【課題】炭素、Ｃｕ又は燐光物質をドープすることなく、紫外線を照射したときの蛍光が白色蛍光であるノンドープ白色蛍光合成シリカガラスを提供する。
【解決手段】ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．２poise以上であり、Ｃｕの含有量が１ｐｐｍ以下、Ｃの含有量が１００ｐｐｍ以下であり、紫外線を照射することで可視光領域に１秒以上の遅延蛍光を発生する合成シリカガラスであって、紫外線を照射したときの蛍光が白色蛍光であるようにした。 （もっと読む）

【課題】従来の火炎加水分解法や、新たなスート押圧法、ゾル・ゲル法などの方法で作製することが困難な、ドープされたシリカ・チタニアガラスを使用した、ＥＵＶＬの投影光学系の大型部品を提供する。
【解決手段】５℃から３５℃の温度範囲に亘ってＣＴＥが０±３０ｐｐｂ／℃以下である材料から成る素子ブランク１０が、ドープされたシリカ・チタニアガラスから成る、インサート１４を備える。シリカ・チタニアガラスに加えられたドーパントは、酸化アルミニウムと選択された遷移金属酸化物とから成る群から選択されたものであり、また素子ブランク１０の材料は、ガラスとガラスセラミックとから成る群から選択される。このインサート１４は、フリットを用いて、またはフリットを用いることなく、ブランク１０に融合接合される。 （もっと読む）

【課題】大口径コアおよび／または高いドーピングを可能にするガラスを提供すること。
【解決手段】本明細書に記載の様々な実施形態には、コア・サイズの大きい光ファイバおよびロッドで使用されてもよい、希土類がドープされたガラス組成物が含まれる。このような光ファイバおよびロッドは、ファイバ・レーザおよびファイバ増幅器で使用されてもよい。ガラスの屈折率は、実質上均一でもよく、実施形態によってはシリカの屈折率に近くてもよい。これらの特徴に対する実現可能な利点には、コア内での追加導波路の形成を低減させることが含まれ、コア・サイズが大きくなるにつれて、ますます問題になる。 （もっと読む）

【課題】温度の影響による変形を低減する、ＥＵＶリソグラフィ用の光学機構、特に投影レンズと、光学素子を有する該光学機構を構成する方法とを提供する。
【解決手段】反射面３１ａ及び第１ゼロ交差温度Ｔ_ＺＣ１でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された基板３２を備える第２ミラー２２と、反射面及び第１ゼロ交差温度とは異なる第２ゼロ交差温度でゼロ交差を有する温度依存性の熱膨張率を有するＴｉＯ_２ドープ石英ガラスから構成された第２基板を備える第２光学素子とを備え、第１ゼロ交差温度における第１基板３２の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_１>）及び／又は第２ゼロ交差温度における第２基板の熱膨張率の勾配（ΔＣＴＥ_２）は負の符号を有する光学機構に関する。 （もっと読む）

【課題】低レベルの偏光誘起複屈折、低レベルの光誘起波面歪曲及び高レベルの初期内部透過率を有する、合成石英材料及びその作成方法を提供する。
【解決手段】開示には約３００ｎｍより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるＯＤドープ合成石英ガラスが含まれる。ＯＤドープ合成石英ガラスはＯＨ濃度が同程度の無ＯＤドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ＯＤドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約１９３ｎｍにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 （もっと読む）

【課題】Ｔｚｃに対する許容値、ＣＴＥ対温度の傾き、およびＴｚｃの空間的均一性などの特定のパラメータに対して必要な改善がなされ、かつ２５ｎｍ未満のノードのリソグラフィにシステムの素子として使用するのに適した、ドープされたシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】選択された重量のシリカ・チタニア粉末と選択された重量のドーパント粉末とを検量して、このシリカ・チタニア粉末および選択されたドーパント粉末を混合し、さらに選択された流体を用いて、この混合された粉末のスラリーを形成する。このスラリーを噴霧乾燥して、およそ２００μｍ以下の直径サイズを有する自由流動微粒子を含んだ粉末を形成する。この粉末を、一軸加圧成形を用いて、次いでさらに冷間静水圧加圧を用いて、成形品に成形し、この成形品をホットプレスにより固化してドープされたシリカ・チタニアガラスブランクとし、さらにガラスブランクをアニールする。 （もっと読む）

【課題】無欠陥かつ高い平坦性を有する低膨張のチタニアをドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ素源原料ガス及びチタン源原料ガスを混合し、２００〜４００℃で加熱した後、可燃性ガス及び支燃性ガスにより酸化又は火炎加水分解させることを特徴とするチタニアドープ石英ガラスの製造方法。表面に体積３０，０００ｎｍ³以上の凹状欠陥がないＥＵＶリソグラフィ用部材、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用基板として好適なチタニアドープ石英ガラスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】上記問題点を解消する為になされたものであり、伝送損失が低い光ファイバを歩留よく製造するのに好適な光ファイバ母材を製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ母材製造方法は、コアロッド作成工程およびクラッド部付加工程を備える。コアロッド作成工程では、Ｃｌ濃度が６００atm・ppm未満である第一コア部２１と、第一コア部の外周に存在しＣｌ濃度が６００atm・ppm未満である第二コア部２２と、第二コア部の外周に存在しＣｌ濃度が３０００atm・ppm以上である第三コア部２３とを有し、第一コア部，第二コア部および第三コア部のうち第一コア部に選択的にアルカリ金属元素が添加されたコアロッドを作成する。クラッド部付加工程では、温度１２００℃以上での加熱を７時間以下としてコアロッドの周囲にクラッド部３０を付加する。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属元素がコアに添加され伝送損失が小さい光ファイバを製造することができる方法を提供する。
【解決手段】平均濃度５原子ppm以上のアルカリ金属元素が添加されたコア部とクラッド部とを含む石英系光ファイバ母材２０を線引装置１により線引して光ファイバ３０を製造する。その線引の際にガラス温度が１５００℃以上で保持される時間が１１０分以下である。線引速度は、１２００ｍ／min以上が好ましく、更には１５００〜２３００ｍ／minが好ましい。光ファイバ母材２０の直径は、７０〜１７０ｍｍφが好ましく、更に９０〜１５０ｍｍφが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光ファイバ損失を最低のレベルまで減少させた光ファイバを提供する。
【解決手段】ゲルマニア、フッ素およびそれらの混合物からなる群より選択される第１のドーパントに加え、Ｋ2Ｏからなるアルカリ金属酸化物を含む第２のドーパントを、２０から１０００ｐｐｍのピーク濃度で有してなるシリカベースのコアとし、アルカリ金属酸化物の濃度を、光ファイバの半径により異ならせる。コアとクラッド内のアルカリ金属酸化物ドーパントの濃度を適切に選択することによって、前記コアが、前記クラッドに対して、０．２％より大きいピーク相対屈折率ΔMAXを持つ屈折率プロファイルを持たせる。 （もっと読む）

【課題】コアとクラッド内のアルカリ金属酸化物ドーパントの濃度を適切に選択することによって、低損失光ファイバおよびその製造方法と装置を提供する。
【解決手段】光ファイバを製造する方法であって、Ｋ2Ｏからなるアルカリ金属酸化物を２０から１０００ｐｐｍのピーク濃度で有してなる第１のガラスロッドを形成し、前記第１のガラスロッドを、光ファイバ・プリフォームの中心孔中に挿入して、複合プリフォームを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射することにより遅延蛍光を発生するシリカガラス及び遅延蛍光を利用したシリカガラス製紫外線センサーを提供する。
【解決手段】合成シリカガラスにおいて、ＯＨ基含有量が１ｐｐｍ以下であり、塩素の含有量が３０ｐｐｍ以下で、厚さ２ｍｍの波長１９０ｎｍでの透過率が５０％以下であり、１２８０℃での粘度（Ｌｏｇη）が１２．０poise以上であり、低圧水銀ランプの２５４ｎｍの紫外線を照射した場合に４００ｎｍ〜６５０ｎｍの可視光領域に０．０１秒以上の遅延蛍光を発生するようにした。 （もっと読む）

【課題】改善された使用特性によって優れており、例えばディスプレイ表示の良好な表示品質を可能にし且つ／又は加熱素子及び／若しくはセンサーユニットの機能を改善するガラスセラミック表面を作り出す。
【解決手段】ガラスセラミック材料が、主要素を成している結晶相として高温石英混晶を有するガラスセラミック調理面において、下面３が平らに、構造化されておらず且つ上面２に対して面平行に形成されていることによって解決される。 （もっと読む）

【課題】断面内の屈折率を均等化できる合成シリカガラス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】合成シリカガラスは、１００ｐｐｍ以上のＦ元素と、１ｐｐｍ以上でありかつＦ元素の含有量の−β／α（式中、αはＣｌ元素１ｐｐｍあたり変化する屈折率の値、βはＦ元素１ｐｐｍあたり変化する屈折率の値）倍以下であるＣｌ元素とを含み、屈折率（ｎｄ）１．４５８５０をリファレンスとしたときの断面内の比屈折率差が０．０１％以下である。合成シリカガラスは、多孔質シリカ原料にフッ素をドープし、透明化されてなり、ドープは、多孔質シリカ原料を、フッ化塩素ガスを含む所定温度の雰囲気に配置することで行うことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】伝送損失が低く耐放射特性が優れた光ファイバ等を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ母材のコア部は、中心軸を含む第一コア部と、第一コア部に外接する第二コア部と、第二コア部に外接する第三コア部とを有し、第一コア部においてはアルカリ金属元素濃度が１０原子ｐｐｍ以上であって塩素元素濃度が１０〜６００原子ｐｐｍであり、第二コア部においてはアルカリ金属元素濃度が１０原子ｐｐｍ以下であって塩素元素濃度が１０〜６００原子ｐｐｍであり、第三コア部においてはアルカリ金属元素濃度が１０原子ｐｐｍ以下であって塩素元素濃度が２０００原子ｐｐｍ以上である。本発明の光ファイバは、コア領域にアルカリ金属元素及び塩素元素が添加され、コア領域における塩素元素濃度の最低値が１０００原子ｐｐｍ以上であり、コア領域におけるアルカリ金属の濃度の平均値が０.２原子ｐｐｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、２種以上のドープ元素を併せて０．１〜２０質量％含有し、前記ドープ元素が、Ｎ、Ｃ及びＦからなる群から選択される１種以上の第１の元素と、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される１種以上の第２の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、１８００℃以上に加熱するようにした。 （もっと読む）

【解決手段】ＥＵＶ光の反射面において、反射面の中心に位置する原点（Ｏ）及び複屈折測定点（Ａ）を結ぶ直線と、測定点（Ａ）における複屈折の進相軸とによりなす角度（θ）の平均値が４５°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、ＥＵＶリソグラフィ用、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】ナノインプリントリソグラフィ用モールド基材として使用した場合に、寸法のばらつきが±１０％以内の凹凸パターンを形成することができるＴｉＯ2含有石英ガラス基板の提供。
【解決手段】１５〜３５℃における熱膨張係数が±２００ｐｐｂ／℃以内であり、ＴｉＯ₂濃度が４〜９ｗｔ％であり、転写パターンを形成する側の基板表面から深さ５０μｍまでの表面近傍領域におけるＴｉＯ₂濃度分布が、±１ｗｔ％以内であることを特徴とするＴｉＯ₂含有石英ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】ＡｒＦリソグラフィ用ミラーに適した特性を有する光学部材、および、該光学部材を用いたＡｒＦリソグラフィ用ミラーの提供。
【解決手段】光学面が下記（１）〜（５）を満たし、２２℃における熱膨張係数（ＣＴＥ）が０±２００ｐｐｂ／℃であるＡｒＦリソグラフィ用光学部材。
１ｍｍ≦λ（空間波長）≦１０ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （１）
１０μｍ≦λ（空間波長）≦１ｍｍにおけるＲＭＳが０．１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下 （２）
２５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦１０μｍにおけるＲＭＳが０．０５ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （３）
１００ｎｍ≦λ（空間波長）≦１μｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （４）
５０ｎｍ≦λ（空間波長）≦２５０ｎｍにおけるＲＭＳが０．０１ｎｍ以上１．０ｎｍ以下 （５） （もっと読む）

【課題】伝送損失が小さい光ファイバを製造する上で好適な光ファイバ母材を製造することができる方法を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ母材製造方法は、 (1) 平均濃度５atm・ppm以上のアルカリ金属元素が添加された石英ガラスからなるガラスロッドを作製するロッド作製工程と、(2) ロッド作製工程において作製されたガラスロッドを熱処理する熱処理工程と、(3) 熱処理工程において熱処理されたガラスロッドの外周に、濃度６０００atm・ppm以上の塩素を含みアルカリ金属元素を含まない石英ガラス層を設けて、ガラスロッドおよび石英ガラス層をコア部とするコア部作製工程と、(4) コア部作製工程において作製されたコア部の外周に、そのコア部の屈折率より低い屈折率を有する石英ガラスのクラッド部を設けるクラッド部作製工程とを備える。 （もっと読む）