【課題】アーキング発生頻度を低減するスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明では、インジウム、スズ及び酸素を含んでなり、少なくともＩｎ_２Ｏ_３相と中間化合物相を有する焼結体であって、スズの含有量がＳｎＯ_２換算で、ＳｎＯ_２／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２）で１０重量％以上１５重量％以下の場合、Ｘ線回折スペクトルにおける中間化合物相の（０１２）面又は（０２１）面とＩｎ_２Ｏ_３相の（２１１）面との回折ピーク強度の比をそれぞれ３．０％以下とし、スズの含有量がＳｎＯ_２換算で、ＳｎＯ_２／（Ｉｎ_２Ｏ_３＋ＳｎＯ_２）で１５重量％より大きく２０重量％以下の場合、Ｘ線回折スペクトルにおける中間化合物相の（０１２）面又は（０２１）面とＩｎ_２Ｏ_３相の（２１１）面との回折ピーク強度の比がそれぞれ９．０％以下とすることで、放電中のアーキングの発生率が低減する。 （もっと読む）

【課題】半田の広い温度範囲で、作業上十分な半田の濡れ性を確保できるとともに、耐溶食性に優れた半田ごてチップを提供する。
【解決手段】酸化アルミニウムに鉄を含有させた酸化アルミニウムセラミックスによって構成される半田ごてチップ１であって、酸化アルミニウムセラミックスにおける酸化アルミニウムの粒径は、０．８μｍ以上１．５μｍ以下である。この粒径の制御により、半田溶融時における静止接触角度は、半田の濡れ性が良好な８０〜１００度になる。 （もっと読む）

本発明は、マトリックス材料中に分散させた、第１の超硬質又は硬質粒子材料と、少なくとも１つの第２の超硬質又は硬質粒子材料とを含む超硬質又は硬質複合材料を提供する。第１の超硬質又は硬質粒子材料の熱膨張率は、マトリックス材料の熱膨張率よりも低く、少なくとも１つの第２の超硬質又は硬質粒子材料の熱膨張率は、マトリックス材料の熱膨張率よりも高い。 （もっと読む）

【課題】ＰＭの高い捕集効率と低圧力損失をより高いレベルで兼ね備えるセラミックフィルタ、その製造方法、及びその評価方法を提供すること。
【解決手段】外周壁４と、その内側においてハニカム状に設けられた多孔質の隔壁２と、これにより仕切られていると共に少なくとも部分的に両端面に貫通してなる複数のセル３とを有するセラミックフィルタ１、その製造方法、及びその評価方法である。
セラミックフィルタ１の隔壁２の断層面をＸ線ＣＴスキャンにより所定の間隔で撮影する。得られる各断層面において、複数の上記断層面に渡って存在し、かつ隔壁２の一方の表面から他方の表面までを貫通する細孔を連通孔とする。各断層面毎に上記連通孔の数を測定し合計した連通孔数を算出したとき、単位体積当たりの連通孔数が所定値以上のセラミックフィルタ１を排ガス浄化用として採用する。好ましくは単位体積当たりの連通孔数は７．５×１０⁴本／ｍｍ³以上である。 （もっと読む）

【課題】 大型の基板であっても撓みが少なく確実に基板を吸着して搬送できる剛性の優れた吸着搬送部材およびこれを用いた基板搬送装置ならびにこの基板搬送装置を用いた基板処理装置または基板検査装置を提供する。
【解決手段】 先端側が二股に分岐した板状体７の各先端部に基板８を吸着する第１の吸着部３_（１）を備えるとともに、第１の吸着部３_（１）と連通する吸引路４を内設してなる吸着搬送部材１において、板状体７は酸化アルミニウムの含有量が99.5質量％以上のセラミックスからなり、このセラミックスは、酸化カルシウム，酸化珪素および酸化マグネシウムを含み、酸化カルシウム，酸化珪素および酸化マグネシウムの合計100質量％に対して、酸化カルシウムおよび酸化珪素の含有量はそれぞれ20質量％以上37.5質量％以下であって残部が酸化マグネシウムであるとともに、酸化アルミニウムの平均結晶粒径が2.5μｍ以下である吸着搬送部材１である。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が向上したスパークプラグ用アルミナ焼結体及びその製造方法、並びにスパークプラグ用アルミナ基焼結体を備えるスパークプラグ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミナと、希土類酸化物と、焼結助剤に含まれる金属の酸化物とを含むスパークプラグ用アルミナ焼結体において、アルミナを９０〜９８質量％、希土類酸化物を０．２〜４質量％、残部に焼結助剤に含まれる金属の酸化物を含み、粒界中の非ガラス質物の平均粒径が５μｍ以下でかつ最大粒径１０μｍ以下であるスパークプラグ用アルミナ焼結体であり、アルミナを９０〜９８質量％と、希土類酸化物を０．２〜４質量％と、残部として平均粒径が０．５μｍ≦Ｄ５０≦２μｍである焼結助剤とを焼結する。 （もっと読む）

【課題】従来の着色透光性アルミナ焼結体は、破壊靭性及び透光性が低いため、歯科用部材など高い靭性値が要求される用途には適していなかった。
【解決手段】遷移金属酸化物含み、破壊靭性が４．５ＭＰａ・ｍ^０．５以上、且つ波長３００〜８００ｎｍに対する全光線透過率（試料厚さ１ｍｍ）の最大値が６０％以上である着色透光性アルミナ焼結体を提供する。アルミナと共晶点を有する遷移金属を有するアルミナ焼結体を常圧焼結及びＨＩＰ処理し、長軸長さ１０μｍ以上、アスペクト比１．５以上の異方性粒子を２０％以上含む焼結体を得る。 （もっと読む）

比較的高い気孔率および制御された細孔径を有するコージエライト体が開示されている。多孔質コージエライト体は一般に、ここに定義された主要コージエライトセラミック相を含む。このコージエライト体を製造する方法および使用する方法も開示されている。
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【課題】アルミナに遷移金属酸化物を添加し、着色透光性アルミナを作製する方法は従来から良く知られていたが、焼結体の破壊靭性値が低いという課題があった。そのため歯科用部材など高い靭性値が要求される用途には適していなかった。
【解決手段】遷移金属酸化物、及び１Ａ族アルカリ金属酸化物、２Ａ族アルカリ土類金属酸化物、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５、ＧｅＯ_２の群から選ばれるうち少なくとも１種類以上の酸化物を含み、破壊靭性が４．５ＭＰａ・ｍ^０．５以上、且つ波長３００〜８００ｎｍに対する全光線透過率（試料厚さ１ｍｍ）の最大値が６０％以上である着色透光性アルミナ焼結体を提供する。異方性粒子からなる焼結体であり、長軸長さ１０μｍ以上、アスペクト比１．５以上の異方性粒子を２０％以上含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】セラミックス基板を緻密に焼成すること。
【解決手段】本発明のセラミックス基板は、非晶質ガラス相１１、アルミナ粒子１２、及びアルミナ以外の結晶粒子１３を有するセラミックスからなり、このセラミックスにおけるＳＥＭ画像において、粒子の最小幅に対する最大幅の比であるアスペクト比の値が１．５以下のアルミナ粒子１２の個数が９０％以上であり、且つ、ＳＥＭ画像において、最大幅１．５μｍ以下のアルミナ粒子１２が１５％以下であることを特徴とする。上記アルミナ粒子１２を用いることにより、セラミックス基板内にアルミナ粒子以外の結晶粒子１３が存在しても、ガラス融液がアルミナ粒子を十分に濡らすことができるようになる。これにより、セラミックス基板を緻密に焼成させることができる。 （もっと読む）

【課題】透光性アルミナ焼結体では、靭性が低いため歯科材料、特に歯列矯正ブラケット等に用いた場合強度が十分でなかった。
【解決手段】ランタノイド、ジルコニア及びイットリアの群から選ばれる少なくとも１種以上の酸化物を総量で１００〜１０００ｐｐｍ、１Ａ族アルカリ金属酸化物、２Ａ族アルカリ土類金属酸化物、ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｐ_２Ｏ_５及びＧｅＯ_２Ｂの群から選ばれる少なくとも１種以上を総量で２０〜１０００ｐｐｍ含有するアルミナを常圧焼結及び１５５０℃以上でＨＩＰ処理した焼結体では、破壊靭性が４．５ＭＰａ・ｍ^０．５以上、波長６００ｎｍの可視光に対する全光線透過率（試料厚さ１ｍｍ）が６０％以上となり歯科材料用途に優れている。 （もっと読む）

【課題】 ＭＨｚ〜ＧＨｚ帯における誘電正接を小さくできるアルミナ質焼結体ならびに半導体製造装置用部材、液晶パネル製造装置用部材および誘電体共振器用部材を提供する。
【解決手段】 ＡｌをＡｌ_２Ｏ_３換算で９９．３質量％以上含有するとともに、元素としてＳｉ、ＡｌおよびＭ（Ｍはアルカリ土類金属）を含有し、アルミナ結晶粒子１を主結晶粒子とするアルミナ質焼結体であって、該アルミナ質焼結体の任意断面におけるアルミナ結晶粒子１で構成される３重点２に、元素としてＳｉ、Ａｌ、ＭおよびＯを含有する結晶相、または元素としてＳｉ、Ａｌ、ＭおよびＯを含有する非晶質相が存在するとともに、アルミナ結晶粒子１で構成される３重点２のうち１０％以上の３重点に、元素としてＳｉ、Ａｌ、ＭおよびＯを含有する結晶相が存在する。 （もっと読む）

【課題】耐食性、耐熱衝撃抵抗性及び耐久性に優れたアルミナ質焼結体、その製造方法及び該アルミナ質焼結体よりなる熱処理用部材の提供。
【解決手段】（ａ）アルミナ含有量が９９．５重量％以上からなるアルミナ質焼結体であって、（ｂ）かさ密度が３．７ｇ／ｃｍ^３以上であり、（ｃ）平均結晶粒径が２０〜７０μｍで、（ｄ）焼結体のひとつの面とその面に垂直な面の結晶粒子の長径／短径が共に２．０以上であり、（ｅ）ひとつの面とその面に垂直な面で結晶粒子の長径／短径が大きい方の面の長径／短径：Ｒ１と小さい方の面の長径／短径：Ｒ２の比：Ｒ１／Ｒ２が１．０〜２．０であることを特徴とする耐食性、耐熱衝撃抵抗性及び耐久性に優れたアルミナ質焼結体、その製造方法及び該アルミナ質焼結体よりなる熱処理用部材。 （もっと読む）

【課題】 本発明の態様は、快削性、高い曲げ強度、ヤング率、優れた加工精度が発現する快削性セラミックス複合材料を提供する。
【解決手段】 セラミックス粒子により構成されるマトリックスの粒界にh-BNが存在している快削性セラミックス複合材料であり、その快削性セラミックス複合材料に存在するh-BNの最大粒径が22μm未満とし、快削性セラミックス複合材料中の粒界に存在するh-BN量を測定したときの面積比の標準偏差が0.15以下を特徴とする快削性セラミックス複合材料とすることで、快削性、高い曲げ強度、ヤング率、優れた加工精度が発現する快削性セラミックス複合材料を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 磁気ヘッドと記録媒体との接触を抑制することができる磁気ヘッド用基板および磁気ヘッドならびに磁気記録装置を提供する。
【解決手段】 Ａｌ_２Ｏ_３を６０〜７０質量％、ＴｉＣを３０〜４０質量％含有する磁器ヘッド用基板７、７′であって、平均結晶粒径が４００ｎｍ以下のＡｌ_２Ｏ_３結晶粒子７９と平均結晶粒径が２００ｎｍ以下のＴｉＣ結晶粒子７７を有するとともに、任意断面の１０μｍ×８μｍの領域に、Ａｌ_２Ｏ_３結晶粒子７９に内包されたＴｉＣ結晶粒子７７ａが２０個以上存在する。 （もっと読む）

【課題】酸化マグネシウム焼結体を蒸着材として成膜する際にエネルギー効率が高く、かつ成膜時のスプラッシュ発生を抑止することが可能な酸化マグネシウム焼結体を提供する。
【解決手段】水銀圧入式細孔分布測定により計測した見掛け密度と細孔容積が、下記a1〜e1点を順に結ぶ範囲内にあることを特徴とする酸化マグネシウム焼結体。当該焼結体はプラズマディスプレイパネルの保護膜用蒸着材として好適に利用できる。
a1点：見掛け密度3.26g/cm³，細孔容積0.00cm³/g
b1点：見掛け密度3.58g/cm³，細孔容積0.04cm³/g
c1点：見掛け密度3.58g/cm³，細孔容積0.05cm³/g
d1点：見掛け密度1.80g/cm³，細孔容積0.05cm³/g
e1点：見掛け密度1.80g/cm³，細孔容積0.00cm³/g （もっと読む）

【課題】クーロン型とジョンソン・ラーベック型の中間の体積抵抗率に調整することができ、しかも耐食性に優れた酸化アルミニウム焼結体を提供する。
【解決手段】本発明の酸化アルミニウム焼結体は、主成分である酸化アルミニウムの粒子同士の間に希土類元素とフッ素とを含む相が層状に存在するもの、又は、主成分である酸化アルミニウムの粒子同士の稜に沿って希土類元素とフッ素とを含む相が存在するものである。この酸化アルミニウム焼結体は、ＳＥＭ画像を見たときに、酸化アルミニウムの粒子同士の間に希土類元素とフッ素元素とを含む相が局所的に点となって存在するのではなく、線分をなすように存在している。また、本発明の酸化アルミニウム焼結体は、室温において２ｋＶ／ｍｍの電圧を印加して１分経過後の電流値から算出した体積抵抗率を１×１０¹³〜１×１０¹⁶Ω・ｃｍの範囲に容易に調整することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットとして用いた場合に、スパッタリング中の異常放電現象を著しく抑制することが可能な酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】（Ａ）酸化亜鉛を含有し平均粒径が１０μｍ以下の六方晶系ウルツ型構造を有する粒子、および（Ｂ）金属元素Ｍ（Ｍはアルミニウム等を示す）を含有し最大粒径が５μｍ以下のスピネル構造を有する粒子からなる複合酸化物焼結体であって、当該焼結体を構成する亜鉛と金属元素Ｍが原子比で表したときにＭ／（Ｚｎ＋Ｍ）＝０．００６〜０．０７であり、かつ、当該焼結体中のスピネル構造を有する粒子同士の粒子間距離は０．５μｍ以上のものが個数頻度で１０％以上である複合酸化物焼結体をスパッタリングターゲットとして成膜に使用する。 （もっと読む）

【課題】圧電特性を向上させた圧電セラミック材料と、この圧電セラミック材料を用いてなるアクチュエータを提供する。
【解決手段】圧電セラミック材料１０は、平均径が４〜１５０ｎｍの空孔１２が略均一に分散した圧電性結晶粒子１１からなる。空孔１２の平均径は、好ましくは、６５〜１０５ｎｍである。また、圧電性結晶粒子１１の任意断面における空孔１２の面積は、好ましくは、任意断面の全面積の６．５〜１２％である。圧電セラミック材料１０は、積層型圧電アクチュエータ等に好適である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化ニッケルが均一に分散してなる酸化ニッケル−安定化ジルコニア複合酸化物及び該複合酸化物を簡便に製造する方法並びに優れた出力特性を有する固体酸化物型燃料電池用燃料極を提供する。
【解決手段】水酸化ニッケル及び／又は炭酸ニッケルと安定化ジルコニウムの水酸化物との混合物を焼成してなることを特徴とする酸化ニッケル−安定化ジルコニア複合酸化物。 （もっと読む）