【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高い携帯機器用カバーガラスのガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の携帯機器用カバーガラスのガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 （もっと読む）

光発電セル、例えばシリコンタンデム光発電セルのための、波長に依存しない光トラッピングに十分な光散乱特性をもつ、表面模様付スーパーストレートが開示される。スーパーストレートの模様付表面の構造は、表面模様付スーパーストレートの作製に用いられる方法によって、所望の光散乱／トラッピング特性を与えるために調製することができる。方法は、ガラススーパーストレートの、研削及び研磨工程、または、研磨、研削及びエッチング工程を含む。
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【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかるガラス基材の製造方法は、加熱した化学強化用のカリウムイオンを含む熔融塩にガラス基板を浸漬することにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のカリウムイオンでイオン交換して前記ガラス基板を化学強化する工程と、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたカリウムイオン濃度が５０００ｐｐｍを超えるイオン交換層を除去する工程と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】所望の凹凸形状を再現性よく形成することが容易なガラスの製造方法等を提供する。
【解決手段】ガラス１０の表面１０ａに網２０を接触させた状態で、ガラス１０の表面１０ａをエッチング液によりエッチングする工程を備える、表面に凹凸１０ｂが形成されたガラス１０の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを０〜２０重量％、Ｌｉ₂Ｏを０〜１５重量％、ＺｒＯ₂を０．１〜９重量％含有し、Ｌｉ₂ＯとＮａ₂Ｏの合計含有量が３〜２０重量％であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】光分解による自己浄化能を有し、超親水又は超撥水反射防止能を有する機能性表面の製造方法を提供する。
【解決手段】下記、ａ）〜ｅ）の段階を含む方法により機能性表面を製造する。ａ）透明基材の一表面に球形状を有する複数個のビーズを単一層で配列する段階Ｓ１０，７０、ｂ）前記複数個のビーズをエッチングして各ビーズ間の一定の離隔距離を形成する段階Ｓ２０，８０、ｃ）前記一定の離隔距離を有する複数個のビーズをエッチングマスクとして前記基材をエッチングし、前記基材の一表面に表面凸凹を形成する段階Ｓ３０，９０、ｄ）前記基材の一表面から前記複数個のビーズを除去する段階Ｓ４０，１００、ｅ）前記表面凸凹が形成された基材の一表面に光触媒、又は表面張力が１８〜２８Ｎ／ｍ範囲内の値を有する化合物層を形成する段階Ｓ５０，１１０ （もっと読む）

本発明は、フロートガラスに導電性パターンが形成された導電性基板の焼成時、フロートガラスに黄変現象が発生することを防止できる導電性基板及びこれの製造方法を開示する。本発明による導電性基板を製造する方法は、フロート槽内部に収容された溶融錫の上部に溶融ガラスを注入してフロートガラスを製造するステップと、上記溶融錫と接触していないフロートガラスの上部面を所定の厚さ分除去するステップと、上記所定の厚さ分除去されたフロートガラスの上部面に導電性パターンを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、石英ガラス基板の研磨に用いられたコロイダルシリカ等の研磨剤と研磨パッドによる有機物汚染等の異物とをほぼ完全に取り、最終洗浄の負担を軽くした予備洗浄の方法を提供することにある。
【解決手段】フッ素又はフッ素化合物と硫酸と水とからなる洗浄液に研磨した石英ガラス基板の洗浄方法であって、該洗浄液中の硫酸濃度が９３〜９９ｗｔ％、フッ素濃度が０．１〜２ｗｔ％（洗浄液全体で１００ｗｔ％）であり、該洗浄液の温度が５０℃以上１００℃以下であることを特徴とする研磨した石英ガラス基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】エッチングされるガラス基板の厚さを精度良く制御することができるエッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング液Ｅが貯留され、該エッチング液Ｅに被処理基板Ｘを浸漬させる処理槽１０と、処理槽１０内のエッチング液Ｅを流動させる循環装置３０と、処理槽１０に設けられ、被処理基板Ｘに面するエッチング液Ｅに超音波振動を生じさせる超音波振動子２２と、超音波振動子２２の駆動を制御する制御手段２４と、を有する超音波振動発生器２０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスの長所を有効に活用できるようにした電子装置用のガラス基板を提供する。
【解決手段】複数領域に区画されたガラス基板の使用領域の周縁部分を残して、ガラス母材ＧＶの表裏面に被膜層２Ｂを設ける第一工程（ＳＴ１〜ＳＴ３）と、被膜層が存在しない周縁部分だけを化学研磨して、ガラス母材の表裏面に切込み溝ＧＶを形成する第二工程（ＳＴ４）と、切込み溝ＧＶが貫通しない段階で、被膜層２Ｂを除去する第三工程（ＳＴ５）と、第三工程を経たガラス母材の全体を化学研磨して、ガラス母材を薄肉化すると共に切込み溝ＧＶを貫通させる第四工程（ＳＴ６）と、を有してガラス基板を製造する。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、加熱した化学強化用の熔融塩にガラス基板を浸漬す
ることにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のイオンでイオン交換して前記ガラ
ス基板を化学強化し、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたイオン交
換層を除去することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】被加工物により細い溝を形成すること。
【解決手段】まず、透明材質の被加工物１の内部にレーザ光１３を集光して改質領域２０を形成し、当該改質領域２０の形成により、改質領域２０の部分に発生する内部応力によって溝２の形成予定部分１８にレーザ光１３の光軸方向に伸びる第１のクラック１９ａを形成する。次に、形成した第１のクラック１９ａの内面をエッチングし、当該エッチングによって前記第１のクラック１９ａを形成した部分に溝２を形成する。そのため、被加工物１に形成される溝２の幅を、第１のクラック１９ａの幅と同等の大きさとすることができる。したがって、被加工物１により細い溝２を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用ガラス基板の薄板化を目的とした化学研磨工程において、ガラス表面の傷などが拡大され、平坦性が劣化する課題があった。
【解決手段】フッ酸及びフッ化アンモニウムの混合液がモル濃度比で１〜２．５の割合で含み、溶媒に水を用いた化学研磨液によりガラス基板表面を研磨することにより傷の拡大を抑制し、表面品位が優れた液晶表示装置を効率よく、低コストに製造する。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さＲａを３〜５００００Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】貫通孔が設けられており、かつ強度の高いガラス基板を製造する。
【解決手段】本発明のガラス基板の製造方法は、複数の貫通孔が形成されたガラス基板を酸又はアルカリに浸漬する浸漬工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 金属とシリコンと窒素とを含む薄膜を剥離液で剥離する場合において、ガラス基板の荒れを抑制しながら確実に薄膜を剥離し、良好にマスクブランクス用ガラス基板を再生する。
【解決手段】 ガラス基板上に主として金属とシリコンと窒素とを含む薄膜が形成されたマスクブランクス用ガラス基板の上記薄膜の剥離を、弗化水素酸、珪弗化水素酸、弗化水素アンモニウムから選ばれる少なくとも一つの弗素化合物と、過酸化水素、硝酸、硫酸から選ばれる少なくとも一つの酸化剤とを含み、前記弗素化合物を０．１〜０．８ｗｔ％含む水溶液に接触させて行って再生する。 （もっと読む）

【課題】製造工程が簡単であり、寸法精度や機械的強度に優れたガラス基材を得ることができるガラス基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材の製造方法は、板状のガラス基板の主表面上に、印刷法により、前記ガラス基板のエッチャントに対してエッチング耐性を有する樹脂パターンを形成する工程と、前記樹脂パターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングにより所望の形状に切り抜く工程と、前記ガラス基板上に形成された前記樹脂パターンを除去する工程と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】端面において極端に突出する部分がなく、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材１は、板状のガラス基板の主表面に形成したレジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜いてガラス基材１を得て、このガラス基材１の端面１３に対して、該ガラス基材表面が軟化し得る熱エネルギーを局所的に加えることにより得られることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】主表面と、端面とで構成されるエッジ部が鋭利な形状とならず、しかも機械的強度が高いガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、板状のガラス基板の主表面に、前記主表面側が最も重合度が小さくなるように厚さ方向に重合度勾配を持つレジストパターンを形成し、前記レジストパターンをマスクとして、前記ガラス基板のエッチングが可能なエッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜くと共に、前記主表面と端面とで構成されるエッジ部を、ＵＬ−１４３９に準拠するシャープエッジテストで全層が切断されないエッジにすることにより得られる。 （もっと読む）

【課題】粘着フィルム等を使用せず、化学研磨法によって容易に一対のガラス基板のそれ
ぞれの厚さに差を付けることができる薄型かつ軽量な電気光学装置を提供すること。
【解決手段】本発明の電気光学装置の製造方法は、互いに組成が異なる一対のガラス基板
１１（厚さＬ１）及びガラス基板１２（厚さＬ２）上にそれぞれ表示要素を複数形成し、
前記一対のガラス基板１１、１２を対向配置してガラス基板対１０を作製する工程、前記
ガラス基板対１０をガラス用エッチング溶液１４に浸漬して前記一対のガラス基板１１'
、１２'の厚さをそれぞれ異なる厚さＬ１'、Ｌ２'に薄くする工程、を含むことを特徴と
する。ガラス基板１１、１２としては、ソーダライムガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカ
リガラス等から適宜組み合わせて使用することができる。 （もっと読む）