【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ８．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、Ｃｌ ０．００１〜３％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所望結晶のみをガラス中に選択析出させた結晶化ガラスとその製法を提供する。
【解決手段】遷移金属元素あるいはリチウムを含有するガラスにマイクロ波を照射することによって、鉄、銅等の遷移金属元素あるいはリチウムから構成される所望結晶をガラス中に選択析出させる。結晶化ガラスの少なくとも一部は非晶質であり、結晶化ガラスがバナジウムあるいは、リチウムイオン，ナトリウムイオン，マグネシウムイオンのいずれかを含む。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ナシコン型構造を有する結晶を含有する光触媒ガラスセラミックスが提供される。ここで、ナシコン型構造は、例えば一般式ＡｍＢ_２（ＸＯ_４）_３（式中、第一元素ＡはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ及びＢａからなる群から選択される１種以上とし、第二元素ＢはＺｎ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ及びＴａからなる群から選択される１種以上とし、第三元素ＸはＳｉ、Ｇｅ、Ｐ、Ｓ、Ｍｏ及びＷからなる群から選択される１種以上とし、係数ｍは０以上３以下とする）で表される。 （もっと読む）

【課題】従来材料に対して、プラズマディスプレイに使用したときに衝撃による欠け落ちが起こりにくい隔壁材料の提供を目的とする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、Ｂ_２Ｏ_３とＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が７２％以上、Ｌｉ_２Ｏが５〜１９％であり、Ｋ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ）のモル比が１以下であり、室温でのヤング率が８０ＧＰａ以下である隔壁形成用無鉛ガラス。詳細なガラス組成としては、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜５５％、ＳｉＯ_２を１０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１種以上を含み含有量の合計が５〜２０％、ＺｎＯを０〜２０％含有するものである。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するＬＴＣＣ基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】２５〜６０質量％のガラス粉末と１５〜５０質量％のアルミナ粉末および１０〜４０質量％の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を０〜５０質量％、Ｂ_２Ｏ_３を１５〜５０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０質量％、ＺｎＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯから選ばれる１種以上を合計で３〜６５質量％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏから選ばれる１種以上を合計で０〜２０質量％、Ｂｉ_２Ｏ_３を０〜５０質量％含有し、「（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量）の３倍」＋「（ＺｎＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量）の２倍」＋「（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏの含有量）の１０倍」の値が２００を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】高周波電子部品の回路基板材料等の用途に利用可能な、誘電率εが高く、温度特性τεの絶対値が小さい誘電体材料を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２を５〜５０％、ＳｒＯを３〜５０％、及び、ＳｉＯ_２を１５〜８５％を含有し、ＳｒＴｉＯ_３結晶及び／又はその固溶体を含有する。ガラスセラミックスは、好ましくは誘電率εが２０以上であり、Ｑ値が１０００より大きく、誘電率εの温度特性τεの絶対値が３００未満である。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、かつ十分な反射率や緻密さを有する発光ダイオード素子用基板を得ることのできるガラスセラミックス組成物を提供すること。
【解決手段】３０〜５０質量％のホウケイ酸系ガラス粉末、３５〜６０質量％のアルミナ粉末、および１０〜２０質量％のジルコニア粉末を含み、発光ダイオード素子を搭載するための基板の製造に用いられるガラスセラミックス組成物であって、前記ホウケイ酸系ガラス粉末が、酸化物換算で、ＳｉＯ_２を４５〜６５質量％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜２０質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を５〜２５質量％、およびＣａＯを１５〜３５質量％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、およびＫ_２Ｏを含有しない、あるいはＬｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、およびＫ_２Ｏの合計した含有量が０．５質量％未満であるもの。 （もっと読む）

【課題】樹脂製の固体撮像素子パッケージに好適なカバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ３５〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ ６〜２３％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜２５％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １５〜４０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＺｎＯ ０〜３０％、を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２を含有しないことを特徴とする固体撮像素子パッケージ用カバーガラス。 （もっと読む）

【課題】化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】酸化物のモル％表示で、ＳｉＯ_２：２６〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３：４〜２５％、Ｂ_２Ｏ_３：２０〜５０％、ＺｎＯ：０．１〜４％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢａＯの少なくとも１種：２〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの少なくとも１種：１０〜３０％、但し、Ｌｉ_２Ｏ：０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ：０〜２０％、Ｋ_２Ｏ：０〜１７％を含有する無鉛ガラス組成物である。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 亜鉛成分を含む結晶相を有し、光触媒活性を有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＺｎＯ成分を１０〜７０％含有してもよく、さらにＳｉＯ_２成分、ＧｅＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、及びＰ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分３０〜８０％を含有してもよい。このガラスセラミックスは、粉粒状、ファイバー状、スラリー状混合物、焼結体、基材との複合体などの形態をとることが出来る。 （もっと読む）

【課題】レンズ表面のクモリが発生しにくく量産性に優れた光学ガラスを提供するものである。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ４〜２０％（ただし４％を含まず）、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜６０％、Ｓｂ_２Ｏ_３ ０．００１〜０．１％（ただし０．１％を含まず）含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い光反射率を有する光反射基材を容易に製造することができる材料を提供する。
【解決手段】組成として実質的にＣａＯを含まないガラス粉末とＮｂ_２Ｏ_５結晶粉末を含むことを特徴とする光反射基材用材料、当該光反射基材用材料の焼結体からなることを特徴とする光反射基材、およびそれ用いたことを特徴とする発光デバイス。 （もっと読む）

【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５成分、ＳｉＯ_２成分及びＢ_２Ｏ_３成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。 （もっと読む）

【課題】６００℃以下の温度で十分に焼成でき、より低い誘電率と高い透過率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストは、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末、シロキサン樹脂及び溶剤を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストであって、Ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）におけるＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末とシロキサン樹脂との屈折率差が絶対値で０．１未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】再加熱時失透安定性に優れ、部分分散比を低く抑えた、精密プレス成形性に優れた高屈折率高分散光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子、それらの製造方法、前記光学素子を備えた撮像装置を提供。
【解決手段】光学ガラスは、屈折率ｎｄが１．７５〜１．８６、アッベ数νｄが２４〜３０の酸化物ガラスである。カチオン％表示にて、Ｓｉ⁴⁺を１５〜３５％、Ｂ³⁺を０〜２０％、Ｎｂ⁵⁺を１５〜２５％、Ｔｉ⁴⁺を０〜９％、Ｚｒ⁴⁺を０〜３％、Ｗ⁶⁺を０．２５〜２．５％、Ｌｉ⁺を０〜１９％、Ｎａ⁺を３〜１９％、Ｋ⁺を０〜１８％、Ｂａ²⁺０〜２％含む。カチオン比（Ｎｂ⁵⁺／（Ｎｂ⁵⁺＋Ｔｉ⁴⁺））が０．７１〜１、Ｈ／は1.15〜2.55Ｌ[H=（２０Ｓｉ⁴⁺＋２Ｎｂ⁵⁺）、Ｌ=（８Ｂ³⁺＋６Ｌｉ⁺＋５Ｎａ⁺＋３Ｋ⁺＋３Ｚｎ²⁺＋７Ｗ⁶⁺）]、Ｔｉ⁴⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｗ⁶⁺、Ｂａ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｒ⁴⁺、Ｌｉ⁺の合計含有量が５０％以下、Ｔｉ⁴⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｚｒ⁴⁺の合計含有量２０％〜３０．７８％、Ｂａ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｒ⁴⁺の合計含有量が０〜３．７９である。 （もっと読む）

【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機ＥＬ照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が２ｍｍ以下であり、且つ屈折率ｎｄが１．５５以上の板ガラス。ガラス組成としてＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、ＺｎＯ、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜６０％含み、あるいはＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、Ｇｄ↓２Ｏ↓３、ＷＯ↓３、Ｔａ↓２Ｏ↓５、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜７０％含む。 （もっと読む）

【課題】溶融温度をアルミノシリケート系ガラスよりも低下させ、組成成分にＬｉを含有せず、クラックの発生を低減する化学強化用ガラス組成物、及びこれを化学強化して得た化学強化ガラス材を提供する。
【解決手段】イオン交換法により化学強化される被強化ガラス材とは、ＳｉＯ₂を３５〜６５モル％、Ａｌ₂Ｏ₃を６〜２０モル％、Ｂ₂Ｏ₃を５〜３０モル％、Ｎａ₂Ｏを７〜２０モル％、Ｋ₂Ｏを０〜１５モル％を含有し、Ｎａ₂Ｏ及びＫ₂Ｏのモル％の和が１０〜２５モル％であることを満たす主成分（Ａ１）と、ＭｇＯ、ＣａＯ、またはＺｎＯのいずれか１種以上を被強化ガラス材全体において１〜１５モル％含有することを満たす当該被強化ガラス材の補助成分（Ａ２）とを含んでなるアルミノボロシリケートガラスの化学強化用ガラス組成物であり、これを化学強化してなる化学強化ガラス材である。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、(ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＳｎＯ_２０．０１〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、ＴｉＯ_２０〜０．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、（ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）