高い比誘電率ε_rと高いＱ値を有し、また共振周波数の温度係数τ_fが０ｐｐｍ／℃を中心に任意に制御できる、高周波用誘電体磁器組成物を提供しようとする。
組成式：ｘＣａＴｉ_aＯ_1+2a−ｙＣａ（Ａｌ_b/2Ｎｂ_c/2）Ｏ_1+(3b+5c)/4−ｚＣａ（Ｍｇ_d/2Ｗ_e/2）Ｏ_1+(d+3e)/2で表わされる組成を有し、上記組成式におけるｘ、ｙ、ｚ、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、およびｅ（ただしｘ、ｙ、ｚはモル比である）は、０．４７５≦ｘ≦０．５８、０．２１≦ｙ≦０．５０５、０．０１８≦ｚ≦０．２５、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．０００、０．９≦ａ≦１．０５、０．９≦ｂ≦１．１、０．９≦ｃ≦１．１、０．９≦ｄ≦１．１、０．９≦ｅ≦１．０５の範囲内にある。
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セラミックは約９０〜９９重量％の量のアルミナと、約０〜１重量％の量のジルコニウム含有化合物と、約１〜１０重量％の量の酸化混合物とを含む。酸化混合物はガラス形成体と網目修飾体とを含み、ガラス形成体と網目修飾体とのモル比は約０．８：１〜１．２：１の範囲である。セラミック絶縁体は、特に、スパークプラグにおいて絶縁体として用いられるよう適合されて、華氏１０００度で高い絶縁耐力と１０００メガオームを上回るシャント抵抗とをもたらして、スパークプラグの分路を減らし、これにより、スパークプラグが発生させる火花の質を向上させる。 （もっと読む）

使用温度において酸化物イオン空孔を有する結晶格子の形態、より具体的には、立方相、ホタル石相、オーリビリウスタイプのペロブスカイト相、褐色針ニッケル鉱相またはパイロクロア相の形態にある、ドープされたセラミック酸化物から選ばれる複合電子／酸素Ｏ^２−アニオン伝導性化合物（Ｃ_１）少なくとも７５ｖｏｌ％、および
酸化物タイプのセラミック、非酸化物タイプのセラミック、金属、金属合金またはこれらタイプの物質の混合物から選ばれる、化合物（Ｃ_１）とは異なる化合物（Ｃ_２）０．０１〜２５ｖｏｌ％、および式：ｘＦ_ｃ１＋ｙＦ_ｃ２→ｚＦ_ｃ３（式中、Ｆ_ｃ１、Ｆ_ｃ２およびＦ_ｃ３は、化合物Ｃ_１、Ｃ_２およびＣ_３それぞれの実験式を表し、ｘ、ｙおよびｚは、０以上の比の数値を表す）により表される少なくとも１の化学反応から生成する化合物（Ｃ_３）０ｖｏｌ％〜２．５ｖｏｌ％を含む複合物（Ｍ）。本発明は、複合物の製造方法、並びにメタンまたは天然ガスの接触酸化により合成ガスの合成のために使用することが意図された触媒膜反応器用の複合伝導性複合物としての、および／または空気から酸素を分離するために使用することが意図されたセラミック膜のための複合伝導性複合物としてのその使用にも関する。 （もっと読む）

本発明は、鉱物質酸化物を基準とした重量パーセントで、以下の平均鉱物質化学組成を有する、焼結耐火物を製造するための、中空部材に関する：４０％≦Ａｌ₂Ｏ₃≦９４％、０％≦ＺｒＯ₂≦４１％、２％≦ＳｉＯ₂≦２２％，１％＜Ｙ₂Ｏ₃＋Ｖ₂Ｏ₅＋ＴｉＯ₂＋Ｓｂ₂Ｏ₃＋Ｙｂ₂Ｏ₃＋Ｎａ₂Ｏ。 （もっと読む）

完全非鉛であるとともに、ＰＺＴ系セラミックスを主流とする従来の実用化されている圧電材料よりも飛躍的に高い変位特性を示す環境に優しいペロブスカイトニオブ酸カリウムナトリウム（Ｋ_１−ｘＮａ_ｘ）ＮｂＯ_３とペロブスカイト型酸化物Ｍ１Ｍ２Ｏ_３或いは単純酸化物Ｍ３_２Ｏ_３を含有するペロブスカイト固溶体組成物。 Ｍ１は、ペロブスカイトＡサイトに選択的に入りうる鉛を除く、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒなどの金属イオンを、Ｍ２は、ペロブスカイトＢサイトに選択的に入りうる、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｆｅ等などの４価または３価金属イオンを、Ｍ３はペロブスカイトＡ或いはＢサイトに選択的に入りうる、Ｂｉ、Ｌａ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｆｅ等の３価金属イオンを表す。ｘは、０．４≦ｘ≦０．６の範囲の数値を表す。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１のポリマー、少なくとも１の有機出発化合物、少なくとも１のセラミック材料およびガラスおよび／またはガラスの原料を含有し、セラミック材料と共にガラスセラミックスを形成するための少なくとも１のガラス材料を含有するプラスチック材料において、ガラスがほぼ有機出発化合物の分解温度Ｔｚに相応するガラス転移点Ｔｇを有することを特徴とする、プラスチック材料に関する。有利には有機出発化合物はポリオルガノシロキサンである。ポリオルガノシロキサンの熱分解により、二酸化ケイ素からなる多孔質の基本骨格が形成され、ここに分解温度で液状のガラスが浸潤する。さらに、ガラスセラミックからなる緻密で機械的に安定した層が形成される。該層は電気絶縁性であり、従って火災の場合でもケーブルの機能が維持される。従って火災の危険がある製品、たとえばケーブルまたは家庭用電気製品の電気的な絶縁のために該プラスチック材料が使用される。
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アルファアルミナと、Ｇｄ_２Ｏ_３と、ＺｎＯとを含む焼結されたアルファアルミナベース研磨粒子、およびその製造方法。研磨粒子は、たとえば、結合研磨材、被覆研磨材、不織研磨材、および研磨ブラシを含むさまざまな研磨物品に組入れることができる。 （もっと読む）

アルミナ（いくつかの実施形態ではαアルミナ）を含んでなるセラミック研磨粒子をはじめとするセラミックを製造する方法。セラミック研磨粒子は、結合研磨剤、被覆研磨剤、不織研磨剤、および研磨ブラシをはじめとする多様な研磨物品中に組み込むことができる。

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【課題】 高抵抗透明導電膜、特に抵抗膜式タッチパネル装置等の画面位置確定のために使用されるシート抵抗５００〜２０００Ω／□程度の高い表面抵抗率を有する透明導電膜の形成に有用である高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】 酸化インジウムと酸化錫を主成分とする焼結体であって、さらに酸化ケイ素又は酸化チタンの少なくとも一方を含有することを特徴とする高抵抗透明導電性膜用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 切断工程に要する時間を短縮でき、ひいては、製造コスト及び部品単価の低減に貢献できる積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】 積層セラミックコンデンサを、グリーンシートの形成工程（ａ），内部電極用導体層の形成工程（ｂ），積層工程（ｃ），圧着工程（ｄ），熱処理工程（ｋ１），切断工程（ｅ），研磨工程（ｆ），脱バインダー工程（ｇ），外部電極用導体層の形成工程（ｈ），焼成工程（ｉ），メッキ工程（ｊ）の工程順で製造する。前記の熱処理工程（ｋ１）は、圧着後の積層グリーンシートを焼成温度よりも低い所定温度で所定時間熱処理することにより、積層グリーンシート内のバインダーの一部を除去するための工程であり、同工程（ｋ１）を経た後の積層グリーンシートは誘電体材料粉間に存在するバインダーの一部が除去されて気孔率が高まりシート自体の粘りが低下して硬さが増すため、回転ブレードや昇降ブレード等のブレードによる積層グリーンシートの切断がし易くなる。 （もっと読む）

【課題】高熱伝導率および高強度を有する絶縁基板からなり、放熱性と機械的強度の高い配線基板を提供する。
【解決手段】ガラスおよび／またはそれが結晶化したマトリックス中に、アスペクト比が４以上、かつ配向度が５０％以上のセラミックフィラーを分散してなるガラスセラミックスからなる絶縁基板２の表面および／または内部に配線層３を形成してなる半導体素子収納用パッケージ（配線基板）１を作製する。 （もっと読む）

【課題】 価格および形状制約の問題が生じず、ハロゲン系プラズマに対する耐性が高い耐食性セラミック材料を提供すること。
【解決手段】 周期律表３Ａ族に属する元素のうち少なくとも１種の元素と周期律表４Ａ族に属する元素のうち少なくとも１種の元素とを含む酸化物を主体とすることで、耐食性のセラミックス材料が得られる。 （もっと読む）