【課題】絶縁基体と、この絶縁基体内に埋設された発熱抵抗体とを備え、耐久性の良好なセラミックヒータの製造方法、及びこのようなセラミックヒータを有するグロープラグの製造方法を提供する。
【解決手段】焼成により絶縁基体１０の一部となる第１成形体３０及び焼成により発熱抵抗体１１となる未焼成発熱抵抗体３３を有する半成形体３４を成形する半成形体成形工程と、焼成により絶縁基体１０の残部となる第２成形体３５を、半成形体３４と一体に成形する第２成形体成形工程とを備え、未焼成発熱抵抗体３３の未焼成曲げ返し部３２は、一部が第１成形体３０中に埋められる一方、残部が第１成形体３０から突出しており、半成形体成形工程は、少なくとも、未焼成曲げ返し部３２と成形体後側部５５との後側境界５７において、第１成形体３０から突出した後側高さＨＨ２が第１成形体中に埋められた後側深さＨＤ２よりも小さい形態に、半成形体３４を成形する。 （もっと読む）

【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、比較的低温で、かつ、無加圧下でも製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の快削性セラミックスは、快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、焼結助剤としてのアルミノケイ酸塩粉体と、基材としてのセラミックス粉体（ただし六方晶系窒化ホウ素及びアルミノケイ酸塩は除く）との混合物の焼結体からなり、前記六方晶系窒化ホウ素粉体の粒子には表面のみならず内部にも酸素が含まれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】六方晶系窒化ホウ素を快削性付与剤として含み、より低温で焼成可能であって、かつ、無加圧下で製造が可能な快削性セラミックス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】粒子の表面のみならず内部にも酸素が含まれている快削性付与剤としての六方晶系窒化ホウ素粉体と、基材としてのセラミックス粉体（ただし六方晶系窒化ホウ素は除く）とを混合して焼結用混合粉とし（混合工程）、該焼結用混合粉を圧力成形してプレ成形体とし（プレ成形工程）、プレ成形体を非酸化性ガス雰囲気下又は真空中において焼結する（焼結工程）。 （もっと読む）

【課題】誘導加熱方式のホットプレス用焼成炉を用いたセラミック焼結体の製造において、セラミック焼結体の品質のバラツキを抑制すること。
【解決手段】誘導加熱方式の焼成炉１内に設けられた焼成室５内にセラミック粉末からなる被焼成物を配置し、一対の加圧部３により被焼成物の加圧を行いつつ加熱して焼成物を得るセラミック焼結体の製造方法に関する。該加熱は、一対の加圧部３から選ばれる少なくとも一方の加圧部３における加圧軸方向の両端部および中間部から選ばれるいずれかの部分に、加圧軸方向における常温での熱伝導率が焼成室５を構成する部材の熱伝導率の１０％以下となる低熱伝導材８を配置して行う。 （もっと読む）

本発明は、特にセラミック焼結部品の製造のための粒状粉体であって、乾燥物質を基準として、重量による次の化学組成、すなわち：２５℃以下のガラス転移温度を有する少なくとも１％の第１バインダー；２５℃超のガラス転移温度を有する０〜４％の追加のバインダー；第１バインダーおよび追加のバインダーとは異なる０〜４％の一時添加剤であって、第１バインダー、追加のバインダーおよび一時添加剤の合計含有率が９％未満である一時添加剤；セラミック材料を焼結するための０〜１５％の添加剤；少なくとも２％の不純物；ならびに１００％となるまでの残分の、セラミック材料および任意的に前記セラミック材料を安定化する剤を含む前記粉体に関する。本発明によれば、この粉体の中央粒径Ｄ_５０は８０〜１３０μｍであり、パーセンタイル値Ｄ_９９．５は５００μｍ未満であり、顆粒の相対密度は３０％〜６０％である。 （もっと読む）

本発明は、負の熱膨張係数を有することを特徴とするセラミック成分と、カーボンナノフィラメントとを含む複合材料、複合材料の生成工程、および複合材料の、マイクロエレクトロニクス、精密工学部品、航空学、および航空宇宙産業における導電体としての利用に関する。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、トライボロジー向上成分を含む硬質非酸化物又は酸化物セラミック複合体部分に直接結合し且つこの部分と異なる、理論密度が少なくとも９５％の、少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック部分を含むハイブリッド物品を包含する。少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック部分は、炭化ケイ素、常圧焼結炭化ケイ素、液相焼結炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウム、及び窒化ケイ素からなる群の１つを含む。少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック複合体部分は、炭化ケイ素、常圧焼結炭化ケイ素、液相焼結炭化ケイ素、反応焼結炭化ケイ素、炭化タングステン、酸化アルミニウム、及び窒化ケイ素からなる群の１つを含む。いくつかの実施形態において、ハイブリッド物品は、理論密度が少なくとも９５％の、少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック体を調製すること；トライボロジー向上成分を含む、少なくとも１つの硬質非酸化物又は酸化物セラミック複合体を調製すること；これらの体（セラミック体及びセラミック複合体）をお互いに接触させて配置し、ハイブリッド物品を形成すること；並びにハイブリッド物品を処理し、これらの体（セラミック体及びセラミック複合体）を直接結合させることによって形成される。いくつかの実施形態において、ハイブリッド物品の処理は、熱間等静圧圧縮成形、常圧焼結、液相焼結又は反応焼結を含んでもよい。
（もっと読む）

【課題】
導電性付与剤を構成する導電性化合物粒子が焼結体中に均一に分散しておらず、磁気ヘッド用基板として放熱性が低く、磁気ヘッドに形成されたコイルから発熱した熱により磁気ディスクに保存された記録を破壊しやすい。
【解決手段】
主成分であるアルミナと、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗの群から選ばれる少なくとも１種以上の炭化物、窒化物または炭窒化物からなる導電性化合物粒子からなる導電性付与剤とを含む焼結体からなり、磁気ヘッド用素子を形成するための主面を有する磁気ヘッド用基板であって、上記導電性化合物粒子が上記主面から深さ１ｍｍまでの領域の主面に平行な面において分布密度５×１０^５個／ｍｍ^２以上に分散していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び高温における強度の面だけでなく、断熱性の面においても十分な性能を有する無機繊維質セラミックス多孔体及びそれを含む複合体、並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】実質的にＳｉ、Ｃ、及びＯからなる無機繊維結合セラミックス（６）と、無機繊維質セラミックス多孔体（５）とを含む無機繊維質セラミックス多孔体含有複合体であって、前記無機繊維結合セラミックス（６）と前記無機繊維質セラミックス多孔体（５）とが直接接合していることを特徴とする無機繊維質セラミックス多孔体含有複合体である。 （もっと読む）

【課題】多孔質セラミックスにおいて、より黒色に近く、またＥＳＤ対策となりえる電気抵抗率を有する、連続した開気孔を持つものを得ること。
【解決手段】アルミナとムライトを主成分とし、チタニアと炭化チタンを副成分としてなる多孔質セラミックスを作製することで、課題を解決した。出発原料の組成や焼結の雰囲気などを制御することにより、連続した開気孔を持つセラミックスに、十分に低い面粗度、ＥＳＤを引き起こさない半導電性、光学機器でのハレーション対策となる黒に近い色調を与えることができる。 （もっと読む）

【課題】セラミック焼結体の表面に十分な厚み有し密着性の高い硬質被膜を形成でき、高い耐摩耗性や長寿命を実現できるセラミック焼結体、被覆セラミック焼結体、切削インサート、及び切削工具を提供すること。
【解決手段】非導電性セラミックスを主体とし、導電性の硬質成分として、タングステン及び／又はチタンの炭化物、窒化物、炭窒化物を含むセラミック焼結体１に対して、物理蒸着法によってセラミック硬質膜２を被覆して被覆セラミック焼結体を作製し、この被覆セラミック焼結体により切削インサート３を構成する。このセラミック焼結体１は導電性を有しているので、物理蒸着法によってセラミック焼結体の表面に十分な膜厚を有し強固に密着するセラミック硬質膜２を形成することができる。従って、この被覆セラミック焼結体からなる切削インサート３は、高い耐摩耗性を有し長寿命を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】高靭性であり、耐摩耗性にも優れ、更に切削性能が高く、加圧焼結に拠らずに製造することのできるアルミナ基セラミック焼結体、切削インサート及び切削工具を提供すること。
【解決手段】タングステン、チタン、炭素及び窒素を含む硬質粒子と、酸化アルミニウム粒子とを含むアルミナ基セラミック焼結体であって、前記アルミナ基セラミック焼結体中に含まれる全硬質粒子のうちの一部が針状粒子であることを特徴とするアルミナ基セラミック焼結体、そのアルミナ基セラミック焼結体を使用する切削インサート、その切削インサートを使用する切削工具。 （もっと読む）

【課題】触媒担持体として用いられるセラミックハニカム構造体の暖機性と保温性を向上させ、排気ガス浄化性能に優れたセラミックハニカム構造体を提供すること。
【解決手段】隔壁の内部及び表面の何れか又は両方に、隔壁を形成する材料より、熱容量が大きく、且つ、熱伝導率が大きい、物質が含有されているセラミックハニカム構造体の提供による。 （もっと読む）

本発明は、マトリックス材料中に分散させた、第１の超硬質又は硬質粒子材料と、少なくとも１つの第２の超硬質又は硬質粒子材料とを含む超硬質又は硬質複合材料を提供する。第１の超硬質又は硬質粒子材料の熱膨張率は、マトリックス材料の熱膨張率よりも低く、少なくとも１つの第２の超硬質又は硬質粒子材料の熱膨張率は、マトリックス材料の熱膨張率よりも高い。 （もっと読む）

【課題】従来のアルティック焼結体に比べて、チッピングの発生を抑制することができると共に、研磨速度が十分に高く、且つエアベアリング面が十分に平滑となる焼結体を提供すること。
【解決手段】本発明の焼結体は、Ａｌ_２Ｏ_３と、下記化学式（１）で表される化合物と、Ａｌ及びＴｉを含む複合酸化物と、からなる。
ＴｉＣ_ｘＯ_ｙ （１）
［式（１）中、ｘ＋ｙ≦１、ｘ＞０、ｙ＞０。］



（もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドスライダの製造における研磨加工において、高い研磨加工性が得られるとともに、加工面のボイドの発生を抑制することも可能な焼結体を提供すること。
【解決手段】 本発明の焼結体は、Ａｌ_２Ｏ_３、ＴｉＣＯ、Ａｌ及びＴｉを含む複合酸化物並びにＣの結晶相を少なくとも含む。 （もっと読む）

【課題】従来のアルティック焼結体に比べて研磨速度が十分に高く、且つエアベアリング面が十分に平滑となる焼結体を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３１１０と、下記化学式（１）で表される化合物と、からなる焼結体２とする。ＴｉＣ_ｘＯ_ｙ１２０（１）［式（１）中、ｘ＋ｙ≦１、ｘ＞０、０．３＜ｙ≦０．６。］該焼結体２は、Ａｌ_２Ｏ_３１１０、ＴｉＣ及びＴｉＯ_２を含み、前記ＴｉＯ_２の含有率が１２〜２４質量％である原料粉末を、１００ｋｇｆ／ｃｍ^２未満の圧力でホットプレスする工程を備える焼結体２の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと記録媒体との接触を抑制することができる磁気ヘッド用基板および磁気ヘッドならびに磁気記録装置を提供する。
【解決手段】 Ａｌ_２Ｏ_３を６０〜７０質量％、ＴｉＣを３０〜４０質量％含有する磁器ヘッド用基板７、７′であって、平均結晶粒径が４００ｎｍ以下のＡｌ_２Ｏ_３結晶粒子７９と平均結晶粒径が２００ｎｍ以下のＴｉＣ結晶粒子７７を有するとともに、任意断面の１０μｍ×８μｍの領域に、Ａｌ_２Ｏ_３結晶粒子７９に内包されたＴｉＣ結晶粒子７７ａが２０個以上存在する。 （もっと読む）

【課題】 加工時（切断、トリミングやエッチング）における脱粒を抑制することができる磁気ヘッド用基板、およびスライダからの脱粒を抑制することができる磁気ヘッドならびに磁気記録装置を提供する。
【解決手段】 アルミナを６０〜７０質量％、炭化チタンを３０〜４０質量％含有する焼結体からなる磁気ヘッド用基板であって、任意断面の１０μｍ角における炭化チタン結晶粒子７７とアルミナ結晶粒子７９との間の全界面平均長さが１２０μｍ以上である。ここで、任意断面の１０μｍ角に存在する炭化チタン結晶粒子７７の平均個数が５００個以上であることが望ましく、アルミナ結晶粒子７９の平均粒径は０．２５μｍ以下であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】基体上での抵抗率分布を大幅に改善するスパッタリングターゲットの作製方法及びそれを用いる透明導電膜形成方法を提供する。
【解決手段】亜鉛、および、Ａｌ、Ｉｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｓｃ、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＭｏおよびＶからなる群より選ばれた２種以上の元素をそれぞれ０．１から８原子％、および、Ｃを０．１〜１０原子％含有されてなる複合物、もしくは、Ａｌ、Ｉｎ、Ｂ、Ｇａ、Ｓｃ、Ｓｉ、Ｙ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＭｏおよびＶからなる群より選ばれた１種以上の元素をそれぞれ０．１から８原子％含有してなるＺｎＯ系複合酸化物に、炭化珪素、炭化硼素、炭化バナジウム、炭化モリブデン、炭化ハフニウムおよび炭化チタンからなる群より選ばれた１種もしくは２種以上の炭化物を０．１〜５重量％添加されてなる複合物焼結体を用いることを特徴とする。 （もっと読む）