるように、吸着水2が表面に付着したモールド本体12および離型処理用基板5を互いに近づけ、吸着水2中を離型剤6が拡散することに起因して、凹凸パターン13の凸部の上面St側から凹凸パターン13の凹部の底面Sb側に向かって凹凸パターン13の側面Ssにおける離型層14の厚さが薄くなるような厚さ分布を有する離型層14が形成されるまで、上記接触状態を維持し、上記凸部の上部が離型処理用基板5上の離型剤6から分離するようにモールド本体12および離型処理用基板5を離す。 (もっと読む)


【課題】 光硬化性ナノインプリント用組成物を用いて、金型パターンよりも微細なパターンを基板上に形成するパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類の加水分解物を含有する光硬化性ナノインプリント用組成物を基板上に塗布し塗膜を形成し、金型と前記塗膜とを接触させ、金型のパターンを転写し、光照射して塗膜を硬化させた後に、120℃〜250℃で熱処理をすることで金型のパターンよりも微細なパターンを基板上に形成する。 (もっと読む)


【課題】細孔の間隔が大きいモールドを製造する場合であっても、特殊な装置を用いることなく、最初に形成される酸化皮膜を薄膜化でき、結晶粒界に由来するマクロな凹凸を転写面に生じさせにくいモールドを製造する方法、および該モールドの微細凹凸構造が転写された、微細凹凸構造を表面に有する成形体の提供。
【解決手段】アルミニウム基材10の表面に、複数の細孔12を有する酸化皮膜14が形成されたモールド18を製造する方法であって、電解液中でアルミニウム基材10に間欠的に電流を流して陽極酸化し、該アルミニウム基材10の表面に複数の細孔12を有する酸化皮膜14を形成する工程(工程(a))を有する、モールドの製造方法、およびこれより得られたモールド18の表面に形成された複数の細孔12からなる微細凹凸構造が転写された、微細凹凸構造を表面に有する成形体。 (もっと読む)


【課題】モールドの微細凹凸構造を繰り返し転写しても、モールドと硬化樹脂層との離型性および転写された微細凹凸構造の形状や表面特性を維持でき、微細凹凸構造を表面に有する物品を安定的に生産性よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】(I)モールド離型剤を含む離型処理溶液で、陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造を表面に有するロール状モールド20の表面を被覆する工程、(II)工程(I)の後、重合性化合物と重合開始剤と内部離型剤とを含む活性エネルギー線硬化性樹脂組成物38を、ロール状モールド20とフィルム42との間に挟み、これに活性エネルギー線を照射して硬化させて、微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44をフィルム42の表面に形成し、微細凹凸構造を表面に有する物品40を得る工程を有し、モールド離型剤と内部離型剤とのSP値の差が2.0以下である。 (もっと読む)


【課題】インプリント用テンプレートに設ける洗浄耐性に優れたハイコントラストの位置合わせマーク、該マークを備えたテンプレート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光透過性基材の一主面に凹凸パターンを形成したテンプレート10を、被加工基板上の光硬化性材料に押し付けると共に、テンプレート10を介して光硬化性材料を感光させる光を照射することによって、光硬化性材料を光硬化させて凹凸パターンを転写するインプリント方法に用いるテンプレートの位置合わせマーク13であって、前記位置合わせマーク13が、光透過性基材を掘り込んで形成した凹凸パターン部と、凹凸パターン部の光透過性基材上に形成された遮光膜パターン部16からなり、前記遮光膜パターン部16が遮光膜14と該遮光膜上に設けた耐洗浄性保護膜15との2層膜で構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液晶配向用の基板として好適に利用できる表面微細凹凸体の製造方法を提供する。
【解決手段】熱収縮フィルム基材上に少なくとも一層以上の硬質層を備え、該硬質層の表面に形成された凹凸パターンの最頻ピッチが0.05μmを超え1μm以下で、凹凸パターンの深さが最頻ピッチを100%とした際の5%以上で、かつ配向度が0.25以下でピッチが略均等である液晶配向用のナノバックリング形状を有する表面微細凹凸体。 (もっと読む)


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