【課題】本発明の目的は、屈折率１．９０〜２．１０、アッベ数１５〜２７の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜３０．０％、Ｔａ_２Ｏ_５成分を０．５〜１５．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６２×ν_ｄ＋０．７５６６３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２６０×ν_ｄ＋０．６８１００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ＳｎＯ含有ガラス粉末との適合性が良好なビークル、特にバインダーを創案することにより、焼成時にＳｎＯ含有ガラス粉末のガラス組成中のＳｎＯがＳｎＯ_２に酸化し難く、電子部品等に必要な気密性や封着強度を確保し得るガラスペーストを作製すること。
【解決手段】本発明のガラスペーストは、封着材料とビークルを含有するガラスペーストにおいて、封着材料がＳｎＯ含有ガラス粉末を含み、且つビークルが脂肪族ポリプロピレンカーボネートと溶媒を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で高透明の光学ガラスを提供する。
【解決手段】１．９４５≦ｎｄ≦１．９７の屈折率ｎｄ、３３≦νｄ≦３６のアッベ数νｄならびに４１０ｎｍおよび１０ｍｍの厚さで＞８０％の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスはＢ^３＋３５−４６カチオン％、Ｌａ^３＋２５−３５カチオン％、Ｔａ^５＋６−１４カチオン％、Ｗ^６＋６−１３カチオン％、Ｚｒ^４＋１−７カチオン％、Ｇｄ^３＋０−５カチオン％、Ｎｂ^５＋０−４カチオン％、Ｙ^３＋０−４カチオン％、Ｂａ^２＋０−２カチオン％、Σアルカリ土類酸化物０−２カチオン％を有することを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】低融点特性を有するにもかかわらず、真空焼成によりガラス組成中のビスマスが還元し難いビスマス系ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラスは、ガラス組成として、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ １０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２５〜４５％、ＺｎＯ ５〜２０％、ＳｉＯ_２ １〜１５％、ＳｒＯ ５〜２０％、ＢａＯ ３〜２０％、ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜３５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】５３０〜５７０℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。

【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％未満、ＭｇＯ ０〜８％、ＣａＯ ０〜８％、ＳｒＯ １０〜２０％、ＢａＯ ０〜８％、ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜３０％、Ｎａ_２Ｏ １〜９％未満、Ｋ_２Ｏ ６超〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合量） ９〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２（Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２の合量） ０〜６％未満を含有し、且つ歪点が５３０〜５７０℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

ＹＰ−ガラスとＹ原料物質との反応を含む、ＹＰＯ₄セラミックを製造するための反応性セラミック化方法。本発明は、とりわけ、比較的低温、比較的短時間、および低コストで、純粋相のＹＰＯ₄セラミック材料を合成するのに用いることができる。本発明は、例えば、大きい寸法のガラスシートを製造するためのフュージョンダウンドロー法におけるアイソパイプに適した大きいＹＰＯ₄ブロック片の製造に使用することができる。
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【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造法であって、（ａ）ガラス形成原料であるＳｉ前駆体およびＴｉ前駆体を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して透明ガラス体を得る工程と、（ｃ）透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、成形ガラス体を得る工程と、（ｄ）成形ガラス体を５００℃を超える温度にて５時間以上保持した後に５００℃まで１０℃／ｈｒ以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程と、を含む製造法。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０％以上９９．０％以下、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で１．０％以上８５．０％以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格ＪＩＳ Ｒ １７０３−２：２００７に基づくメチレンブルーの分解活性指数が３．０ｎｍｏｌ／Ｌ／ｍｉｎ以上である。 （もっと読む）

【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスの製造方法であって、（ａ）ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、（ｂ）多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、（ｃ）フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、（ｄ）フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、（ｅ）成形ガラス体を５００℃を超える温度にて５時間以上保持した後に５００℃まで１０℃／ｈｒ以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。 （もっと読む）

【課題】約１１００℃以下のろう付け温度で加工でき、かつろう付け工程の終了後に約９００℃までの作動温度で使用できる高温度用ガラスソルダーを提供する。
【解決手段】２０℃〜３００℃の温度範囲での線熱膨張α_(20-300)を８×１０^-6Ｋ^-1〜１１×１０^-6Ｋ^-1の範囲で有し、質量％で１０〜４５％未満のＢａＯ、０〜２５％のＳｒＯ（２０〜６５％のＢａＯ＋ＳｒＯ）、１０〜３１％のＳｉＯ_２、２％未満のＡｌ_２Ｏ_３、０〜１０％のＣｓ_２Ｏ、０〜３０％のＲＯ、０〜３０％のＲ_２Ｏ_３、０〜２０％のＲ_２Ｏからなるガラスソルダー。（ＲＯはアルカリ土類金属酸化物、Ｒ_２Ｏ_３はＢ_２Ｏ_３等からなる酸化物、Ｒ_２ＯはＴｉ_２Ｏ等の酸化物からなる。） （もっと読む）

【課題】従来と同等の紫外線遮蔽性を有し、電極の加熱と冷却の繰り返しによるサーマルショックが発生しても電極が剥離しないような照明用ガラス及び蛍光ランプ用外套管を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ５〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜５％、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＷＯ_３、ＭｏＯ_３、ＳｎＯ_２から選ばれる１種類以上を０．１〜５％含有し、３０〜３８０℃における熱膨張係数が５９〜７０×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳｎＯ_２を含む透明導電膜付き高透過ガラス板のカレットを、高透過ガラス板の原料として再利用できる高透過ガラス板の製造方法；および鉄およびスズを含んでいるにもかかわらず、可視光透過率および日射透過率が高い高透過ガラス板を提供する。
【解決手段】ＳｎＯ_２を含む透明導電膜が表面に形成された高透過ガラス板のカレットを質量百分率表示で０％超８０％以下含むガラス原料を溶融し、成形する高透過ガラス板の製造方法であって、成形後の高透過ガラス板が、酸化物基準の質量百分率表示でＳｂ_２Ｏ_３に換算した全アンチモンを０．０００１〜０．３％含み、成形後の高透過ガラス板が、ＪＩＳ Ｒ ３１０６（１９９８）規定の可視光透過率（Ａ光源によるもの）が、４ｍｍ厚さ換算値で９１．５％以上であり、ＪＩＳ Ｒ ３１０６（１９９８）規定の日射透過率が、４ｍｍ厚さ換算値で９０．９％以上である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、微細気泡を有し、保温性及び断熱性に優れたグラスライニング施釉層を形成することができるグラスライニング組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明のグラスライニング組成物は、グラスライニング用フリット１００質量部に対してナノメートルオーダーの気泡を有するナノ多孔質（nanoporous）セラミック粒子を１〜５０質量部を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＳｉＡｌＯＮなどの窒化物蛍光体を分散することができ、また蛍光体の失活を防止した蛍光体分散用ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス網目を形成する少なくとも１種類の酸化物と、組成比が６０ｍｏｌ％以下の二価の酸化物と、アルカリ金属酸化物を含むガラス。ガラス網目を形成する酸化物はＴｅＯ２及びＢ２Ｏ３からなるグループから選ばれ、二価の酸化物はＺｎＯ及びアルカリ土類金属の酸化物からなるグループから選ばれる。該ガラスを粉砕して窒化物蛍光体とともに二次溶融することにより窒化物蛍光体を分散したガラスの製造。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ用露光装置の光学系部材として使用した場合に、室温における熱膨張係数がほぼゼロとなり、ガラスから水素を放出させることで多層膜の物性を長時間維持させることが可能なＴｉＯ₂−ＳｉＯ₂ガラスの提供。
【解決手段】仮想温度が１１００℃以下であり、水素分子濃度が５×１０^１７分子／ｃｍ^３以上であり、線熱膨張係数が０ｐｐｂ／℃となる温度が１２〜４０℃の範囲にあることを特徴とするＴｉＯ₂を含有するシリカガラス。 （もっと読む）

本発明は、噴霧乾燥方式により、低コスト疎水中空ガラスミクロスフェアを製造する方法に関し、ホウ酸、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウムの混合溶液を霧化して、高速度で撹拌しているケイ酸ナトリウムの水ガラス溶液中に入れて、混合溶液噴霧乾燥をしてから、有機ケイ素表面が改質し、疎水ガラスミクロスフェアが得られる。該中空ガラスミクロスフェアは、高生産性、低コスト、高安定性の特徴がある。 （もっと読む）

本発明は、１．６７＜η_ｄ＜１．７０の屈折率η_ｄ、及び５２．０＜ｖ_ｄ＜５５．０のアッベ数ｖ_ｄをもち、及びガラス転移温度がＴ_ｇ＜５５０℃であって、以下の含有量を特徴とする精密成形用光学ガラスに関する。
ＳｉＯ_２ ５．５〜１５重量％
Ｌｉ_２Ｏ ２．６〜８重量％
Ｂ_２Ｏ_３ ２０〜４０重量％
Ｌａ_２Ｏ_３ ２１．５〜３５重量％
Ｙ_２Ｏ_３ ０．５〜１０重量％
Ｔａ_２Ｏ_５ ０．１〜８重量％
ＺｒＯ_２ ０．１〜５重量％
ＺｎＯ ０．１〜３５重量％
ＳｒＯ ０〜１５重量％
ＢａＯ ０〜２２重量％
Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０重量％
Ｎａ_２Ｏ ０〜２重量％
Ｓｂ_２Ｏ_３ ０〜１重量％
ＳｎＯ_２ ０〜１重量％
ＣｅＯ_２ ０〜１重量％ （もっと読む）

【課題】人体への悪影響が懸念されるＰｂＯ，ＴｅＯ₂，Ａｓ₂Ｏ₃及びＳｂ₂Ｏ₃を含有することなく、高屈折率・高分散でビッカース硬度（Ｈｖ）の値が大きく、モールドプレス成形性に優れた光学ガラス及びその光学ガラスから成る光学素子を提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂ₂Ｏ₃：５．５〜１０％、ＳｉＯ₂：４．５〜５．５％、Ａｌ₂Ｏ₃：０〜４％、ＧｅＯ₂：０〜４％、ＢａＯ：３〜１９．５％、ＭｇＯ：０〜８％、Ｌｉ₂Ｏ：０〜１．５％、Ｌａ₂Ｏ₃：１０〜４５％、Ｙ₂Ｏ₃：０〜２０％、Ｇｄ₂Ｏ₃：０〜８％、ＴｉＯ₂：１６．５〜１９．５％、ＺｒＯ₂：２〜９．５％、Ｎｂ₂Ｏ₅：３〜１５％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜４．５％、ＷＯ₃：０．５〜８％、ＳｉＯ₂／Ｂ₂Ｏ₃：０．６０〜０．７８、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃：３８〜５４．５％、Ｂ₂Ｏ₃＋ＳｉＯ₂＋Ａｌ₂Ｏ₃＋ＧｅＯ₂＋ＢａＯ＋ＭｇＯ＋Ｌｉ₂Ｏ＋Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃＋ＴｉＯ₂＋ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋Ｔａ₂Ｏ₅＋ＷＯ₃：９８％以上、の各ガラス成分を有する。 （もっと読む）

【課題】 光学ガラスに求められる要求特性を全て満足し、しかも、金型や金属製ホルダーに近似した熱膨張係数と高い屈折率と高い硬度を兼ね備えた光学ガラスを提供することである。
【解決手段】 本発明の光学ガラスは、モル百分率で、Ｂ_２Ｏ_３ １０〜３０％、ＺｎＯ ５〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３ ５〜１５％、ＴｅＯ_２ １０〜４５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ５〜２０％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、ＷＯ_３ ２〜１０％、ＳｉＯ_２ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＣａＯ ０〜７％、ＢａＯ ０〜７％、ＳｒＯ ０〜７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｐ_２Ｏ_５成分を含有するガラスにおいて、高分散を有しながらも、熱処理を行わなくとも着色が少なく、且つ熱処理を行った後における着色も低減されたガラスを得ることが可能な、光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】光学ガラスの製造方法は、Ｐ_２Ｏ_５成分と、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、ＴｉＯ_２成分及びＷＯ_３成分からなる群より選択される１種以上と、を必須成分として含有する光学ガラスを製造する方法であって、ガラス原料を溶融する工程（溶融工程）、溶融したガラス原料を清澄させる工程（清澄工程）、清澄した溶融ガラスを撹拌する工程（撹拌工程）、撹拌した溶融ガラスを流出させる工程（流出工程）、及び流出したガラスを成形する工程（成形工程）を有し、前記撹拌工程を溶融ガラスの液相温度より０〜２００℃高い温度にて行う。 （もっと読む）