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Fターム[4G030CA04]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 構造 (2,852) | 結晶粒の形、大きさ (459)

Fターム[4G030CA04]に分類される特許

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【課題】発光ダイオードを小型薄型化することができる反射特性を向上させたセラミックスを提供すること。
【解決手段】本発明では、反射板及び同反射板を用いた発光ダイオード(1)並びにそのパッケージ(2)において、アルミナとジルコニアとの混合物を焼成したセラミックスを用いることにした。特に、前記ジルコニアの含有量を20〜50重量%とし、また、前記ジルコニアの粒径をアルミナの粒径よりも小さくし、或いは、前記アルミナとジルコニアとの混合物にバリウム化合物を2〜5重量%添加することにした。なお、発光ダイオード(1)は、発光ダイオード素子(3)を実装するためのベース体(4)の上部に、反射面(9)を有する開口(8)を形成したカバー体(5)を貼着した発光ダイオード用パッケージ(2)を用いた構造とした。 (もっと読む)


【課題】アルミナベースの高度に透明セラミックを得る非常に簡単化された製造方法を与える。
【解決手段】
粒子サイズが300nmよりも細かな、高度に透明なアルミナセラミックを高圧放電焼結によって作成した。印加圧力が500MPaの場合、950℃〜1000℃という低温で、60%よりも高い実直線透過率(波長645nm)を持つ高度に透明なアルミナが得られた。高圧を印加することによって、高度に透明で最大限に稠密なアルミナを低温で、かつ大きな粒子成長を伴うことなく得ることができた。 (もっと読む)


【課題】酸化マグネシウム又は酸化ゲルマニウムと酸化ビスマスとを主成分とする光メディアの記録層を高速成膜できる、耐電力特性の高いスパッタリングターゲット及び製造方法を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウム又は酸化ゲルマニウムを主成分とするマトリクス、及び、前記マトリクス中に分散した酸化ビスマス粒子を備え、充填率が高い成形法と粒成長抑制効果のある昇温速度と温度で焼成した、酸化ビスマス粒子の平均粒径が0.2〜0.7μmであるスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】熱応力を抑制することができると共に炉芯管内で処理される被熱処理材料から発生する強アルカリ成分との反応を抑制し、耐用寿命を長くすることができ、工業上実用性の高い炉芯管及びこれを用いた炉芯管複合部材の提供。
【解決手段】本発明に係る炉芯管は、アルミナ、マグネシアもしくはアルミナ及びマグネシアのいずれかを主成分としSiO、ZrO、MgO、Alのうち前記主成分とは異なる1種以上を含む複合材のいずれか1種の酸化物材料からなり、内表面から前記厚さ方向に少なくとも30μmの深さ領域で、0.1μm以上1μm以下の孔径が80Vol%以上となる微細孔径分布層20を有し、前記微細孔径分布層よりも深い外周側に0.5μm以上2μm以下の孔径が60Vol%以上となる粗孔径分布層21を有する。 (もっと読む)


【課題】パーティクルやノジュールを低減し、量産性を向上した硫化亜鉛−ケイ酸化物を主成分とする相変化型光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】硫酸根量(SO)が0.05〜0.35wt%の硫化亜鉛粉とケイ酸化物のメジアン粒径を各Aμm、Bμmとし、ケイ酸化物の混合比をMmol%とし、0.1μm<A<10μm、0.5μm<B<15μm、15mol%≦Mの範囲で、1.4≦B/Aを満たし、かつ比表面積が各Cm/g、Dm/gであり、ケイ酸化物の混合比をMmol%とし、5m/g≦C≦40m/g、0.5m/g≦D≦15m/g、15mol%≦Mの範囲で、3.5≦C/Dを満たし、さらに粒径A換算比表面積をEm/gとしたとき15≦C/Eであり、粒径B換算比表面積をFm/gとしたときD/F≦5である硫化亜鉛粉とケイ酸化物粉を均一混合分散した粉体を用いる。 (もっと読む)


【課題】高周波領域で使用するための誘電体、特に誘電体共振器、電子周波数フィルタ素子、またはアンテナ素子として特に適するガラスセラミックを提供する。
【解決手段】ガラスセラミックは、酸化物基準のモル%で、少なくとも、5〜50%のSiOと、0〜20%のAlと、0〜25%のBと、0〜25%のBaOと、10〜60%のTiOと、5〜35%のREとを構成成分として有する。ここで、Baは部分的にSr、Ca、Mgで置換でき、REはランタニドまたはイットリウムであり、Tiは部分的にZr、Hf、Y、Nb、V、Taで置換できる。 (もっと読む)


【課題】比較的低い温度での焼成でも安定して焼成可能な大きな結晶粒子を含む圧電磁器およびそれを用いた圧電素子を提供する。
【解決手段】組成式を(1−α){(K1−xNa1−yLi}NbO+αBi(Mg2/3Nb1/3)Oと表したとき、0.46≦x≦0.56、0.03≦y≦0.06、0.0045≦α≦0.0055である成分100質量部に対して、MnをMnO換算で0.0〜0.5質量部含有することを特徴とする圧電磁器1を用いる。 (もっと読む)


【課題】スパッタリング法により透明導電性酸化物を成膜する際のノジュールの発生を抑制し、安定にスパッタリングを行うことのできるターゲット、このようなターゲットからなる透明導電性酸化物、およびこのようなターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも酸化インジウムおよび酸化亜鉛を含有してなるスパッタリングターゲットにおいて、In/(In+Zn)で表わされる原子比を0.75〜0.97の範囲内の値とするとともに、In23(ZnO)(ただし、mは2〜20の整数である。)で表される六方晶層状化合物を含有し、かつ、該六方晶層状化合物の結晶粒径を5μm以下の値とし、酸化インジウムを67〜93重量%の範囲、酸化錫を5〜25重量%の範囲、および酸化亜鉛を2〜8重量%の範囲で含むとともに、錫/亜鉛の原子比を1以上の値とすることを特徴とするスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】多孔質体の焼結過程を最初から最後まで正確にシミュレーションすることができるシミュレーション方法を提供する。
【解決手段】シミュレーション装置1は、各面の四方が円柱で囲まれた立方体の形状を有するユニットセルの集合体を多孔質体のモデルとして仮定したSchererモデル、またはM−Sモデルを用いて、多孔質体の焼結速度を算出し、算出した焼結速度に基づいて、塑性変形の項、焼結収縮の項、および自重の項を含む有限要素方程式の解を算出し、算出した有限要素方程式の解に基づいて、多孔質体の変化量を算出することを所定の計算時間刻みによって所定の終了条件を満たすまで繰り返す。 (もっと読む)


【課題】菱面体晶構造と正方晶構造を混在させた良好な圧電性を有する圧電薄膜および圧電素子を提供する。
【解決手段】ペロブスカイト型金属酸化物よりなる圧電薄膜であって、前記ペロブスカイト型金属酸化物の結晶系が少なくとも菱面体晶構造と正方晶構造を有する混在系であり、かつ前記正方晶構造のa軸長とc軸長の比が1.15≦c/a≦1.30である圧電薄膜。基板上に、圧電薄膜と、該圧電薄膜に接して設けられた一対の電極とを有する圧電素子であって、前記圧電薄膜が上記の圧電薄膜である圧電素子。 (もっと読む)


【課題】安定して成膜でき、割れやアーキングが生じ難いスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】相対密度99%以下の酸化亜鉛焼結体からなり、スパッタリングの雰囲気に曝される主面11aにおいて、面内の明度差ΔL*が5以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット11。平均粒径が15μm以下であり、前記主面11aの最大高さRzが平均粒径の1/2以下である。また、成形時の外形から少なくとも10mmを生加工代として加工除去してなるCIP成形体を焼結してなる酸化亜鉛焼結体からなる。 (もっと読む)


【課題】工業的規模の量産においても、リチウム二次電池用正極活物質として用いたとき、十分な充放電特性が得られるリチウムニッケル複合酸化物を安定して提供する。
【解決手段】炭酸ガス分圧が10Pa以下の雰囲気中で水酸化リチウムとニッケル複合酸化物との混合物を乾燥させて、真空中200℃で8時間保持した場合に、該混合物の質量減少率が5質量%以下となるようにする乾燥工程と、450〜650℃の酸素濃度80容量%以上の雰囲気中で乾燥後の前記混合物を拡散反応させる反応工程と、反応工程を経た前記混合物を焼結させる焼結工程を具備する製造方法によって得られる。 (もっと読む)


【課題】SiO系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに前記スパッタリングターゲットを用いた光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】一般的なアルミナ粉末で作製された成形体を低温で焼結する。
【解決手段】本発明のアルミナ焼結体の製法は、(a)少なくともAl23とMgF2との混合粉末又はAl23とMgF2とMgOとの混合粉末を所定形状の成形体に成形する工程と、(b)該成形体を真空雰囲気下又は非酸化性雰囲気下でホットプレス焼成してアルミナ焼結体とする工程であって、Al23100重量部に対するMgF2の使用量をX(重量部)、ホットプレス焼成温度をY(℃)としたときに下記式(1)〜(4)を満たすようにホットプレス焼成温度を設定する工程と、を含む。
1120≦Y≦1300 …(1),0.15≦X≦1.89 …(2)
Y≦−78.7X+1349 …(3),Y≧−200X+1212 …(4) (もっと読む)


【課題】ナノカーボン被覆耐火原料を使用した耐火物において、とくにその熱間強度を向上させること。
【解決手段】耐火原料粒子の表面の少なくとも一部にカーボンナノファイバーおよび/またはカーボンナノチューブが被覆されたナノカーボン被覆耐火原料を含む耐火原料配合物に有機樹脂を添加して混練し、得られた坏土を成形後熱処理して製造される耐火物であって、有機樹脂から得られる残炭量が耐火原料配合物全体の質量に対して1.2質量%以上10.0質量%以下であるナノカーボン被覆耐火原料を使用した耐火物。 (もっと読む)


【課題】耐食性、耐スポーリング性に優れ、十分な耐久性を有するマグネシア質耐火物を提供する。
【解決手段】マグネシア60〜90重量%、ジルコニア5〜20重量%、アルミナ5〜20重量%からなる配合物を焼成してなるマグネシア質耐火物。 (もっと読む)


【課題】高電界印加時の電界誘起歪を増加させたニオブ酸アルカリ系の圧電/電歪セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】圧電/電歪セラミックス焼結体は、組成が異なる母相と添加材相とが共存し母相の中に添加材相が分散した微構造を有する。母相単体の残留歪率よりも添加材相単体の残留歪率が大きい。母相及び添加材相は、一般式{Liy(Na1-xx1-ya(Nb1-z-wTazSbw)O3であらわされ、0.9≦a≦1.2,0.2≦x≦0.8,0.0≦y≦0.2,0≦z≦0.5及び0≦w≦0.1を満たす100モル部の組成物に、0モル部以上3モル部以下のMn原子を含有するMn化合物と、0モル部以上1モル部以下のCa原子を含有するCa化合物と、を含有させた組成を有する。母相の構成元素と添加材相の構成元素とを比較した場合に共通しない元素が0種類又は1種類である。 (もっと読む)


【課題】高電界印加時の電界誘起歪を増加させたニオブ酸アルカリ系の圧電/電歪セラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】圧電/電歪セラミックス焼結体は、組成が異なる母相と添加材相とが共存し母相の中に添加材相が分散した微構造を有する。母相単体の残留歪率よりも添加材相単体の残留歪率が大きい。母相及び添加材相は、一般式{Liy(Na1-xx1-ya(Nb1-z-wTazSbw)O3であらわされ、0.9≦a≦1.2,0.2≦x≦0.8,0.0≦y≦0.2,0≦z≦0.5及び0≦w≦0.1を満たす100モル部の組成物に、0モル部以上3モル部以下のMn原子を含有するMn化合物と、0モル部以上1モル部以下のBa原子を含有するBa化合物と、を含有させた組成を有する。母相の構成元素と添加材相の構成元素とを比較した場合に共通しない元素が0種類又は1種類である。 (もっと読む)


成形セラミック物品は、セラミックの前駆体の分散系からの所望の形状を、転写補助技法を用いて、受け取り面上にスクリーン印刷することによって得ることができ、該転写補助技法は、差圧を加え、スクリーン印刷された形状を少なくとも部分的に乾燥させ、かつそれらを焼成して成形セラミック物品を作製する。スクリーン印刷による形成の後にフローする又はクリープする傾向がある低粘度のゾル−ゲルを使用して製造された成形研磨粒子は、高粘度のゾル−ゲルを使用して製造されたスクリーン印刷された成形研磨粒子よりも高度な研磨性能を有することが見出された。 (もっと読む)


本発明は、セラミックスマトリックスとしての酸化アルミニウムと、その中に分散された酸化ジルコニウムとからなる複合材料、その製造法及びその使用に関する。 (もっと読む)


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