【課題】線引して光ファイバとした状態においても該光ファイバのコア領域に充分な濃度のアルカリ金属元素を含有させることができる製造容易な光ファイバ母材を提供する。
【解決手段】光ファイバ母材１０は、石英ガラス系のものであって、コア部２０およびクラッド部３０を備える。コア部２０は、中心軸を含む第一コア部２１と、この第一コア部２１の外周に設けられた第二コア部２２とを含む。クラッド部３０は、第二コア部２２の外周に設けられた第一クラッド部３１と、この第一クラッド部３１の外周に設けられた第二クラッド部３２とを含む。コア部２０は、平均濃度５原子ppm以上のアルカリ金属元素を含有する。第一クラッド部３１の外周部におけるＯＨ基の濃度は最大値で２００mol ppm以上である。 （もっと読む）

【課題】突入流量の上限値を規定し、バーナ内の水素ガス濃度を抑えることで、水素への切り替え時の小爆発を防止することができる光ファイバ用ガラス母材の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】水素用ＭＦＣ１５は、窒素ガスから水素ガスへの切り替え時に、逆流防止機能を有する逆止弁４０によって設定流量よりも大きな流量の水素ガスが瞬間的に流れる突入流量の最大値を４０ＳＬＭ以下（例えば、３０ＳＬＭ）に設定して、バーナ１６内の水素ガス濃度が４％以下になるように水素ガスの流量制御を行っている。これにより、窒素ガスから水素ガスへの切り替え時に突入流が発生してもオーバーシュート最大流量を４０ＳＬＭ以下に抑えるので、バーナ１６の出口付近での小爆発を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】コア相当部分で所定の屈折率分布が形成できているか否かを確認するためのプリフォームアナライザーによる測定（以下「ＰＡ測定」という）の際に、ＰＡ測定に用いられるレーザ光の回折の影響を防ぐことのできるプリフォームを提供する。
【解決手段】ガラス原料ガスと火炎形成ガスとをバーナ１に供給し、バーナ１が噴出する酸水素火炎中でガラス微粒子を生成するとともに、生成したガラス微粒子を、成長軸方向に引き上げながら軸線を中心として回転する出発材２に対して堆積させて、ガラス微粒子堆積体３を製造する際に、出発材２の回転速度を、２値以上の設定値の間で変化させる。 （もっと読む）

【課題】表層からのガラス微粒子粉や堆積層の脱落を抑制できる多孔質ガラス管の製造方法を提供する。
【解決手段】ロッド２０の周囲にＣＶＤ法によりガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体１３を作製し、ガラス微粒子堆積体１３からロッド２０を引き抜いて筒状の多孔質ガラス管１１を製造する多孔質ガラス管の製造方法であって、ガラス微粒子堆積体１３の作製後に、ガラス微粒子堆積体１３の表面をガラス微粒子の原料を含まない火炎により加熱する加熱処理を行う。 （もっと読む）

【課題】波打ちの発生を極力抑え、光ファイバとした際に優れた光伝送特性を得ることが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】軸回りに回転する出発ロッド１２の対向位置に少なくとも一本のバーナ１３を配置し、出発ロッド１２とバーナ１３とを出発ロッド１２の軸方向へ相対的に往復移動させつつバーナ１３の火炎による加水分解反応で生成されるガラス微粒子を出発ロッド１２に吹き付けてガラス微粒子を堆積させるガラス微粒子堆積体１４の製造方法であって、出発ロッド１２とバーナ１３との相対的な往復移動が一往復して元の位置に戻る際に、出発ロッド１２の回転位置が、元の位置から半周期ずれるように、一往復の往復移動距離に対応して、往復移動速度及び出発ロッド１２の回転速度を調整する。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】製造設備のダメージを回避しつつ安価に光ファイバ母材を製造することができる装置および方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ母材製造装置１は、ガラスロッド２の外周面上にガラス微粒子３を溶着させ光ファイバ母材を製造する装置であって、気密容器１０，プラズマバーナ１１，ガラス微粒子導入部１２，組成修正用ガス導入部１３および排気部１４を備える。気密容器１０は、プラズマバーナ１１により加熱されるガラスロッド２の被加熱部を囲む。プラズマバーナ１１は、プラズマ火炎によりガラス微粒子３を加熱する。ガラス微粒子導入部１２は、気密容器１０内のガラスロッド２の被加熱部に向けてガラス微粒子３を導入する。組成修正用ガス導入部１３は、気密容器１０内のガラスロッド２の被加熱部に溶着されるガラス微粒子３の組成を修正するための組成修正用ガスを気密容器１０内に導入する。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、厚さ２ｍｍの波長１９０ｎｍでの透過率が５０％以下であり、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．０poise以上であり、低圧水銀ランプの２５４ｎｍの紫外線を照射した場合に４００ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光領域に０．０１秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 （もっと読む）

【課題】堆積効率を低下させることなくノズル先端部の赤熱による劣化を抑制した、特に堆積モードと非堆積モードとの間の移行を高頻度に繰り返す場合の劣化を抑制する。
【解決手段】ガラス原料ガス噴出ノズル３１と、ガラス原料ガス噴出ノズルの外側に配されたシールガス噴出ノズル３２と、前記シールガス噴出ノズルの外側に配された燃焼ガスポート３３とを有し、前記燃焼ガスポートには、複数の小口径の助燃ガス噴出ノズル３４が内包され、かつ、該助燃ガス噴出ノズルが前記シールガス噴出ノズルと離間するように配されている光ファイバ用ガラス母材の製造方法であって、堆積モードから非堆積モードに移行する場合、シールガス噴出ノズルにシールガスに替えて燃焼ガスを流し種火を維持しながら、燃焼ガスポートにおいて、助燃ガスをノズル先端が赤熱しない程度の流速以上に維持した状態で、燃焼ガスポートの燃焼ガスをパージガスに切り替える工程αを備える。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】異物の付着や混入を抑制しつつ安定的にガラス微粒子堆積体を製造することが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガラス微粒子堆積体の製造方法は、反応容器１１の周囲を外側容器１２で覆い、反応容器１１におけるバーナ１３の配置側の側面にクリーンエア導入口３９を設け、クリーンエア導入口３９にクリーンエアＣＡを整流するメッシュ状壁部２３を設け、バーナ１３を支持する支持台４５を外側容器１２の外部に配置させ、ターゲット１５へのガラス微粒子の堆積時に、反応容器１１と外側容器１２との間の空間部２０へクリーンエアＣＡを供給することにより、クリーンエア導入口３９からメッシュ状壁部２３を介して空間部２０内のクリーンエアＣＡを反応容器１１内へ送り込み、空間部２０内の圧力Ｐｓを、反応容器１１内の圧力Ｐｈ及び外側容器１２の外部の圧力である大気圧Ｐｔよりも高くする。 （もっと読む）

【課題】脈理がなく、内部に欠陥がない合成シリカガラスを製造することができる合成シリカガラス製造装置を提供する。
【解決手段】炉体２と、前記炉体２に設けたられた排気口５ａと、前記排気口に接続された排気手段９と、前記炉体内部に回転可能に設置されたインゴット形成用のターゲット６と、前記ターゲット６に先端が対向して設けられたシリカガラス合成用のバーナー７とを備えた合成シリカガラス製造装置１であって、前記炉体２は、前記シリカガラス合成用のバーナー７が頂部に設置された耐火物製のマッフル３と、前記マッフル３の下方に設けられた、前記マッフル３の内径よりも大径の第１の炉部４と、前記第１の炉部４の下方に設けられた、前記第１の炉部４の内径よりも大径の第２の炉部５とを備え、更に前記第２の炉部５側壁に前記排気口５ａを備える。 （もっと読む）

【課題】火炎中でのガラス原料の反応を促進させ、生産性に優れたガラス母材合成用バーナ及びガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明に係るガラス母材合成用バーナは、ガラス原料化合物及び可燃性ガスを供給する第１のノズルとその外周に同心円状に配置された不燃性ガスを供給する第２のノズルからなる二重管ノズルを複数本集束配置し、その外周に、これら二重管ノズルを囲んで、支燃性ガスを供給する第３のノズルを配置すると共に、前記第３のノズルの外周に管径の異なる複数のノズルを同心円状に配置してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】波長１９３ｎｍの光を用いた光学装置、例えばＡｒＦリソグラフィ用露光装置に使用される合成石英ガラスの、使用波長における熱に変換される光の吸収量を、小さい試料で、精度よく、かつ簡便に評価することが可能な評価方法を提供する。
【解決手段】合成石英ガラスにおける波長１９３ｎｍの光の内部吸収量のうち熱に変換される光の吸収量を評価する方法であって、前記合成石英ガラスからなる試料に対して波長１９３ｎｍの光を照射したときに前記試料から発せられる波長３２０ｎｍの光の発光強度および波長５５０ｎｍの光の発光強度から、前記減衰量を評価する合成石英ガラスの評価方法。 （もっと読む）

【課題】生成されたガラス微粒子の出発ロッドやガラス微粒子堆積体への付着効率を向上させることができるガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス母材の製造方法は、原料ガスであるＳｉＣｌ_４の温度を１００℃以上に制御して、ガラス微粒子生成用バーナの火炎内で、ガラス微粒子の平均外径を９０ｎｍ以上にしてから出発ガラスロッド１３に堆積させる。 （もっと読む）

【課題】シリカガラス合成用バーナからの火炎と別の火炎を形成することにより、浮遊シリカ微粒子のインゴット合成面（溶融シリカ付着面）への付着を抑制し、脈理及び内部欠陥が抑制された合成シリカガラスを製造する合成シリカガラス製造装置を提供する。
【解決手段】シリカガラス合成用のバーナ４は、少なくとも原料ガスを導出するバーナ内筒管４ａと、少なくとも可燃性あるいは支燃性ガスを導出するバーナ外筒管４ｂを備え、前記バーナ外筒管４ｂからのガスの導出によって、バーナ内筒管の外周面に沿って下方向に向かう第１の火炎流Ｆ１が形成され、炉は、耐火物製の円筒状の側壁部１０と、前記側壁部の上部を閉塞する耐火物製の天井部１１とから構成され、前記天井部１１には複数のガス導出孔１２が設けられると共に、前記ガス導出孔１２からのガスの導出によって、ガス導出孔１２から垂直下方向に向かう第２の火炎流Ｆ２が形成される。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ母材内における気泡の発生を抑制できる光ファイバ母材製造装置及び光ファイバ製造方法を提供する。
【解決手段】反応容器１０内に配されたターゲット部材２０にガラス微粒子を堆積させるバーナ３０，４０を備えた光ファイバ母材製造装置１であって、前記反応容器１０を内在させるブース５０と、前記ブース５０の内部を、第一空間５０ａと第二空間５０ｂとに区画する仕切板５１と、前記第一空間５０ａ内に清浄な空気を供給する給気手段６０と、を備え、前記反応容器１０及び前記バーナ３０，４０は、前記第一空間５０ａ内に配され、前記仕切板５１は、前記第一空間５０ａと前記第二空間５０ｂとを互いに連通する複数の貫通孔５１ａを有しており、前記第二空間５０ｂ内の空気を排出するように排気手段７０が設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大型の石英炉を使用することなく透過率及び透過率維持率に優れた大口径の石英ガラスを低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】直径３００mm以上の外径のガラス微粒子堆積体１を焼結して透明ガラス化する石英ガラス４の製造方法において、シリカ微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体１を生成するスス付け工程ａと、スス付け工程で得られたガラス微粒子堆積体１を、石英炉Ｃを除く加熱炉Ｂで焼結して仮焼結体２を得る第１焼結工程ｂと、第１焼結工程ｂで得られた仮焼結体２を石英炉Ｃで更に焼結して焼結体（石英ガラス母材）３を得る第２焼結工程ｃと、スス付け工程ａ、第１焼結工程ｂ、第２焼結工程ｃのいずれか一つ又は二つの工程、或いは全ての工程において、フッ素を添加するフッ素添加工程を備える。 （もっと読む）

【課題】大型の多孔質ガラス母材を安定して製造することを可能とするための、ＶＡＤ法により先端にガラス微粒子を堆積させるターゲット棒と、該ターゲット棒を用いた大型多孔質ガラス母材の製造方法を提供する。
【解決手段】ターゲット棒１は円柱状であり、かつ、少なくとも一つの環状溝２を有する。該ターゲット棒１を用いて大型の多孔質ガラス母材を製造する際には、少なくともケイ素化合物を含有するガラス形成原料を酸水素火炎で加水分解してガラス微粒子を生成させ、前記ガラス微粒子を、回転する前記ターゲット棒１の環状溝２を含む領域に堆積させる。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、正確な位置にバーナをセットすることのできるガラス微粒子合成用バーナの位置調整方法及びガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】出発ロッドに対向配置され、出発ロッドと相対的に往復移動して出発ロッドの外周にガラス微粒子を堆積させるガラス微粒子合成用バーナの位置調整方法であって、ガラス微粒子の堆積に先立ち、出発ロッドの端部を把持するチャックに線条体１９を出発ロッドの中心軸と一致するように張設する。バーナの直管とした中心ポートＰ１のガス導入側の開口孔３１から線条体１９を視認する。線条体１９が開口孔３１の中心を含む所定範囲内に入るようにバーナ取り付け位置を調整し、さらにバーナ先端から線条体１９までの距離を設定された範囲内の値となるように調整する。 （もっと読む）