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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B2O3成分、La2O3成分を含有し、1.73以上の屈折率(nd)と、45以上のアッベ数(νd)とを有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で(θg,F)≧(−0.00170×νd+0.63750)の関係を満たす。
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低ストリエーション極紫外光光学素子
【課題】低レベルのストリエーションを有する極紫外光光学素子及び極紫外光光学素子を製造するためのガラスブールを提供する。
【解決手段】研磨され、整形された表面を有し、0.2メガパスカル(MPa)より小さい山対谷ストリエーションレベルを有する、チタニア含有シリカガラスを含み、当該ガラスが、5重量%と10重量%の間のチタニアを含有する。前記ガラスは、20℃と35℃の間で+30ppb/℃から−30ppb/℃の範囲の熱膨張係数(CTE)を有する。
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電極形成用ガラス及びこれを用いた電極形成材料
【課題】ブリスターやAlの凝集を発生させずに、Al−Si合金層とAlドープ層を適正に形成し得るビスマス系ガラスからなる電極形成用ガラスを創案することにより、シリコン太陽電池の外観不良を低減し、且つ光電変換効率を高めること。
【解決手段】本発明の電極形成用ガラスは、ガラス組成として、質量%で、Bi2O3 56〜76.3%、B2O3 2〜18%、ZnO 0〜11%(但し、11%は含まず)、CaO 0〜12%、BaO+CuO+Fe2O3+Sb2O3(BaO、CuO、Fe2O3、及びSb2O3の合量) 0〜25%を含有し、軟化点が462〜520℃であることを特徴とする。
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封着材料層付きガラス部材とそれを用いた電子デバイスおよびその製造方法
【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板3は封止領域5を備える。ガラス基板3の封止領域7上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層7が設けられている。枠状の封着材料層7は直線部7aとコーナー部7bとで構成されている。封着材料層7はコーナー部7bの幅L12が直線部7aの幅L11より広い。
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リチウムイオン伝導性材料の製造方法
【課題】特にリチウムイオン二次電池用固体電解質として好適なリチウムイオン伝導性材料を、安定かつ大量に製造することが可能な方法を提供する。
【解決手段】(1)組成としてリチウム、リンおよび硫黄を含有する複合化合物を溶融してガラス化させる工程、および、(2)溶融ガラスを急冷することにより硫化物ガラスを得る工程、を含むことを特徴とするリチウムイオン伝導性材料の製造方法、およびその製造方法により製造されたことを特徴とするリチウムイオン伝導性材料。
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光学ガラス
【課題】低い屈折率の温度係数と良好な光線透過性を併せ持つ、温度変化の激しい環境での使用に好適なガラス組成物を提供する。
【解決手段】SiO2、B2O3、La2O3を含有するガラスであって、相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が10.0×10−6(℃−1)以下の光学ガラス。相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が4.6×10−6(℃−1)以下の前記光学ガラス。400nmにおける内部透過率(τ10mm)が80%以上である前記光学ガラス。
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固体電解質ガラス及びその製造方法
【課題】原料を微粒子化するために用いるニトリル溶媒と同一の溶媒中で固体電解質ガラスを製造できる方法を提供する。
【解決手段】リチウム(Li)元素、リン(P)元素及び硫黄(S)元素を含む固体電解質ガラスであって、ニトリル化合物を含み、熱量計測定装置の150℃までの重量減少量が5重量%以下である固体電解質ガラス。
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ガラス板
【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、3Dディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜80%、Al2O3 0〜30%、B2O3 0〜15%、アルカリ金属酸化物(Li2O、Na2O、K2Oの一種又は二種以上) 0〜25%、アルカリ土類金属酸化物(MgO、CaO、SrO、BaOの一種又は二種以上) 0〜15%を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。
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光学ガラスの製造方法
【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、P2O5 5〜60%、TiO2 0〜25%、B2O3 0〜20%、SiO2 0〜30%、Nb2O5 5〜60%、Ta2O5 0〜20%、WO3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZrO2 0〜 5%、Al2O3 0〜 5%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、La2O3+Y2O3+Gd2O3 0〜20%、ZnO 0〜20%、Li2O+Na2O+K2O 0〜35%、ただし、Li2O 0〜 8%、Na2O+K2O 0〜35%、および上記金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物(F)として合計0〜8%含有する光学ガラスにおいて、MoO3の含有量を測定し、MoO3の含有量が重量で30ppmを超える場合は、MoO3の含有量を重量で30ppm以下に減少させる。
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無鉛半導体封入用ガラス
【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 106dPa・sの粘度の温度が670℃以下であり、ガラス組成として、CeO2の含有量が0.01〜6質量%であり、且つSb2O3の含有量が0.1質量%以下であることを特徴とする。
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封着用ガラス
【課題】低温での信頼性に優れる封着性を維持しつつ、封着後のガラス(封着部)の耐候性を向上させた封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、30〜33%のP2O5と、63〜69%のSnOと、0〜3%のZnOと、0.1〜3%のWO3、TeO2、GeO2、Ga2O3、In2O3、La2O3、CaO、及びSrOからなる群より選ばれる少なくとも1種とを含むガラス組成物からなり、ガラス転移温度が250℃以下である。
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ガラス体を製造する方法及びEUVリソグラフィ用の光学部材を製造する方法
【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル(A)に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル(B)に供給し、さらにノズル(A)、(B)とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル(A)以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの50%以上90%以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。
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光加熱封着用ガラス、封着材料層付きガラス部材、及び電子デバイスとその製造方法
【課題】レーザ封着に代表される光加熱封着に適用する際に、広い波長域で十分な光吸収率を有すると共に、封着温度を低温化することを可能にした封着用ガラスを提供する。
【解決手段】封着用ガラスは、酸化物基準のモル%表示で、27〜33%のP2O5、50〜70%のSnO、0.5〜3%のTeO2、0〜10%のZnO、0〜5%のCaO、0〜5%のSrO、0〜5%のB2O3、0〜5%のGa2O3、0〜3%のGeO2、0〜3%のIn2O3、0〜3%のLa2O3、及び0〜3%のWO3を含むガラス組成物からなる。封着用ガラスはレーザ光等の光ビームで加熱する封着工程に適用され、電子デバイス1の封着層6の形成に使用される。
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光学ガラスの製造方法
【課題】所定の光学定数を有し、ガラス転移温度が低く、ISO試験法耐酸性に優れ、
液相温度における粘度が高く、透過率に優れ、精密プレスモールド成形に適した光学ガラ
スの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスの製造方法は、SiO2、B2O3、La2O3、Gd2O3、Ta2O5、WO3、TiO2、ZnO、及びLi2Oを含有する原料を準備し、原料をるつぼに投入し、溶融し、徐冷することによって光学ガラスを得る工程を含み、光学ガラスは、屈折率(nd)が1.85を超え、アッベ数(νd)が40以上の範囲の光学定数を有し、必須成分として酸化物基準の質量%でSiO2 3〜8%、B2O3 5〜19.5%、La2O3 15〜50%、Gd2O3 0.1〜25%、Ta2O5 10%を超え25%、WO3 1.5〜6%、TiO2 0〜1%、ZnO 0.1%以上であり、Li2Oを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分を含まず、ガラス転移温度(Tg)が630℃以下である。
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ガラス組成物および基板上にそれを具備する部材
【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率(nd)が1.88以上2.20以下、ガラス転移温度(Tg)が450℃以上515℃以下、および50℃から300℃までの平均熱膨張係数(α50−300)が60×10−7/K以上90×10−7/K以下であって、Bi2O3の含有量は酸化物基準のモル%表示で5〜30%であり、ZnOの含有量は酸化物基準のモル%表記で4〜40%であることを特徴とする。
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バナジン酸塩ガラスの微粉末の製造方法および製造装置
【目的】本発明は、バナジウムを主成分とする導電性ガラスの微粉末を製造する、バナジン酸塩ガラスの微粉末の製造方法および製造装置に関し、簡易な製造方法かつ多量かつ安価にナノサイズレベルの微粉末を製造することを目的とする。
【構成】導電性ガラスのバルクから製造した粉末を、当該粉末が溶解する溶液中に入れて超音波を印加して粉末同士の凝集を防止して微粉末化を均一かつ促進する微粉末化ステップを有する導電性ガラスの微粉末の製造方法である。
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導体形成用無鉛ガラス組成物
【課題】導体形成用としてより優れた特性を発揮できるZnO−B2O3系結晶化ガラス組成物を提供する。
【解決手段】モル%で1)SiO2:7〜17%、2)B2O3:30〜40%、3)ZnO:40〜50%ならびに4)Li2O、Na2O及びK2O少なくとも1種:6〜13%を含むことを特徴とする導体形成用無鉛ガラス組成物に係る。
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ガラスの製造方法
【課題】溶融ガラスMによる耐熱容器1の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器1に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器1内の溶融ガラスMを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器1を、この耐熱容器1の外側面を支える支持部材2を介して底部12を浮かせた状態で載置面3の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、SiO2成分と、Ta2O5成分、Nb2O5成分、Na2O成分及びBaO成分からなる群から選択される1種以上と、を含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でB2O3成分を10.0〜50.0%、La2O3成分を5.0〜30.0%を含有し、Ta2O5成分の含有量が5.0%以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。
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