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Fターム[4G030GA32]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 焼結体の処理方法 (314)

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【課題】ニオブ酸系圧電磁器の実用化に際して問題となっている、斜方晶から正方晶への相転移温度を室温以下に降下させた圧電磁器を提供する。
【解決手段】Na、K、Li、Sr、Nb、Tiを主成分とするペロブスカイト化合物を主体とした圧電磁器であって、圧電磁器の組成が、モル比による組成式を、以下の式;
(1−x−y)KNbO+xNaNbO+y(LiNbO+SrTiO
とした時、x及びyの値が0.42≦x≦0.50、0.06≦y≦0.12を満たすことを特徴とする圧電磁器。
【効果】鉛を含まない環境低負荷型の新規ニオブ酸系圧電磁器、圧電素子及び圧電部材を作製し、提供することができる。 (もっと読む)


希土類酸硫化物シンチレータ用セラミック体を製造する方法は、圧密化物体を形成するための熱処理と、次のガス熱間等静圧圧縮成形(GHIP化)を含む。Mが希土類元素であり、LnがEu、Ce、Pr、Tb、Yb、Dy、Sm、およびHoからなる群から選択される少なくとも一つの元素であり、および1×10-6<X<2×10-1である一般式(M1-XLnX22Sを有する粉末が最初に用意される。粉末は、熱処理が温度Thtで行われる熱処理を受けて閉鎖気孔率を有する圧密化物体を形成する。圧密化物体は、1100℃<Thip<1500℃の温度Thipを有するGHIP化環境中で理論密度の99%以上の密度にGHIP化されて、それによって高密度化物体を形成する。 (もっと読む)


【課題】 鉛を含有せず高圧電定数を有するニオブ酸カリウムナトリウム系無鉛圧電セラミック及びその生成方法を提供する。
【解決手段】 構成成分が(1−n)KNa1−xNbO・nMH(式中のMHは金属酸化物または金属炭酸塩であり、Mは価数の異なる金属元素、HはOまたはCOラジカル、0.21≦x≦0.95、0≦n≦0.30)で示され、NaNbOとKNbOとの両者の合計は材料総量の70〜100wt%の間を占めており、併せて0〜30wt%のMHが複合されていることを特徴とするニオブ酸カリウムナトリウム系無鉛圧電セラミック。 (もっと読む)


【課題】溝の側面が曲面で繋がり、かつ、溝の長さ方向の深さのバラツキ、ならびに溝の開口部の幅の差が少なく、前記溝を分割用として形成したとき分割性に優れ、分割工程までの工程で割れが発生せず、分割した単体の抗折強度が低下しないセラミック部材を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の主面1aに溝2を有し、溝2の内面2aを、凹曲面をなす底部2bと、該凹曲面の両側に、前記凹曲面の曲率よりも大きな曲率の凸曲面をなす開口部2dを、連続的に配置させて形成してなるものであり、且つ、溝2の深さdの最大値d1と最小値d2の差を6μm以下であることを特徴とし、溝2を分割用の溝として用いると、分割性が向上するとともに、分割した側面が滑らかな連続する曲面状であることから、分割したセラミック部材1の単体の端部のチッピングの発生を防止できるとともに、単体におけるセラミック部材1の抗折強度の低下を防止できる。 (もっと読む)


【課題】 複屈折がなく、高屈折率を示すペロブスカイト型化合物を主成分とする透光性セラミックにおいて、研磨効率に優れるメカノケミカル研磨加工を行っても表面粗さが小さく、表面散乱による透過率低下の懸念の少ない透光性セラミックを得る。
【解決手段】 一般式:ABvw(vおよびwは電気的中性を保つために必要な正の数)で表されるペロブスカイト型化合物を主成分とし、SiO2およびB23のうち少なくとも1種を含む透光性セラミックであって、前記SiO2およびB23の合計の含有量が、前記主成分100重量部に対して0.0025重量部以上0.2重量部以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 室温から高温にわたって優れた機械的強度を有し、TPV発電機の作動温度での耐熱性、耐酸化性、耐熱衝撃性に優れ、かつ、GaSb光電変換セルに適した高い選択放射率を示す熱光起電力発電用エミッタ材料を提供する。
【解決手段】 本発明の熱光起電力発電用エミッタ材料は、熱により選択的な波長で強い放射光を発する熱光起電力発電用エミッタ材料であって、Alと、一般式(MEr1-xAl12で表わされるM(Mは、Yb及びTmのうち少なくとも1つ)、ErおよびAlの複合酸化物とから構成される凝固体からなり、前記xが0.05以上0.5以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
製造原価を低くでき、しかも性質が安定し、かつ人体の体温付近での遠赤外線放射性に優れた遠赤外線放射セラミックおよび該セラミックを含有する繊維、フィルムその他の成形物を提供する。
【解決手段】
SiO240〜50重量%、Al2325〜35重量%、Fe2315〜25重量%、TiO21〜5重量%、ZrO20.01〜2重量%およびPtO20.01〜1重量%の混合物で構成され、ケイ素原料としては珪石、珪砂、珪藻土、カオリナイト、モンモリナイト等を、アルミニウム原料としてはアルミナを、鉄原料としては酸化鉄を、チタン原料として酸化チタンを、白金原料として白金アルミナを、またジルコニウム原料としては酸化ジルコニウムを用いて製造される。 (もっと読む)


【課題】 複雑形状の回路基板において基板の放熱性を高めることにより、基板表面に実装される各種デバイスの効率を高めたアルミナ基板の提供を課題とする。
【解決手段】 中心粒径が0.3〜0.7μmの第1のアルミナ粉末20〜40質量%及び中心粒径が1.5〜2.8μmの第2のアルミナ粉末60〜80質量%からなるアルミナ粉末組成物を含有する成形用材料を成形・焼結することにより得られるアルミナ基板を用いる。 (もっと読む)


【課題】 IR温度依存性を劣化させることなく、卑金属を用いた内部電極層の端部酸化を改善できる結果、容量バラツキを改善することができる、積層セラミックコンデンサなどの積層セラミック電子部品を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 層間厚みが5μm以下の誘電体層と、卑金属を含む内部電極層とを有する積層セラミック電子部品を製造する方法であって、誘電体層用ペーストと、卑金属を含む内部電極層用ペーストとを、交互に100層以上配置した積層体を、還元性雰囲気下で焼成し、その後アニール処理する工程と、該アニール処理後の積層体を、酸素分圧P3が2.9×10−39 Paを超え6.7×10−24 Pa未満の強還元性雰囲気下で、300℃を超え600℃未満の保持温度T3で第1の熱処理をする工程と、該熱処理後の積層体を、酸素分圧P4が1.9×10−7Paを超え4.1×10−3Pa未満の雰囲気下で、500℃を超え1000℃未満の保持温度T4で第2の熱処理をする工程とを、有する積層セラミック電子部品の製造方法。
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【課題】金属製相手部品の磨耗が抑制されると共に、セラミックス焼結体からなる耐磨耗部材自体の磨耗が抑制され、より耐久性に優れた機器を提供すること。
【解決手段】窒化珪素、ジルコニア、炭化珪素、サーメット、サイアロン、窒化アルミニウムおよびアルミナの中から選択される少なくとも1種からなるセラミックス焼結体からなり、カムローラ、ベアリングボール、チェックボール、ウエアパッド、プランジャーまたはコロとして用いられる耐磨耗部材と、前記耐磨耗部材に少なくとも一部が接するように設けられる金属製相手部品とを有する機器であって、前記耐磨耗部材は、前記金属製相手部品との摺接面のスキューネスが0〜−2であり、かつ、前記摺接面から500μmの深さまでにポアが占める面積が単位面積(1mm)当たり5%を越えないもの。 (もっと読む)


【課題】 高硬度と高靭性とを両立できる複合焼結体を提供する。
【解決手段】Alと、TiC、TiNまたはTiCNの群から選ばれる少なくとも1種の化合物とで構成された長尺状の芯材4の外周を、Mgを含有したSi質焼結体からなる表皮材8にて被覆した繊維状構造からなる複合焼結体1である。
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【課題】
セラミックス材料を低反射材料として用いる場合、素材自体の反射率は低くても、加工によって高くなることがある。この加工によって高くなった反射率を素材のもつ反射率に戻した露光処理用基板保持盤を提供する。
【解決手段】
少なくとも基板保持側表面がセラミックスからなり、その基板保持側表面の彩度指数b*がプラスであり、明度指数L*が70以下で、かつ面粗度Raが0.6μm以下である露光処理用基板保持盤であり、好ましい態様において、基板保持側表面の光波長250〜550nmの範囲における全反射率は13%以下であり、また、基板保持側表面の彩度指数b*はプラスであり、セラミックスの主成分は、炭化硅素またはアルミナである。
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拡張された粒径分布を有する支持材混合物は、狭い粒径分布を有する従来の製品と比べて、例えば破砕強度および透過係数のような特性の改善を示す。 (もっと読む)


【課題】焼結体(一次焼結体)を所望の形状に容易かつ確実に修正し得る焼結体の形状修正方法を提供すること。
【解決手段】本発明の焼結体の形状修正方法では、治具20を用いて一次焼結体1の形状修正が行われる。治具20は、支持体21と押圧体22から構成されている。支持体21は、その上面21aが下方に向かって凹没する凹曲面となっており、押圧体22は、その下面22aが下方に向かって突出する凸曲面となっている。図1(a)に示すように、支持体21の上面21aに、一次焼結体1を載置し、この上面に押圧体22の下面22aが当接するようにして、押圧体22を載置する。これにより、押圧体22の自重によって、一次焼結体1が下方に向かって押圧される。この状態で、治具20ごと一次焼結体1に対して焼成を行う。これにより、図1(b)に示すように、一次焼結体1の形状修正がなされ、二次焼結体10が得られる。 (もっと読む)


【課題】 点欠陥導入による圧電材料についてさらに大きな電歪効果を発現させる。
【解決手段】 ABO3型強誘電体材料において、ホスト原子AおよびBの少くともいず
れかよりも価数の小さいイオン価を有するアクセプターとともに、価数の大きいドナーが添加されている圧電材料とする。 (もっと読む)


【課題】 少なくともBa及びTiを含むペロブスカイト型化合物の多結晶体からなり、擬立方{111}面が高い配向度で配向し、高い相対密度を有し、しかも、その組成制御が比較的容易な結晶配向セラミックス及びその製造方法、並びに、これに用いられる異方形状粉末及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 少なくともBa及びTiを含む第2のペロブスカイト型化合物を主相とし、その発達面が擬立方{111}面からなり、かつ、その厚さ(t)に対する前記発達面の最大長さ(w)のアスペクト比(W/t)が2以上である異方形状粉末。また、本発明に係る結晶配向セラミックスは、少なくともBa及びTiを含む第1のペロブスカイト型化合物を主相とする多結晶体からなり、該多結晶体を構成する各結晶粒の擬立方{111}面が配向し、かつ、その相対密度が97%以上であり、平均粒径が5〜2μmと小さく、機械的強度が高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】半導体集積回路素子を搭載する多層配線基板の絶縁基体に用いるセラミック焼結体において、焼結性を損なうことなく分割性を向上させた積層パッケージ用着色セラミック焼結体を提供することを目的とする。
【解決手段】半導体集積回路素子を搭載する多層配線基板の絶縁基体に用いるセラミック焼結体において、Alを主成分とし、SiO、CaO、MgOを焼結助剤として3.5%乃至4重量%含有し、顔料成分としてTi、Cr及びMoの酸化物を含有し、SiO及びCaOの合計重量に対するSiOの重量割合を82%乃至89%とすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐食性と機械的強度に優れたセラミックス部材を提供する。
【解決手段】静電チャック10は、アルミナ焼結体12と、アルミナ焼結体12上に形成され、腐食性ガスに曝されるイットリア焼結体13とを備える基体11と、基体11に埋設された静電電極15とを備える。 (もっと読む)


【課題】 制振性を向上させた制振材料を提供するとともに、アクティブ(能動的)制御で制振できるような制振機構を提供する。
【解決手段】 平板状の圧電体であって、圧電歪定数の平板状の面内分布が不均一で傾斜している圧電特性傾斜構造を有する圧電体、及び該圧電特性傾斜構造を有する圧電体を制振機構として備えた制振構造体。 (もっと読む)


【課題】 光電気変換効率の高い光電気変換素子実装用アルミナ基板を提供する。
【解決手段】 硫酸バリウムの含有率が2〜6質量%であることを特徴とする。硫酸バリウムによりアルミナのみの基板に比べて光の反射率を向上させることができる。また、硫酸バリウムによる吸水率の増加を低く抑えることができる。さらに、本発明を利用して3次元成形基板等の作製が可能である。 (もっと読む)


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