【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラス、前記光学ガラスからなる精密プレス成形用プリフォームおよび光学素子と、前記光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】前記光学ガラスは、屈折率ｎｄが１．８６以上、アッベ数νｄが２８〜３６、液相温度が１０００℃以下であり、カチオン％表示で、
Ｓｉ⁴⁺ ０〜５％
Ｂ³⁺ ２５〜４５％、
Ｌｉ⁺ ０〜２０％、
Ｎａ⁺ ０〜５％、
Ｋ⁺ ０〜５％、
Ｍｇ²⁺ ０〜５％、
Ｃａ²⁺ ０〜５％、
Ｓｒ²⁺ ０〜５％、
Ｂａ²⁺ ０〜５％、
Ｚｎ²⁺ ５〜４０％、
Ｌａ³⁺ ５〜２５％、
Ｇｄ³⁺ １〜１５％、
Ｙ³⁺ ０〜５％、
Ｙｂ³⁺ ０〜５％、
Ｚｒ⁴⁺ ０〜３％、
Ｔｉ⁴⁺ １〜１５％、
Ｎｂ⁵⁺ ０〜５％、
Ｔａ⁵⁺ ０〜５％、
Ｗ⁶⁺ １〜３０％、
Ｔｅ⁴⁺ ０〜５％、
Ｇｅ⁴⁺ ０〜５％、
Ｂｉ³⁺ ０〜５％、
Ａｌ³⁺ ０〜５％、
を含む。以下のカチオン比を有する。（Ｂ³⁺／（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺））が０．８５〜１．００、（Ｂ³⁺／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜３．０、（Ｂ³⁺／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．５〜４．０、（Ｚｎ²⁺/（Ｚｎ²⁺＋Ｍｇ²⁺＋Ｃａ²⁺＋Ｓｒ²⁺＋Ｂａ²⁺））が０．８〜１．０、（（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺）／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．３〜２．５、Ｔｉ⁴⁺／Ｗ⁶⁺が０．１〜１．５、（（Ｔｉ⁴⁺＋Ｗ⁶⁺）（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．８〜１．０。 （もっと読む）

【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を４００℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を１０００質量ｐｐｍ以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Ｐ_ｂ１および温度４００℃以下のフッ素単体（Ｆ_２）含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Ｐ_ｂ１よりも低い圧力Ｐ_ｂ２および温度４００℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低膨張のガラス基板上に亀裂や崩れを生じさせることなく高さの高い隔壁を形成することが可能な隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料は、ガラス粉末とフィラー粉末を含む隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であって、質量％で、ガラス粉末が３０〜６０％、フィラー粉末が４０〜７０％からなり、ガラス粉末がＺｎＯ−Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスからなり、フィラー粉末が球状シリカからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低膨張、高強度であり、且つ低温で固相反応し得る耐火性フィラー粉末およびその製造方法を創案することにより、封着材料の低廉化を図るとともに、封着部位の破損及び未反応の原料に起因する封着不良を防止すること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、主結晶相がウイレマイト及びガーナイトであることを特徴とし、ウイレマイトとガーナイトの割合が、モル比で９９：１〜７０：３０であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特にランタン系ガラスを成形する際に、成形されたガラスに割れや曇りを生じ難い成形型及びその製造方法を提供する。
【解決手段】成形型１０は、成形面２１１、３１１を有する型母材２１、３１と、成形面２１１、３１１上に設けられた保護膜２３、３３と、を備える成形型１０であって、保護膜２３、３３は、Ｉｒ及びＲｅを、Ｉｒの含量に対するＲｅの含量のモル比が２．５倍以下になる含量で含有し、成形型１０は、ランタン系ガラスの成形に用いられる。 （もっと読む）

【課題】粘性状態でプレスすることによって、プロセスが実質的に亀裂も傷も含まないコーティングを形成するプロセスで、酸化ジルコニウムセラミックにコーティングされ得るガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】特に粘性状態でプレスすることによって、酸化ジルコニウムセラミックに有利に塗布され得、そしてこの酸化ジルコニウムセラミックとしっかりした結合を形成し得る、ケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラスが提供される。 （もっと読む）

【課題】高品質の光学素子を安定生産可能にする高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎｄが１．８９以上、アッベ数νｄが２８〜３６であり、組成にＢ，Ｚｎ，Ｌａ，Ｓｉ，Ｇｄ，Ｔｉ，Ｗを必須として含み、さらに、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素、Ｙ，Ｙｂ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｔｅ，Ｇｅ，Ｂｉ，Ａｌを０〜５％含んでおり、これら成分のカチオン比が、（Ｂ³⁺／（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺））が０．７０〜０．９６、（Ｂ³⁺／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜２．０、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｌａ³⁺＋Ｇｄ³⁺＋Ｙ³⁺））が１．０〜３．０、（Ｂ³⁺／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が０．８〜４．０、、（（Ｂ³⁺＋Ｓｉ⁴⁺）／（Ｔｉ⁴⁺＋Ｎｂ⁵⁺＋Ｔａ⁵⁺＋Ｗ⁶⁺））が１．５〜５．０、等となる光学ガラスとする。 （もっと読む）

【課題】６００℃以下の温度で十分に焼成でき、より低い誘電率と高い透過率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストは、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末、シロキサン樹脂及び溶剤を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストであって、Ｄ線（波長５８７．６ｎｍ）におけるＢ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末とシロキサン樹脂との屈折率差が絶対値で０．１未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で、Ｐ_２Ｏ_５成分、ＳｉＯ_２成分及びＢ_２Ｏ_３成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、ソラリゼーション（波長４５０ｎｍにおける分光透過率の劣化量）が５．０％以下である。光学素子は、この光学ガラスからなる。また、ガラス成形体の製造方法は、この光学ガラスを用い、軟化した前記光学ガラスに対して金型内でプレス成形を行う。 （もっと読む）

【課題】塩素もしくは塩化物と反応し難く、耐塩化物性に優れ、かつ耐熱性を有したガラス組成物に関するもので、塩素成分を含む高温の溶融塩による腐食から、ステンレス鋼等を保護する皮膜を形成するための皮膜形成用ガラス組成物及びその利用方法を提供すること。
【解決手段】モル％で表して、Ｐ_２Ｏ_５が３０〜８０、Ｆｅ_２Ｏ_３が０〜５０、Ａｌ_２Ｏ_３が０〜３０、Ｂ_２Ｏ_３が０〜１５、ＴｉＯ_２が０〜４０、ＺｒＯ_２が０〜１０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選択される１種以上の合計）が０〜１５、Ｒ’Ｏ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯから選択される１種以上の合計）が０〜１５で、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２が１〜６５、Ｒ_２Ｏ＋Ｒ’Ｏが０〜２０からなる軟化点が５５０℃以上で、かつ、塩素または塩化物に対する耐性に優れた皮膜形成用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．９以上で、アッベ数が１９〜２２の光学恒数を有し、しかも光透過特性に優れたリン酸塩系光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％で、酸化物基準のｍｏｌ％で、Ｐ_２Ｏ_５２０．０−３０．０Ｂ_２Ｏ_３３．５−１０．０ＳｉＯ_２０−５．０ＢａＯ ０−５．０Ｎａ_２Ｏ １６．２−２５．０Ｋ_２Ｏ ０−８．０ Ｂｉ_２Ｏ_３ １０．０−２０．０ＴｉＯ_２ ３．０−１５．０Ｎｂ_２Ｏ_５ １０．０−２０．０ＷＯ_３ ５．０−１５．０ＺｎＯ ０−５．０を含有し、かつ、Ｌｉ_２Ｏを実質的に含まず、液相粘性(η_ＴＬ)が７ｄＰａ・ｓ以上で、屈折率ｎ_ｄ：１．９０以上、である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】再加熱時失透安定性に優れ、部分分散比を低く抑えた、精密プレス成形性に優れた高屈折率高分散光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム、光学素子、それらの製造方法、前記光学素子を備えた撮像装置を提供。
【解決手段】光学ガラスは、屈折率ｎｄが１．７５〜１．８６、アッベ数νｄが２４〜３０の酸化物ガラスである。カチオン％表示にて、Ｓｉ⁴⁺を１５〜３５％、Ｂ³⁺を０〜２０％、Ｎｂ⁵⁺を１５〜２５％、Ｔｉ⁴⁺を０〜９％、Ｚｒ⁴⁺を０〜３％、Ｗ⁶⁺を０．２５〜２．５％、Ｌｉ⁺を０〜１９％、Ｎａ⁺を３〜１９％、Ｋ⁺を０〜１８％、Ｂａ²⁺０〜２％含む。カチオン比（Ｎｂ⁵⁺／（Ｎｂ⁵⁺＋Ｔｉ⁴⁺））が０．７１〜１、Ｈ／は1.15〜2.55Ｌ[H=（２０Ｓｉ⁴⁺＋２Ｎｂ⁵⁺）、Ｌ=（８Ｂ³⁺＋６Ｌｉ⁺＋５Ｎａ⁺＋３Ｋ⁺＋３Ｚｎ²⁺＋７Ｗ⁶⁺）]、Ｔｉ⁴⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｗ⁶⁺、Ｂａ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｒ⁴⁺、Ｌｉ⁺の合計含有量が５０％以下、Ｔｉ⁴⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｚｒ⁴⁺の合計含有量２０％〜３０．７８％、Ｂａ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｚｒ⁴⁺の合計含有量が０〜３．７９である。 （もっと読む）

【課題】それ自身白色乃至青色に発光するガラス、また、そのようなガラスを被覆した発光素子及び発光装置を提供する。
【解決手段】発光ガラスは、紫外線領域の光による励起によって蛍光を発するガラスであって、ＳｎＯ_ｘ及びＰ_２Ｏ_５を含有し、かつＳｎ原子の全量に対するＳｎ^２＋の存在率が５〜９５％である。発光素子及び発光装置は、そのようなガラスで半導体発光素子の主表面を被覆してなる。 （もっと読む）

【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体５０の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをＡｌ濃度１０ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ、且つＮａ濃度５０ｐｐｂ未満のＳｉＯ_２質粉体２０によって接触状態で被覆し、９００℃〜１３００℃の温度範囲で３０分〜８００時間の熱処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】有機発光層から発生した光を効率良く外部に取り出せると共に、高いガスバリア性を有する基板材料を創案し、有機ＥＬ照明等の光の取り出し効率および信頼性を高めるガラス板を提供する。
【解決手段】板厚が２ｍｍ以下であり、且つ屈折率ｎｄが１．５５以上の板ガラス。ガラス組成としてＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、ＺｎＯ、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜６０％含み、あるいはＢａＯ、Ｔｉ↓２Ｏ、Ｎｂ↓２Ｏ↓５、Ｌａ↓２Ｏ↓３、Ｇｄ↓２Ｏ↓３、ＷＯ↓３、Ｔａ↓２Ｏ↓５、ＺｒＯ↓２を合わせて１０〜７０％含む。 （もっと読む）

【課題】
結晶Ｓｉ太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を１〜１５、Ｂ_２Ｏ_３を１８〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを２５〜４３、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を８〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を６〜１７含むＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＲＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性および耐候性に優れた半導体発光素子デバイス等の製品を製造することが可能な接合材料を提供する。
【解決手段】軟化点５００℃以下のガラスフィルムからなることを特徴とする接合材料、および当該接合材料を複数の被接合部材間に設置し、接合材料の軟化点より低い温度で加熱接合することを特徴とする部材接合方法。 （もっと読む）

【課題】鉛を含まず、アルミニウム（Ａｌ）の仕事関数より電極配線としての見かけの仕事関数が小さくなるアルミニウム電極配線用のガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミニウムより仕事関数が小さい元素の酸化物から構成される。この酸化物は、バナジウム（Ｖ）の酸化物と、アルカリ土類金属の酸化物と、アルカリ金属の酸化物とから構成され、アルカリ土類金属の元素としてはカルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）及びバリウム（Ｂａ）の元素の内少なくともバリウムを含む１種以上の元素がなり、アルカリ金属の元素としてはナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）及びセシウム（Ｃｓ）の元素の内少なくとも１種以上の元素がなる。バナジウムの元素が五酸化バナジウム（Ｖ_２Ｏ_５）として含まれているとした場合に、五酸化バナジウムを４０〜７０重量％含む。 （もっと読む）

【課題】高品質かつ機械強度の高い薄板状のカバーガラス及び前記カバーガラスを備えるディスプレイを提供する。
【解決手段】組成が、酸化物基準のモル％表示にて、ＳｉＯ₂：６０〜７５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜１２％（ただし、ＳｉＯ₂およびＡｌ₂Ｏ₃の合計含有量が６８％以上）、Ｂ₂Ｏ₃：０〜１０％、Ｌｉ₂ＯおよびＮａ₂Ｏを合計で５〜２６％、Ｋ₂Ｏ：０〜８％（ただし、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂ＯおよびＫ₂Ｏの合計含有量が２６％以下）、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯおよびＺｎＯを合計で０〜１８％、ＺｒＯ₂、ＴｉＯ₂およびＨｆＯ₂を合計で０〜５％、を含み、さらに、Ｓｎ酸化物およびＣｅ酸化物を外割り合計含有量で０．１〜３．５質量％含み、（Ｓｎ酸化物の含有量／（Ｓｎ酸化物の含有量＋Ｃｅ酸化物の含有量））が０．０１〜０．９９であり、Ｓｂ酸化物の含有量が０〜０．１％であり、板厚が１．０ｍｍ以下のガラスを用いる。 （もっと読む）