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Fターム[4G030GA32]の内容

酸化物セラミックスの組成 (35,018) | 製法 (11,361) | 焼結体の処理方法 (314)

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【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッターを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のガラス基板熱処理用セッターは、結晶化ガラス又はセラミックス焼結体からなり、載置面において深さ3μm以上の凹部が、平均して500μmあたり1つ以上の割合で存在することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】電極が緻密に焼結し、めっき液の侵入もしくは湿気の侵入の少ない、すなわち耐湿試験後もしくはめっき後の接着強度を確保し、かつめっきダレ、半田食われを抑制した多層セラミック基板を提供する。
【解決手段】ガラスセラミック2aと、少なくともガラスセラミック2aの一方の主面表面上に形成された外部電極4とを備えた多層セラミック基板5において、前記外部電極4はAg、Au、Pt及びPdのうちの少なくとも一種を主成分とする導電性材料と、さらに前記外部電極4にBi、Cu、Ge、Mn、Ti、Zn元素のうち少なくとも一種の元素を含有し、かつ少なくとも前記外部電極4の表面に無機酸化物粒子6が設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】表面性状が良好なフラットパネルディスプレイ基板を製造することができるフラットパネルディスプレイ基板製造用棚板を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ基板を載せて熱処理するための棚板であって、光沢度が5度以上であるか、又は写像性が5%以上である。好ましくは熱膨張係数が2.0×10−6/℃以下であり、曲げ強さが40MPa以上であり、ヤング率が30GPa以上である。 (もっと読む)


【課題】SiO系酸化物を含む材料を採用するとともに、隣接する反射層、記録層の劣化が生じ難く、密着性が良好で、尚且つ高速成膜可能であるスパッタリングターゲット及びその製造方法により光情報記録媒体の特性の向上及び生産性を大幅に改善した光情報記録媒体用薄膜(特に保護膜としての使用)及びその製造方法を提供する。
【解決手段】酸化錫相(110)のピーク強度I1と酸化錫以外の酸化物あるいは複合酸化物相のX線回折図における2θ=15〜40°の範囲に存在する最大ピーク強度I2がI2/I1=0.1〜1であることを特徴とする酸化錫と酸化亜鉛と3価以上の元素の酸化物を主成分としたスパッタリングターゲット。 (もっと読む)


【課題】導電性が高く、異常放電やターゲットの表面黒化のない酸化物ターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム(In)及びジスプロシウム(Dy)を含有する酸化物のターゲットであって、DyInOで表される酸化物を含有することを特徴とする酸化物ターゲット。 (もっと読む)


【課題】導電性が高く、異常放電やターゲットの表面黒化のない酸化物ターゲットを提供する。
【解決手段】インジウム(In)、スズ(Sn)及びガドリニウム(Gd)を含有する酸化物のターゲットであって、GdSn及び/又はGdInOで表される酸化物を含有することを特徴とする酸化物ターゲット。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板の熱処理温度域で繰返し使用しても反り変形が発生しにくいガラス基板熱処理用セッター及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板熱処理用セッターは、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するためのガラス基板熱処理用セッターにおいて、ガラス基板を載置する載置面の表面から内部に向かって5μm離れた位置でのK2Oが1〜5質量%であり、且つ、載置面の表面から内部に向かって1mm離れた位置でのK2Oが0.8質量%未満であることを特徴とする。
また、ガラス基板熱処理用セッターの製造方法は、板状の無機耐熱材料からなり、一方の面にガラス基板を載置して熱処理するガラス基板熱処理用セッターの製造方法において、板状の無機耐熱材料又はその前駆体材料の一方又は両方の面に、外部の供給源からKイオンを注入することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】水槽や浴槽などの水の浄化に用いるプラスチック製のろ過材を改良する。
【解決手段】オキアミを圧搾してエキス成分を抽出し、抽出したエキス成分をセラミックスの原料粉体に添加し、セラミックスを成形する。成形したセラミックスを粉砕してセラミックスの粉体を得る。得たセラミックスの粉体をプラスチック原料に練り込んで、そのプラスチックを用いてろ過材を形成する。ろ過材は、一繋がりの薄膜帯状のプラスチック材が縮れ集まった1個の塊状に形成する。 (もっと読む)


【課題】プラズマの熱に曝された場合でも、熱応力により破壊することのないプラズマ処理装置用電極部材の製造方法を提供する。
【解決手段】プラズマ発生用ガスを処理室に供給するためのガス供給口を有するプラズマ発生用電極の上記ガス供給口の前面に装着されるプラズマ処理装置用電極部材の製造方法であって、焼成によりアルミナセラミックスの多孔質体を形成した後、研削および研磨により成型を行い、その後、1000℃〜1600℃の範囲内の温度でもって再焼成する方法である。 (もっと読む)


【課題】平面方向の寸法精度が高いアルミナ焼結層が得られるセラミックグリーンシート積層体並びにこれを用いた配線基板の製造方法及び配線基板を提供する。
【解決手段】本発明のセラミックグリーンシート積層体1は、未焼成セラミック層11と、その両面に積層され、且つセラミック焼結層の平面方向における収縮を抑制するための寸法安定化層12と、を備え、未焼成セラミック層には焼結体用アルミナ粉末と焼結助剤粉末とが含有され、合計を100モル%とした場合に、焼結体用アルミナ粉末は75モル%以上であり、寸法安定化層には寸法安定化層用セラミック粉末(焼結体用アルミナ粉末より平均粒径の大きいアルミナ粉末及び窒化珪素粉末等)を含むセラミック粉末が含有され、このセラミック粉末を100モル%とした場合に、寸法安定化層用セラミック粉末は50〜100モル%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 有効液体濡れ性が低い面を有する物品を提供する。
【解決手段】 物品(100)は、基板(110)の上に配置されたテクスチャ構造面(120)を具備する。面(120)は、基準液体(230)に対して約120°〜約180°の範囲の接触角(140)を成すのに十分な有効液体濡れ性を有する。面(120)は、基準液体(230)に対して約60°〜約90°の範囲の公称接触角(240)を成すのに十分な公称液体濡れ性を有する材料を含み、材料は、重合体及びセラミックより成る群から選択された少なくとも1つの材料を含む。面(120)の特性は、低抗力又は低摩擦、自浄能力並びに着氷、汚れ及び曇りに対する耐性などを含んでもよい。そのような面(120)を製造する方法も説明される。 (もっと読む)


【課題】CaSi添加鋼や高酸素鋼の鋳造用のスライディングノズル装置であって、耐食性が向上するとともに耐スポーリング性も良好で、耐用が長いスライディングノズル装置用プレートを提供する。
【解決手段】
スライディングノズル装置用プレートを、アルミナを92〜30質量%、クロミアを5〜50質量%、ジルコニアを10質量%以下を含むとともに、アルミナ、クロミア及びジルコニアの合計量が90質量%以上の組成を有するように構成する。 (もっと読む)


【課題】セラミックスからなる吸液用セラミック部材において、蒸散性能の向上ができず、蒸散速度の要求に応じた制御ができない。
【解決手段】主成分として扁平状の結晶粒子からなる多孔質セラミックスから成る柱状または筒状体により構成され、軸に略平行方向の断面において、結晶粒子3が軸に対して略平行に配向し、且つ軸に略垂直方向の断面において、中心部から外周部に向けて所定方向に配向する複数の結晶粒子3からなる配向部4を放射状に備えたものや、配向部4を同心状に備えたことにより、配向部4によって蒸散速度の調整をすることができる。 (もっと読む)


【課題】比誘電率を小さくかつ、機械的品質係数Qmを大きくすることができると共に、電気機械結合係数kを大きくでき、鉛による環境上の問題が発生しない圧電セラミックスを提供することを目的とする。
【解決手段】一般式(1−x−y)SrBiNb−xNdBiTiNbO−yBiTiNbOで表され、xが0<x<0.2、yが0<y<0.5の組成範囲にあるセラミックスを主成分とし、副成分としてZrOを主成分に対し、重量比で50〜1000ppm添加する。 (もっと読む)


【課題】1×10-2Torr以下の圧力下、100℃以上の温度で、シリコンウエハを静電力によって吸着する静電チャックにおいて、被吸着物であるSiウエハの均一加熱性を高めることができる静電チャックを提供する。
【解決手段】1×10-2Torr以下の圧力下、100℃以上の温度で、シリコンウエハを静電力によって吸着する静電チャックであって、前記静電チャックが、セラミックスからなる盤状の基板と、この基板上に設けられた前記基板と同種のセラミックスからなる絶縁性誘電層1と、前記基板と前記絶縁性誘電層1との間に埋設されている電極とを備えており、かつ、前記絶縁性誘電層1の表面には複数の凹凸部が形成されており、前記凹部3の底部平面の表面粗さRaが0.5μm以上であることを特徴とする静電チャック。 (もっと読む)


【課題】 エアベアリング面の段差の低減を図れかつ強度の高い磁気ヘッドスライダ用材料、これを用いた磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用材料の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の磁気ヘッドスライダ用材料は、アルミナ、炭化チタン及び炭素を含むと共にアルミナの重量を100重量部とした時に炭化チタンを20〜120重量部、炭素を0.8〜1.6重量部含む焼結体から作られている。 (もっと読む)


【課題】従来のセラミックスに比べて効果が高いセラミックスを提供する。
【解決手段】ヒドロキシアパタイト若しくはフッ素アパタイトと、ピロリン酸カルシウムと、クリストバライトと、アルミナとを、加水して混練した後、オルトリン酸を加え反応熱が生じている間に、塩化カリウムと、Naテトラシリシックマイカと、L-アスコルビン酸を混練し、さらに、磁性材としてマグネタイトと、酸化マンガンと、ルテニウム若しくはロジウムと、炭酸ナトリウムを入れて混練し、反応発泡終了後に酸化マグネシウムを入れ混練し、反応熱が常温となった後に、固形化した混練物を粉砕し、再度加水して混練し、酸化亜鉛と金属チタン若しくは酸化チタンと、結合材としてセルロースを入れ混練し、粘性を出して養生し、次に成形し、成形後乾燥し、焼成し、さらに磁結後磁気処理を行うことにより製造する。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノファイバーが分散された、セラミックス薄膜の製造方法及び基材を提供する。
【解決手段】本発明にかかるセラミックス薄膜の製造方法は、まず、エラストマーと、セラミックス粒子と、カーボンナノファイバーと、を混合して複合エラストマーを得る。次に、複合エラストマーと溶剤とを混合し、塗布液を得る。さらに、塗布液を基板4に塗布し、塗膜5を形成する。最後に、塗膜5を熱処理して塗膜5に含まれるエラストマーを除去すると共に、金属溶湯を塗膜5中に浸透させてセラミックス薄膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】大型定盤であっても軽量を図った大型磁器定盤及びそれを用いたXYステージ装置を提供する。
【解決手段】本発明の大型磁器定盤10は、磁器材料からなる少なくとも2以上の磁器平板11を接合して、磁器平板接合体12と、該磁器平板接合体12の接合部分に当接して、前記磁器平板11を支える桁13と、前記桁13の他端面側に少なくとも四隅の空間を覆うように磁器平板11とから構成され、緻密で軽量化を図ることができ、磁器定盤の大型化に対応することができる。 (もっと読む)


【課題】ニオブ酸系圧電磁器の実用化に際して問題となっている、斜方晶から正方晶への相転移温度を室温以下に降下させた圧電磁器を提供する。
【解決手段】Na、K、Li、Sr、Nb、Tiを主成分とするペロブスカイト化合物を主体とした圧電磁器であって、圧電磁器の組成が、モル比による組成式を、以下の式;
(1−x−y)KNbO+xNaNbO+y(LiNbO+SrTiO
とした時、x及びyの値が0.42≦x≦0.50、0.06≦y≦0.12を満たすことを特徴とする圧電磁器。
【効果】鉛を含まない環境低負荷型の新規ニオブ酸系圧電磁器、圧電素子及び圧電部材を作製し、提供することができる。 (もっと読む)


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