【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を得るための製造方法を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、ガラス素板を中央部に円孔を有する円盤形状のガラス基板に加工する形状付与工程と、前記ガラス基板の主平面を研磨する研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程とを有し、前記ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなる基板である。そして、前記研磨工程は、一次粒子の平均粒子径が１〜８０ｎｍのシリカ粒子を含有し、ｐＨが３．５〜５．５で電気伝導率が７ｍＳ／ｃｍ以下である研磨液と、研磨パッドを用いて前記ガラス基板の主平面を研磨する仕上げ研磨工程を有する。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つ携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材を提供する。
【解決手段】化学強化によるカリウムイオンを含有する圧縮応力層１ａを有する主表面を持ち、携帯端末装置の表示画面の保護に用いられる携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材１であって、前記主表面においてカリウムイオンが５０００ｐｐｍ以下の濃度で含まれる前記圧縮応力層１ａを有し、前記ガラス基材１の厚さが０．５ｍｍとなるように構成され、前記ガラス基材１の外周の縁部を支持した状態で前記主表面の中央部を加圧子により加圧した際の破壊荷重が５４６Ｎ以上であることを特徴とする携帯端末装置のカバーガラス用のガラス基材。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子やＩＴＯの屈折率ｎｄに整合し、また耐失透性が高く、しかも原料コストの高騰を防止し得る高屈折率ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＳｒＯ ０．００１〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２ ０．００１〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜１０％を含有し、質量比ＢａＯ／ＳｒＯが０〜４０、質量比ＳｉＯ_２／ＳｒＯが０．１〜４０であり、且つ屈折率ｎｄが１．５５〜２．３であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】可視域の透過率の低い着色不透明部と有する強化ガラスの圧縮応力量を非破壊で算出することができる、強化ガラス及びその製造方法、該強化ガラスの表面応力測定方法を提供する。
【解決手段】着色不透明ガラス１０と透明ガラス２０とを積層して一体化し、一体化したガラスの表面に圧縮応力層を形成した強化ガラス１である。加熱し溶融した前記着色不透明ガラス１０を固化状態の前記透明ガラス２０に接触させた状態で冷却し、前記着色不透明ガラス１０を固化することにより積層して一体化し、その際に熱強化処理とする。透明ガラス１０の圧縮応力層の圧縮応力量の測定値は、着色不透明ガラス１０又は強化ガラス１の圧縮応力量の算出に用いられる。 （もっと読む）

【課題】機械的特性に優れ、かつ主平面の表面粗さとその面内均一性に優れた磁気記録媒体用ガラス基板を提供する。
【解決手段】この磁気記録媒体用ガラス基板は、ヤング率が６８ＧＰａ以上で比弾性率が２７ＭＮｍ／ｋｇ以上のアルミノシリケートガラスからなり、中央部に円孔を有する円盤形状の磁気記録媒体用ガラス基板であって、前記磁気記録媒体用ガラス基板の主平面において、内周端面より３．５ｍｍ以上外周側でかつ外周端面より３．５ｍｍ以上内周側の領域で、光学式表面観察機によりレーザー光を使用して測定された表面粗さの標準偏差が０．５ｎｍ未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガラス基板の表面を研磨処理しなくても、表面品位が良好な太陽電池用ガラス基板を得ることにより、太陽電池の品質向上を図ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、平均表面粗さ（Ｒａ）が２０Å以下、好ましくは１０Å以下であることを特徴とし、更にその表面が未研磨であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】鉛以外の成分を除いた銀色無鉛釉薬の提供。
【解決手段】Ｒ^１_２Ｏ（Ｒ^１_２ＯはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの１種または２種以上を表す）を０．０６モル≧Ｒ^１_２Ｏ；
ＣａＯを０．０５モル≦ＣａＯ≦０．３４モル；
Ａｌ_２Ｏ_３を０．０２モル≦Ａｌ_２Ｏ_３≦０．２７モル；
ＭｎＯを０．６５モル≦ＭｎＯ≦０．９５モル；および
ＴｉＯ_２を０．１１モル≦ＴｉＯ_２の量で含み、ホウ素を含まない銀色無鉛釉薬。 （もっと読む）

【課題】コンピュータ支援ミリングプロセスおよびコンピュータ支援トリミングプロセスによって容易に成形され得、その後、高い化学的耐性と優れた光学特性とを示す高強度の歯科用製品へと変換され得、そして上記最終変換の間に示す収縮がかなり小さく、そしてこれらの特性全てが、ＺｎＯを必要とせずに達成される材料を提供すること。
【解決手段】ケイ酸リチウム材料であって、機械加工によって、その器具が過度に磨耗することなく歯科用製品へと容易に加工可能であり、その後、高い強度を示すケイ酸リチウム製品へと変換され得る、ケイ酸リチウム材料。 （もっと読む）

【課題】歪点が十分に高く、且つ周辺部材の熱膨張係数に整合し、しかも高品位の光電変換膜を成膜し得るガラス板を創案する。
【解決手段】本発明の薄膜太陽電池用ガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４５〜６０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８．０超〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％（但し、１５％を含まず）、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ １〜４０％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １〜３０％を含有し、且つ歪点が５８０℃超であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い透磁率を有する基材を得ることができる磁性体ペーストを提供するとともに、このような磁性体ペーストを用いることにより、高性能な電子部品を提供する。
【解決手段】磁性体ペーストは、平均粒径が０．５〜１０μｍの磁性体焼結粉末、ガラス粉末および有機成分を含む。ここで、磁性体焼結粉末／ガラス粉末の質量比を８０／２０〜９０／１０の範囲とする。さらに、ガラス粉末におけるＳｉＯ₂の割合を７０〜９０質量％とする。この磁性体ペーストを硬化させて基材１２、１６、２２、２６を作製し、基材上に電極パターン１４、１８、２４、２８を形成して、基材の積層体１０を焼成することにより、高透磁率を利用したインダクタンスを有する電子部品を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】内部の気孔を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック複合材料を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜６０％、ＢａＯ １０〜４０％、ＣａＯ ０〜３０％、ＭｇＯ ０〜３０％を含有し、質量比で、１＜ＳｉＯ_２／ＢａＯ＜３の関係を満たすガラス粉末と、Ａｌ成分を含有するセラミック粉末と、を含有するガラスセラミック複合材料であって、熱処理によって、主結晶としてセルジアン結晶を析出することを特徴とするガラスセラミック複合材料。 （もっと読む）

【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６０％以上、Ａｌ_２Ｏ_３を３％以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが０．４〜２．０ｍｍ、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σ_Ｃが４００ＭＰａ〜１ＧＰａ、前記圧縮応力層の深さＤ_Ｃが１５〜３０μｍであることを特徴とする化学強化ガラス板。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性に優れた絶縁ペーストを提供する。
【解決手段】ガラス粉末を５０〜９０質量％、有機成分を１０〜５０質量％含む絶縁ペーストであって、該ガラス粉末が酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムを含有し、該ガラス粉末中の酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムの含有率の合計が５５〜８０質量％の範囲内であることを特徴とする絶縁ペースト。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ、可視光線のより幅広い波長に対して透過率が高く着色の少ない光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率及びアッベ数が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つガラスの洗浄時及び研磨時に曇りが生じ難い光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜６０．０％、及びＴａ_２Ｏ_５成分を０％より多く含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜３である。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜３％を含有し、質量比Ｋ_２Ｏ／Ｎａ_２Ｏが０〜０．２であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】画素−レンズ間の距離が短く、且つ適正な透明導電膜等を有する３Ｄディスプレイの視域制御部を得ることができる板厚が小さい、撓み難い液晶レンズ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３５〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３０〜１５％、ＭｇＯ０〜１５％、ＣａＯ０〜１５％を含有し、且つ板厚が４００μｍ以下であり、且つ板厚が４００μｍ以下であることをことを特徴とする液晶レンズ用ガラス基板。 （もっと読む）