【課題】ルツボの基体となる外層と、前記外層の内周面に形成された、シリコン等の溶融液と接する内層とを備えたシリカ焼結体ルツボにおいて、前記内層が外層から剥離し難いシリカ焼結体ルツボを提供する。
【解決手段】ルツボの基体となる外層と、前記外層の内周面に形成された、シリコン等の溶融液と接する内層とを備えたシリカ焼結体ルツボであって、前記外層が、溶融シリカ粒子からなる層であり、前記内層が、球状のシリカ粒子及びシリカ微粉末からなる層であり、前記内層と外層の界面近傍における球状のシリカ粒子の間の空間もしくは溶融シリカ粒子の間の空間が、前記シリカ微粉末によって閉塞されている。 （もっと読む）

【課題】低コストで酸化雰囲気でも使用できる緻密な耐火物を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】開気孔を有する耐火物に酸化物ゾルを含浸させた後、酸化物ゾルの液体分を揮発させることにより、開気孔内に酸化物微粒子が残留保持された耐火物を製造する方法であって、耐火物Ａの表面の一部を、酸化物ゾルの液体分を透過させ且つ酸化物微粒子を透過させないフィルター２で覆った状態で、残部表面の少なくとも一部から耐火物Ａに酸化物ゾルを含浸させ、この酸化物ゾルの含浸中に、耐火物Ａに浸透した酸化物ゾルの液体分の一部をフィルター２を通じて耐火物外に排出することにより、耐火物Ａに残留する酸化物微粒子の濃度を高める。開気孔内に多量の酸化物微粒子を堆積させることができ、耐火物を高度に緻密化できる。 （もっと読む）

【課題】外部の機械的影響から保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えている改善されたガラスセラミックを提供する。
【解決手段】外部の機械的影響に対して保護する硬質材料層を少なくとも部分的に備えているガラスセラミックであって、その際、− 硬質材料層が、並んで存在しており、かつ互いに混合されている少なくとも２つの相を含有し、− 少なくとも１つのナノ結晶相及び１つの非晶相が存在し、− 硬質材料層が、少なくとも２６ＧＰａの強度及び少なくとも０．５μｍの層厚を有し、− 硬質材料層が、２００℃〜１０００℃の温度範囲内で耐化学薬品性であり、かつ− ガラスセラミックの熱膨張係数αが、硬質材料層の熱膨張係数αから^＋／₋２０％を超えて相違しないガラスセラミックによって解決される。 （もっと読む）

【課題】１２００℃以下で焼成される焼結体であり、適度に高い熱膨張性と高い耐熱衝撃性を有するマイクロ波を吸収して発熱する白色セラミックスからなる陶磁器を提供する。
【解決手段】釉層が焼結体の表面に形成された陶磁器であり、当該焼結体は、全成分に対して（ａ）７０〜９２質量％のＺｎＯ、（ｂ）５〜１９質量％のＳｉＯ₂及び（ｃ）３〜１８質量％のＡｌ₂Ｏ₃を含有し、（ａ）〜（ｃ）成分の全成分に対する配合割合の合計は９８質量％以上であり、当該焼結体の平均線膨張係数は４．０×１０^-6〜５．７×１０^-6／Ｋである。 （もっと読む）

【課題】低熱膨張で耐熱衝撃性に優れたコーディエライト質の磁器焼結体、特に磁器食器を提供すると共に、Ｌｉ系の低膨張釉薬を施釉しても、亀裂の発生のない磁器焼結体を提供する。
【解決手段】素地層の原料に、リチウム元素と、1.1重量%〜2.8重量%のNa₂O+K₂Oが含まれるよう、タルク、カオリン、アルミナ、長石、リチウム含有原料を秤量・混合し微粉砕する。釉薬層はリチウム元素を含む低熱膨張結晶を生成する釉薬を用いる。素地成形体を素焼き後、施釉し1200℃〜1300℃で本焼成を行う。 （もっと読む）

【課題】圧縮時に崩壊や変形が生じにくく、崩壊することなく切断等の形状加工が可能であり、且つ断熱性を有する成形体、被包体、成形体の製造方法及び切削体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカとゲルマニウムとを含有し、ゲルマニウムの含有率が１０質量ｐｐｍ以上１０００質量ｐｐｍ以下であり、圧縮率０〜５％における最大荷重が０．７ＭＰａ以上であり、３０℃における熱伝導率が０．０５Ｗ／ｍ・Ｋ以下である、成形体。 （もっと読む）

【課題】遊色効果に加え、ピンク色ないし金赤色の色調をさらに呈する宝飾部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】規則的に三次元配列している非晶質珪酸からなる複数の球状体２と、該複数の球状体２が互いに隣接することによって形成されている間隙４に位置している金３と、を備える、宝飾部材１とその製造方法である。複数の球状体２は、単純立方構造、面心立方構造、六方最密構造、体心立方構造、およびこれらが部分的に共存している複合構造から選ばれる少なくとも１種の構造をなすように配列している。 （もっと読む）

【課題】ハニカム構造体の捕集層を隔壁の表面に強固に固着させることができ、且つ、このような捕集層を比較的低温で形成することが可能なハニカム構造体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ハニカム基材の隔壁１２表面に、セラミックスからなる骨材粒子２１と、ルイス塩基成分と、骨材粒子２１を構成するセラミックス中のルイス塩基成分と酸塩基反応して塩を生成するルイス酸成分を生じ得る結合部形成原料とを含む捕集層形成原料を塗布して、捕集層前駆体を形成し、前記捕集層前駆体が形成されたハニカム基材を得る原料供給工程と、得られた捕集層前駆体が形成されたハニカム基材を熱処理することにより、骨材粒子２１中のルイス塩基成分と、結合部形成原料中のルイス酸成分とを酸塩基反応させて、酸塩基反応により生成した塩を含有する結合部３２によって骨材粒子２１どうし及び骨材粒子２１と隔壁１２とが固着された捕集層３０を形成する熱処理工程とを備えるハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アノード支持基板と電解質層とを有するアノード支持型ハーフセルであって、その周縁部の反り上がりを低減されており、セルスタックとして多層積層した場合でも割れや破損を生じ難く、周縁部のシール性に優れ、且つ、スクリーン印刷によりカソード層を安定して形成できるアノード支持型ハーフセルを提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のアノード支持型ハーフセルは、アノード支持基板と、前記アノード支持基板に積層された電解質層とを有するアノード支持型ハーフセルであって、電解質層が上面となるように載置し、レーザー光学式三次元形状測定装置を使用し、電解質層表面にレーザー光を照射してその反射光を三次元解析することにより求められる電解質層周縁端部の高さ（ｈ１）と、周縁端部からハーフセルの中心方向に３ｍｍの位置における電解質層の高さ（ｈ２）との差（Δｈ）が１００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来のハニカム触媒体より多くの触媒を担持することができ、圧力損失が小さく、かつ、高い強度を有するハニカム触媒体の担体として使用可能なハニカム構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径０．５〜１０μｍでアスペクト比５〜２０のアルミナを含有するセラミック原料及び分散媒を含む成形原料を混練して坏土を得る坏土調製工程と、得られた坏土をハニカム形状に押出成形して一方の端面から他方の端面まで貫通する複数のセルが形成されたハニカム成形体を得る成形工程と、得られたハニカム成形体を焼成してハニカム構造体を得る焼成工程と、を備えるハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱伝導率が高く、効率のよい放熱性を達成でき、電子機器等の発熱部位における冷却用途に利用でき、しかも機械的強度や耐熱衝撃性にも優れる、アルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの製造方法、および上記の機能が発揮できる結晶粒の成長を抑えたアルミナ焼結体である熱放射部材用セラミックスの提供。
【解決手段】アルミナ（Ａｌ₂Ｏ₃）の含有量が９９．５質量％以上で、かつ、平均粒子径が０．２〜１μｍであるアルミナ粉末を原料として用い、該粉末を５０〜１００μｍの顆粒状にする顆粒化工程と、該顆粒化工程で得られた顆粒状のアルミナを含む原料を加圧成形する成形工程と、該成形工程で得られた成形体を大気雰囲気中で加熱して、１，４８０〜１，６００℃の焼成温度で焼成して焼結体を得る焼成工程とを有する熱放射部材用セラミックスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】予備スパッタ工程に要する時間を短縮化し、そのばらつきも小さくなるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットは、酸化亜鉛を主成分とする焼結体からなり、焼結体の表面の水との接触角が８０°以下である。これは、アセトン又はアルコールを用いて表面が洗浄されることによる。そして、この洗浄後、湿度が４０〜８０％、温度が室温から１００℃以下の環境化で１時間以上静置されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、表面が強化された透光性アルミナ焼結体の製造方法、特に、高い機械的特性と高い透光性とを兼ね備え、表面が強化された透光性アルミナ焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】
アルミナ焼結体に非晶質シリカ層を形成した後、該焼結体を１０００℃以上で熱処理することを特徴とする非晶質シリカ層を有する透光性アルミナ焼結体の製造方法。非晶質シリカ層を少なくとも０．１μｍ形成であることが好ましい。本発明の製造方法は、透光性アルミナ焼結体への非晶質シリカ層の形成方法、もしくは、透光性アルミナ焼結体の表面強化方法としても適用することができる。特に機械加工が施しにくい複雑形状の透光性アルミナ焼結体への非晶質シリカ層の形成方法、もしくは表面強化方法として適用することができる。 （もっと読む）

【課題】 高い電圧が印加された場合であっても、過大電流が発生し難いセラミックス体を提供する。
【解決手段】
セラミック体の表面に導電層が接合された、導電層付きセラミック体であって、前記セラミック体は、ＡｌＯ_２とＡｌ_２ＴｉＯ_５とを含み、前記導電層は、ＭｏおよびＭｎを合計で５０質量％以上の割合で含有しているとともにＴｉを含み、前記導電層と前記セラミック体との境界部分に、Ｍｎを主成分として含む第１の境界領域が形成されていることを特徴とする、導電層付きセラミック体を提供する。 （もっと読む）

【課題】優れた機械的強度を有し、かつ、基材と溶射層との密着性が高い焼成用道具材を提供する。
【解決手段】アルミナ−シリカ質の基材の表面に、アルミナからなる溶射層Ｘを有する焼成用道具材であって、下記式（１）及び（２）を満足し、かつ曲げ強さが２５ＭＰａ以上であることを特徴とする焼成用道具材。
ｄｐ≧９００ （１）
ｖｐ≧０．００７ （２）
ここで、ｄｐは、水銀圧入法により測定された前記基材の細孔径分布におけるピーク細孔径（ｎｍ）であり、ｖｐは、ピーク細孔径ｄｐにおける差分細孔容積（ｍｌ／ｇ）である。 （もっと読む）

【課題】軽量及び低圧損でありながら、優れた強度を発揮することができるハニカム体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】コージェライトの多孔質体よりなり、多角形格子状に配設されたセル壁１１と、このセル壁１１に区画された多数のセル１２とを有するハニカム体基材１０のセル壁１１に、アルミナを主成分とするコート材１５を被覆してなるハニカム体１及びその製造方法である。ハニカム体基材１０の気孔率は４５％以上かつ７０％未満であり、セル壁１１の厚みは９０μｍ以下である。ハニカム体１が単位重量あたりに有する細孔のうち細孔径４０μｍ以上の細孔の容積の合計量である粗大細孔量が０．０２ｃｍ³／ｇ以下である。ハニカム体の製造にあたっては、ハニカム体基材１０との接触角が５０°以下のコート材スラリーを用いる。 （もっと読む）

【課題】有害物質含有スラグを含めてスラグを直接に溶融生成加工せずに、無害化してエコロジー資源材に成生し、環境に全く負荷を与えることなく大容量の汚染水域等の浄化蘇生に有効利用する。
【解決手段】鉱石から鉄、銅、アルミニウム等の金属を製錬する工程において生成する鉱滓副産物スラグのうち、リサイクル利用不可能な有害物質含有の未利用スラグと窯業用に用いる磁器土と窯業用石英粉、アルミナ粉等の窯業用鉱物粘土とを夫々所定の割合で混練して適当大の胎土を形成する。胎土を窯業用焼却窯等で、胎土内部に釉薬液が十分に浸透できるような所定の温度で所定時間燃焼させて素焼質胎土を形成し、前記素焼質胎土に特殊天然石を砕石した粉体と、窯業用釉薬とを所定の割合で混練して製造、熟成させた釉薬液を浸透させ、再び所定の温度で所定時間燃焼させてガラス質の濾材を形成させ、有害物質含有の未利用スラグを無害化して、汚染水浄化蘇生等のエコロジー質源濾材として利用する。 （もっと読む）

【課題】隔壁の細孔内に多量の触媒を担持することが可能なハニカム構造体、および、多量の触媒を担持しかつ圧力損失が低い隔壁を有するハニカム触媒体を提供する。
【解決手段】多孔質の隔壁３によって区画形成された流体の流路となる複数のセル５を有し、隔壁３は、気孔率６０〜７５％、平均細孔径１５〜６０μｍ、および厚さ０．０５〜０．５１μｍであり、セル５の密度が１５〜３１（セル／ｃｍ^２）であるハニカム構造体１、および、前記ハニカム構造体１の隔壁３の細孔１１内に触媒２１ｂを担持させたハニカム触媒体３０。 （もっと読む）

【課題】一般的なアルミナ粉末で作製された成形体を低温で焼結する。
【解決手段】本発明のアルミナ焼結体の製法は、（ａ）少なくともＡｌ₂Ｏ₃とＭｇＦ₂との混合粉末又はＡｌ₂Ｏ₃とＭｇＦ₂とＭｇＯとの混合粉末を所定形状の成形体に成形する工程と、（ｂ）該成形体を真空雰囲気下又は非酸化性雰囲気下でホットプレス焼成してアルミナ焼結体とする工程であって、Ａｌ₂Ｏ₃１００重量部に対するＭｇＦ₂の使用量をＸ（重量部）、ホットプレス焼成温度をＹ（℃）としたときに下記式（１）〜（４）を満たすようにホットプレス焼成温度を設定する工程と、を含む。
１１２０≦Ｙ≦１３００ …（１），０．１５≦Ｘ≦１．８９ …（２）
Ｙ≦−７８．７Ｘ＋１３４９ …（３），Ｙ≧−２００Ｘ＋１２１２ …（４） （もっと読む）

【課題】量産時の連続スパッタリング工程においても、非エロージョン部に堆積した付着膜がターゲット表面から剥がれにくく、ノジュールやアーキングの生じにくい焼結体ターゲットの提供。
【解決手段】酸化亜鉛を主成分とした薄膜製造用焼結体ターゲットにおいて、ベースとなる焼結体ターゲットのスパッタ面に、ｃ軸配向した酸化亜鉛を主成分とした薄膜が膜厚２０ｎｍ以上のシード膜として形成されていることを特徴とする薄膜製造用焼結体ターゲット；酸化亜鉛を主成分とした薄膜製造用焼結体ターゲットの製造方法において、ベースとなる焼結体ターゲットのスパッタ面に、組成が、該焼結体ターゲットの組成と実質的に同じであるシード膜形成用ターゲットを用いて、スパッタリング法で、ｃ軸配向した酸化亜鉛を主成分としたシード膜を２０ｎｍ以上の厚さに成膜することを特徴とする薄膜製造用焼結体ターゲットの製造方法などによって提供。 （もっと読む）