【課題】ガラス基板の側端面から、加工硬化層や無数のマイクロクラックを除去する基板処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】処理部４０は、主として本体部４０１と、送給部５と、回収部６とを備える。本体部４０１には、ガラス基板９０が遊挿されたときに、当該ガラス基板９０の側端面と端縁の表裏面を覆うことが可能な開口部４０３が設けられている。また、開口部４０３の内部には、供給口４０４および排出口４０５が設けられている。送給部５は、薬液送給部５０、純水送給部５１および熱風送給部５２を備えており、供給口４０４を介して開口部４３に連通接続される。また回収部６は、使用済薬液収容部６０、純水廃棄部６１および排気部６２を備えており、排出口を介して開口部４０３に連通接続される。 （もっと読む）

【課題】凸部を有する基板表面の微細構造作製方法およびガラス部品において、凸形状の表面に平面部分に形成されるのと同様な微細構造を容易に形成することができるようにする。
【解決手段】ガラス基材１に圧力を局所的に印加することにより、ガラス基材１表面およびその近傍に圧縮応力部３を形成する圧縮応力部形成工程と、これによって形成された圧縮応力部３とガラス基材１の他の部分との間で、エッチングレートが異なる第１のエッチング液を用いてガラス基材１の化学的エッチング処理を行って、ガラス基材１表面に凸部２を形成する第１のエッチング工程と、凸部２が形成されたガラス基材１表面を、ガラス基材１に含まれるガラス成分の耐酸性に応じてエッチングレートが異なる酸性液からなる第２のエッチング液を用いて化学的エッチング処理を行うことで、ガラス基材１表面に微細構造５を形成する第２のエッチング工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用ガラス基板の薄板化を目的とした化学研磨工程において、ガラス表面の傷などが拡大され、平坦性が劣化する課題があった。
【解決手段】フッ酸及びフッ化アンモニウムの混合液が２５重量％以上、塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、酢酸の中から少なくとも１種類の酸溶液を３０重量％以下の割合で含み、溶媒に水を用いた化学研磨液によりガラス基板表面を研磨することにより傷の拡大を抑制し、表面品位が優れた液晶表示素子を効率よく、低コストに製造する。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスクに用いた場合に、優れた強度を実現可能な、ガラス基板を提供することにある。
【解決手段】ドーナツ形状のガラス基板において、内周面の面取部および側面部の算術平均粗さＲａが０．０５〜１μｍ、かつ、それらの最大高さＲｙが０．５〜１５μｍあり、さらに、それらの展開長さ比Ｌｒが１．００６以上である。 （もっと読む）

【課題】フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の薄型化のためのエッチング装置を提供する。
【解決手段】前記エッチング装置は、ガラス基板２０が付着できるジグ１０と、ガラス基板２０にエッチング液を噴射する噴射手段５４と、ジグ１０をエッチング装置の中に移送する進行ライン１２とで構成される。噴射手段５４とガラス基板２０との距離は、１００ｍｍ超過１５０ｍｍ以下の範囲にし、噴射圧力は０．５ｋｇ／ｃｍ^２未満にすることを特徴とする。本発明によれば、十分なエッチングが行われながらも、エッチングされたガラス基板２０の均一度を向上させることができ、生産性を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】被加工物の表面に所望の幾何学パターンを形成することができる幾何学パターン形成方法を提供する。
【解決手段】被加工物にレーザを照射し、被加工物の表面に複数の窪みを、間隔を空けて、二次元的に周期性を持つ配列に形成する。次に、被加工物のエッチングを行い、窪みの各々を中心に広がった凹部同士が干渉し、凹部の境界が所定の幾何学パターンになるまでエッチングを続ける。この幾何学パターン形成方法では、大掛かりな装置や、手間の掛かる複雑な工程を必要とせずに、被加工物の表面に所望の幾何学パターンを正確に形成することが可能である。
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【課題】液晶表示装置用ガラス基板の薄板化を目的とした化学研磨工程において、ガラス表面の傷などが拡大され、平坦性が劣化する課題があった。
【解決手段】フッ酸３〜９％、硫酸５０〜７０％、溶媒に水を用いた化学研磨液によりガラス基板表面を研磨することにより傷の拡大を抑制し、表面品位が優れた液晶表示素子を効率よく、低コストに製造する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を均一にエッチングすることができるエッチング液供給装置、エッチング装置及びエッチング方法を提供する。
【解決手段】本発明によるエッチング液供給装置は、エッチング槽でガラス基板をエッチングするエッチング装置に、水、フッ酸、及び無機酸を含む複数の構成成分からなるエッチング液を供給し、エッチング槽で用いられたエッチング液のフィードバックを受けるエッチング液タンクと、エッチング液タンクのエッチング液をエッチング槽に供給するエッチング液移送部と、エッチング液タンクのエッチング液における構成成分の少なくとも一部である制御構成成分の濃度を測定する濃度測定手段と、制御構成成分を各制御構成成分別にエッチング液タンクに供給する構成成分供給部と、濃度測定手段の測定結果に基づいて制御構成成分が供給されるように構成成分供給部を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 ディンプルの成長を抑制してガラス基板を表面研磨し、平滑なガラス表面を有するガラス基板得ることができる研磨ガラス基板の製造方法、ならびにこれにより製造された研磨ガラス基板を提供する。
【解決手段】 ４０〜９０重量％の硫酸および０．４〜４重量％のフッ酸を含有する表面研磨液６を満たした表面研磨液槽１に、ガラス基板２０をセットしたカセット２１を浸漬して表面研磨を行い、第１水洗槽２で水洗し、その後２〜３０重量％のフッ酸を含有する後研磨液を満たした後研磨液槽３に浸漬して、所定のガラス基板厚さになるまで後研磨することにより研磨ガラス基板を製造する。
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【課題】 ガラス表面に均一にエッチング液を接触させ、ガラス表面を均一にエッチングすることが可能なエッチング方法及びこの方法に使用する装置の提供。
【解決手段】 エッチング方法としては、ガラス表面にエッチング液を吹き付け、その後エッチング液を除去することによってガラス板のエッチングを行う。このとき、水平にしたガラス板の底面にエッチング液を吹き付けることが好適である。エッチング装置は、ガラス板を支持する支持具と、ガラス表面にエッチング液を噴射するノズル８と、該エッチング液を貯留するエッチング液貯留槽とを備えたガラスエッチング装置である。この装置において、支持具はガラス板を水平にして支持するものであることが好適であり、ノズル８は、水平に支持したガラス板の底面に向けてエッチング液を吹き付け可能に配置することが好適である。 （もっと読む）

【課題】基板表面に微小な凸状の表面欠陥のないマスクブランクス用ガラス基板及びその製造方法、並びに該基板を用いたマスクブランクス、及びその製造方法、並びに、転写マスク及びその製造方法、及び半導体装置の製造方法を得ること可能にする。
【解決手段】ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の表面に微細な傷等の凹部がある場合、ガラス基板の表面をより一層平坦化する。
【解決手段】 エッチング液として、ガラス基板に対するエッチングレートが０．０１μｍ／分以上で５μｍ／分未満と比較的遅い第１のエッチング液と、ガラス基板に対するエッチングレートが５μｍ／分以上で１５μｍ／分以下と比較的速い第２のエッチング液とを用意する。そして、ガラス基板に対して、まずエッチングレートの遅い第１のエッチング液を用いてエッチングを行うと、エッチングの進行が遅いため、ガラス基板の表面の凹部が特にガラス基板の厚さ方向に成長するのを抑制しながら、ガラス基板の表面層と共に凹部を除去することができ、次いでエッチングレートの速い第２のエッチング液を用いてエッチングを行うと、ガラス基板の表面をより一層平坦化することができる。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板のエッチング処理された内周端面上に形成される被膜の厚みを大きくする。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理し、その内周端面に有機ポリシラザン化合物を含有する液を塗布し、焼成する工程を有し、その化合物が構造単位−Ｓi（Ｒ^１）（Ｒ^２）−（ＮＨ）−および構造単位−Ｓi（Ｒ^３）（Ｒ^４）−Ｏ−を有し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４はいずれも、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルアミノ基、アルキルシリル基およびアルコキシ基からなる群から選ばれる基または水素であり、Ｒ^１およびＲ^２のいずれか１以上とＲ^３およびＲ^４のいずれか１以上とは前記群から選ばれる基である磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 被加工物の表面が目的のプロファイルになるように該表面をエッチングする表面加工方法を提供する。
【解決手段】 まず、被加工物１の表面の加工前のプロファイルを測定する。次に、複数のノズル（供給手段）１２からこの表面に向けて所定の流量でエッチング液を供給しつつ、これらノズル１２の集合体１１をこの表面に沿って移動させる。その際、各ノズル１２から供給されるエッチング液の温度及びノズル集合体１１の移動速度を、被加工物表面上の各位置において目的プロファイルと加工前プロファイルの差から求めた加工深さにより定まる値になるように制御する。これにより、被加工物の表面を目的のプロファイルにすることができる。 （もっと読む）

【課題】 埋め込み構造を有する基板およびそれを用いた表示装置を提供する。
【解決手段】 埋め込み構造を有する基板１００は、主面に形成された溝を有するガラス基板１０１と、溝内に堆積された第１材料から形成され、主面と略面一の表面を有する埋め込み構造１０２を有する。溝の深さをｄ、溝の側壁部の曲率半径をｒとしたとき、ｄ≧ｒの関係にある。 （もっと読む）

【課題】所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を提供すること、所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凹部付き部材の製造方法を提供すること、前記凹部付き部材を用いて製造されるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】本発明の凹部付き部材の製造方法は、多数の凹部を有する凹部付き部材の製造方法であって、基材上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、マスクが形成された基材に対してエッチング液を用いたエッチングを施すことにより、凹部を形成するエッチング工程とを有し、凹部の形成過程において形成される中間凹部が設けられた基材に対して、振動数が１８ｋＨｚ以上の高周波振動を付与することにより、マスクのうち、中間凹部上に存在し基材に密着していない部分を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を提供すること、所望の形状の凹部を有する凹部付き部材を容易かつ確実に製造することができる凹部付き部材の製造方法を提供すること、前記凹部付き部材を用いて製造されるレンズ基板を提供すること、また、前記レンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】本発明の凹部付き部材の製造方法は、多数の凹部を有する凹部付き部材の製造方法であって、基材上に、多数の開口部を有するマスクを形成するマスク形成工程と、マスクが形成された基材に対してエッチング液を用いたエッチングを施すことにより、凹部を形成するエッチング工程とを有し、凹部の形成過程において形成される中間凹部が設けられた基材に対して、噴射材をジェット噴射により吹き付けることにより、マスクのうち、中間凹部上に存在し基材に密着していない部分を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フロート法によって製造された板ガラスを加熱して軟化させ、延伸する場合であっても、平坦度の優れた薄肉棒状のガラス条を製造すること。
【解決手段】フロート法によって製造された母材ガラス板の表面の還元性異質層の少なくとも一部を除去する還元性異質層除去工程と、前記還元性異質層の少なくとも一部を除去した前記母材ガラス板を加熱炉内で加熱して軟化させ、所望の厚さに延伸してガラス条を成形する加熱延伸工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】 均一な突起高さを有する表面凸部を非晶質材料の所望位置に形成することができるようにする非晶質材料の加工方法を提案する。
【解決手段】 非晶質材料の硬度よりも大きな硬度を有する微粒子を、前記非晶質材料の表面に部分的に衝突させて、高密度化された圧縮層を形成し、次いで該圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除去能力の異なる処理剤を使用して前記非晶質材料の表層面を除去し、前記圧縮層を凸形状に加工することを特徴とする非晶質材料の加工方法である。 （もっと読む）

【課題】 所望の形状で、かつ、各凹部間で形状のばらつきが小さい凹部を有する凹部付き基板を提供すること、そのような凹部付き基板を効率良く製造することが可能な凹部付き基板の製造方法を提供すること、レンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供すること。
【解決手段】 本発明の凹部付き基板の製造方法は、凹部を有する凹部付き基板の製造方法であって、基板上に、多数の初期孔を有するマスクを形成するマスク形成工程と、オーバーフローによってエッチング液を循環させつつ、エッチング液により、前記マスクが形成された基板をエッチングするエッチング工程とを有し、平面視したときの、形成すべき凹部の中心から、凹部の周縁部までの最大長さが２０μｍ未満であり、エッチング工程におけるエッチング液の循環速度が、５４ｃｍ／ｍｉｎ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）