溶液製造システムおよび装置が記載されている。溶液製造機は、化学物質またはスラリーと溶剤とを所望の濃度に混合する。溶液の濃度は、１つまたはそれ以上の方法で監視される。この測定に基づき、溶液の濃度は調整され得る。 （もっと読む）

【課題】機能的流体の超純水への溶解量又は混合量を精密に制御して、正確な機能的流体濃度の機能水を生成することが可能な小型かつ安価な機能水生成装置を提供する。
【解決手段】超純水Ｗの主流路としての超純水主流路１０１から分岐した超純水分岐流路１０２と、機能性流体Ｇの流路としての機能性流体流路１０３と、超純水分岐流路に連通して配設されるとともに、超純水分岐流路の連通とは別の連通路で機能性流体流路に連通した、超純水分岐流路における超純水の流量に対応して機能性流体の流量を制御する流体流量制御手段１０４と、超純水分岐流路の流体流量制御手段の配設箇所よりも下流に連通して配設されるとともに、超純水分岐流路の連通とは別の連通路で機能性流体流路に連通した、超純水分岐流路を流れる超純水Ｗ１に、流体流量制御手段によって流量を制御された機能性流体を溶解又は混合して第１の機能水Ｆ１を生成する混合手段１０５とから構成する。 （もっと読む）

希釈流体を送出するために、活性流体源（１２）、希釈流体源（１４）、活性および希釈流体の一方を分配する流体流測定装置（２４）、活性流体と希釈流体を混合して、希活性流体混合物を形成するように構成されたミキサ（２８）、および希活性流体混合物中の活性流体および／または希釈流体の濃度を感知し、それに応答して流体流測定装置（２４）を調節し、希活性流体混合物中の活性流体の所定濃度を達成するように構成されたモニタ（４２）を使用するシステム（１０）。圧力制御装置（３８）が、システムから分配される希活性流体混合物の所定圧力を維持するように、活性流体および希釈流体の他方の流れを制御するように構成される。これで、システムから分配される流体は、半導体プロセスツールなどの流体使用ユニットに所望の流れを提供するために、例えば質量流量制御装置などの流量制御装置によって調節自在に制御することができる。希活性流体混合物の送出の連続性を維持するよう流体源（１２、１５）を切り換えるために、終点監視アセンブリについても説明する。 （もっと読む）

【課題】 正確な濃度で処理液を製造できる簡単な構成の処理液製造装置の実現。
【解決手段】 第１液と第２液を混合して化学機械研磨装置で使用する処理液を製造する処理液製造装置であって、調合槽5A,5Bと、第１液源1から調合槽へ供給する第１液の流量を計量する第１流量計11と、第２液源2から調合槽へ供給する第２液の流量を計量する第２流量計12と、処理液の製造量及び第１液と第２液の混合比に応じて第１液及び第２液の供給を制御する制御部13とを備える。 （もっと読む）

【課題】 酸化還元電位水の製造効率を向上することが可能な酸化還元電位水製造装置の提供を目的とする。
【解決手段】 本実施形態によれば、酸化還元電位水の製造時には、溶存水素計Ｈｍにより溶存水素量を実測しなくても設定した値に近い溶存水素量の酸化還元電位水を製造することができる。また、酸化還元電位計ＲｍによりＯＲＰ値を実測しなくても、設定した許容最大値Ｒ，ｍａｘよりも小さいＯＲＰ値の酸化還元電位水を最小限の水素ガス供給量で製造することができる。これにより、従来の酸化還元電位水製造装置のように、溶存水素計Ｈｍ、酸化還元電位計Ｒｍのメンテナンスや故障により酸化還元電位水の製造を中断されることが無くなり、製造効率を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】混合ガスの使用量が少なく且つ使用量の変動も小さい培養関連等の分野に用いた場合において、構造の簡略化及び小型化を図って、使い勝手のよさを実現し、設備コストの上昇を抑えることが可能なガス混合装置及びガス混合方法を提供する。
【解決手段】２種類の原料ガスのうちの一方の原料ガスＧａが送給されるガス送給路２ａと、他方の原料ガスＧｂが送給されるガス送給路２ｂと、ガス送給路２ａ，２ｂに各々設けた調圧弁３と、一方の流入口４ａに一方のガス送給路２ａを接続し且つ他方の流入口４ｂに他方のガス送給路２ｂを接続した三方弁４と、三方弁４の流出口４ｃに接続した流量調節弁５と、流量調節弁５とガス流量計６を介して接続した小型のガス混合容器７と、ガス混合容器７内で生成される混合ガスの濃度を設定値にすべく三方弁４の２つの流入口４ａ，４ｂを交互に開閉する制御部８を備えている。 （もっと読む）

【課題】薬液混合供給方法を提供する。
【解決手段】本発明は硫酸、過酸化水素、超純水、及びＨＦが混合したエッチング処理液を作る半導体製造工程の薬液混合供給方法に係り、本発明の薬液混合供給方法は、（ａ）混合タンクにＨＦがＰＰＭ単位に混合するようにＨＦを供給する段階と、（ｂ）前記混合タンクに超純水、過酸化水素、及び硫酸を一定割合供給して混合する段階とを含み、前記（ｂ）段階は、前記超純水、過酸化水素、及び硫酸の供給開始時点が互いに異なることを特徴とする。
このような薬液混合供給方法によると、硫酸、過酸化水素、及び超純水の供給開始時点を各々異にして、硫酸と過酸化水素との相互反応時間を最小化することによって、硫酸と過酸化水素の混合過程で発生する発熱時間が最小化できる。 （もっと読む）

光学流体濃度センサを含む流体流動配列が開示される。一つの配列は、流体流動をセンサ窓に向かうあるいは当たる方向に向ける。一つの配列は、センサが感知する領域への光の侵入を阻止する。一つの配列は、混和流体を監視する複数のセンサを含む。すなわち、ａ）流入開口、流出開口、および前記流入開口と前記流出開口との間に配置された空洞を有する流動部材と、ｂ）感知面が空洞と連通するように、流動部材に組み付けられた流体濃度センサであって、空洞は、流体が常に感知面と接触しているように、流体流動を感知面に当たる方向に向ける流体濃度センサとを備える、流体濃度感知配列が開示される。
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容器からの液体化学濃縮物を希釈水の流れと混合して分配するためのディスペンサ。ディスペンサは、或る場合には水流を、また或る場合には水流中に吸い上げられる濃縮物の量を制御する、２つの弁部材を含む。ディスペンサは、様々な異なる化学的濃度及び様々な水の流速を可能にすることができる簡略化された設計である。
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【課題】井水の浄化装置やその他の薬液注入ポンプを用いる多くの施工例では、薬液注入ポンプに薬液より発生する気体によりエアロックが生じ、ポンプ吐出機能が停止し、円滑な運転に支障がある。
【解決手段】井水等を流す主配管にエジェクターを設置し、エジェクターの吸引部から薬液を吸引して井水等と混合することにより、薬液ポンプを用いることなく、薬液中に多量の気体が存在してもエアロック現象が発生しない薬液注入装置を得る。 （もっと読む）

二酸化塩素の生成に使用できる装置を提供する。装置は、３つ以上の流体移送デバイス、各流体移送デバイスの入口への導管（２１、２２、２３）、各流体移送デバイスの出口への導管（３１、３２、３３）、デバイスへの水入口（１１）、デバイスからの水出口（１２）を備える単一の流体定量デバイス（２０）を備え、流体移送デバイスは、デバイスを通る水流により比例して作動する。また、二酸化塩素の生成に使用できる方法も提供する。本方法は、流体定量デバイスに水を通流させて下流水を作り出し、且つ流体移送デバイスを作動させる工程；３種類以上の前駆体化学物質をそれぞれ別々の供給源から引き込み、各化学物質を別々に流体移送デバイスの１つに通流させる工程；および、前駆体化学物質を下流水に注入する工程を含む。

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