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化学強化ガラス板
【課題】ガラス板主表面が所望の強度を備え、かつカッターホイールを用いた切断方法など、機械的手法による切断が可能な化学強化ガラス板を提供する。
【解決手段】酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60%以上、Al2O3を3%以上含有し、イオン交換によって主表面に圧縮応力層が形成された化学強化ガラス板であって、厚さが0.4〜2.0mm、前記圧縮応力層の最表面の圧縮応力σCが400MPa〜1GPa、前記圧縮応力層の深さDCが15〜30μmであることを特徴とする化学強化ガラス板。
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リチウムイオン伝導性無機物質
【課題】電池の充放電電圧をより高めることができ、且つ、電池の充放電特性をより高めることが可能なリチウムイオン伝導性無機物質を提供する。
【解決手段】リチウムイオン伝導性無機物質は、酸化物基準の質量%で、ZrO2成分を2.6〜52.0%含有する。このリチウムイオン伝導性無機物質は、正極層及び負極層と、これら正極層及び負極層の間に介在する固体電解質を含んだ固体電解質層と、を備えるリチウムイオン二次電池に用いられることが好ましい。
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ガラスペースト、プラズマディスプレイ用部材の製造方法およびプラズマディスプレイ用部材
【課題】 ペースト安定性、密着性に優れ、クロストークやノイズを防止し低消費電力のプラズマディスプレイを実現可能な封着層を高精度に形成することができる感光性ガラスペーストを提供する。
【解決手段】 有機溶剤と重合性有機成分および光重合開始剤を含む有機固形分とガラス転移点が380℃〜480℃の範囲内である低融点ガラスを含む無機固形分とを含有し、前記低融点ガラスのB2O3の含有量が20〜50質量%の範囲内であり、SiO2、ZnOおよびAl2O3の含有量の合計が25〜55質量%の範囲内、かつLiO2、Na2O3およびK2Oの含有量の合計が15〜25質量%の範囲内であることを特徴とした感光性ガラスペーストとする。
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絶縁ペーストおよびそれを用いた多層構造体の製造方法
【課題】耐薬品性に優れた絶縁ペーストを提供する。
【解決手段】ガラス粉末を50〜90質量%、有機成分を10〜50質量%含む絶縁ペーストであって、該ガラス粉末が酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムを含有し、該ガラス粉末中の酸化ビスマス、酸化アルミニウムおよび酸化ジルコニウムの含有率の合計が55〜80質量%の範囲内であることを特徴とする絶縁ペースト。
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、Li2O 0〜3.5%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜3%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であることを特徴とする。
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ガラスの製造方法及びガラス
【課題】生産性に優れるとともに、比較的厚みの薄いものでも、高強度で、保護機能に優れたガラス基板を得られるガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス表面のナトリウム濃度を、ガラス中心部のナトリウム濃度よりも低くするナトリウム濃度低減工程を行った後、カリウムイオンを含む溶融塩に前記ガラスを浸漬し、前記ガラス中のナトリウムイオンの一部を前記カリウムイオンと置換する化学強化処理工程を行うガラスの製造方法。
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液晶レンズ用ガラス基板
【課題】画素−レンズ間の距離が短く、且つ適正な透明導電膜等を有する3Dディスプレイの視域制御部を得ることができる板厚が小さい、撓み難い液晶レンズ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、mol%で、SiO245〜75%、Al2O35〜15%、B2O30〜15%、MgO0〜15%、CaO0〜15%を含有し、且つ板厚が400μm以下であり、且つ板厚が400μm以下であることをことを特徴とする液晶レンズ用ガラス基板。
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化学強化ガラスの製造方法および化学強化用ガラス
【課題】低温かつ短時間で化学強化できる化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、SiO2を60〜75%、Al2O3を5〜15%、MgOを1〜12%、CaOを0〜3%、ZrO2を0〜3%、Li2Oを10〜20%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜5%含有し、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計R2Oが25%以下、Li2Oの含有量とR2Oの比Li2O/R2Oが0.5〜1.0である化学強化用ガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】本発明は、平坦性に優れた板状ガラス素材を製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向し、かつ、略同じ温度の一対の型の面で塊を同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、板状ガラス素材を加工する加工工程と、を有し、落下工程において、塊は落下軸を中心に回転しながら落下することを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイ
【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能なディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイの提供。
【解決手段】SiO2を40〜70重量%、Al2O3を0.1〜20重量%、Na2Oを0〜20重量%、Li2Oを0〜15重量%、ZrO2を0.1〜9重量%含有し、Li2OとNa2Oの合計含有量が3〜20重量%であるガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ50μm以上の圧縮応力層を形成する。
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太陽電池用ガラス基板
【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%でSiO230〜70%、Al2O33〜20%、B2O30〜10%、MgO0〜10%、CaO0〜10%、SrO0〜25%、BaO0〜25%、Na2O0〜10%、K2O0〜10%、ZrO20〜8%を含有し、且つ30〜380℃における熱膨張係数が50〜95×10−7/℃であることを特徴とする太陽電池用ガラス基板。
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ドープ石英ガラスの製造方法
【課題】半導体製造に用いられかつプラズマ耐食性に優れたドープ石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体製造に用いられるプラズマ反応用治具材料としてプラズマ耐食性に優れかつ2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有するドープ石英ガラスをベルヌイ法で石英粉から製造する方法であって、前記石英粉が、2種以上のドープ元素を併せて0.1〜20質量%含有し、前記ドープ元素が、N、C及びFからなる群から選択される1種以上の第1の元素と、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、Ti、Zr、Hf、ランタノイド及びアクチノイドからなる群から選択される1種以上の第2の元素とを含む混合石英粉であり、該混合石英粉を加熱溶融落下させ石英ガラスインゴットを作成する際、該石英ガラスインゴット表面温度を、1800℃以上に加熱するようにした。
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光学ガラス、光学素子及びプリフォーム
【課題】
本発明は、屈折率(nd)が1.85以上を有しアッベ数(νd)が25以下の範囲の光学定数を有する光学ガラスであって、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】 必須成分として、P2O5、Bi2O3、Nb2O5、TiO2を含み、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でP2O5成分を10.0〜44.0%、Bi2O3成分を0.1〜50.0%、Nb2O5成分を20.0〜60.0%、TiO2成分を0.1〜20.0%含有する光学ガラス。光学素子及び精密プレス成形用プリフォームは、この光学ガラスからなる。
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発光素子及び発光素子用基板材料
【課題】従来の発光素子に利用される基板は低屈折率のため、光の取り出し効率が低い。
【解決手段】発光層及び基板層を含む発光素子あって、前記発光層の屈折率(nEL)から前記基板層の屈折率(nsub)を減じた数(Δn)が0.2以下であることを特徴とする該発光素子。前記基板層の屈折率が1.6以上であることを特徴とする該発光素子。前記発光素子において、基板層と発光層の間に導電体層が形成されることを特徴とする該発光素子。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法
【課題】 As2O3、Sb2O3を含まないにも関わらず、電気リボイルによる泡不良を抑制することが可能なLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 白金又は白金合金製装置を含む溶融設備を使用するとともに、電気による加熱を用いてLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスを溶融、成形した後、結晶化させるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの製造方法であって、粘度logηが4.0のときのガラス融液の電気抵抗が4.4Ω・cm以上、液相粘度がlogηで4.35以上、且つAs2O3及びSb2O3を実質的に含有しない結晶性ガラスとなるように調製したバッチを使用することを特徴とする。
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強化ガラス板及びカバーガラスの製造方法並びにカバーガラス
【課題】より高強度でかつ軽量である強化ガラス板について、その製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス板を化学強化する化学強化工程と、前記化学強化工程後に、前記ガラス板の表面を、平均粒径が80nm以下のコロイダルシリカを含むスラリーを用いて研磨する強化後研磨工程と、を含む、強化ガラス板の製造方法。
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ガラス繊維及びガラス繊維強化樹脂材
【課題】 樹脂と複合化した際に耐熱水性に優れたガラス繊維とさらにこのガラス繊維を用いたガラス繊維強化樹脂材を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のガラス繊維は、質量%で、SiO2 45〜65%、Al2O3 7〜18%、B2O3 3〜11%、R2O(但し、R2OはLi2O、Na2O及びK2Oの合量を表す) 0〜0.2%、MgO 0〜5%、CaO 5〜27%、SrO 0〜6%、BaO 0〜2%、の組成を含有し、質量比で、R2O/SiO2が0.0050以下、B2O3/SiO2が0.055〜0.160であることを特徴とする。
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磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】主表面の表面凹凸(表面粗さやうねりや平坦度)及び端部のダレを抑制した磁気ディスク用板状ガラス素材、及び磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する。
【解決手段】磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法であって、溶融したガラスの塊を落下させる落下工程と、塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型の面で塊を挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材を成形するプレス工程と、を有し、一対の型の少なくとも一方は、前記塊の落下経路に向かって凸形状であることを特徴とする磁気ディスク用板状ガラス素材の製造方法。
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ガラス組成物とそれを用いたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板
【課題】液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイに用いるガラス基板に好適であるとともに、高い熱安定性を保つとともにBaOを実質的に含まないながらも失透温度が低く、ダウンドロー法によりガラス基板の製造に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量%で表示して、SiO2 54〜62%、B2O3 4〜11%、Al2O315〜20%、MgO 2〜5%、CaO 0〜7%、SrO 0〜13.5%、K2O 0〜1%、SnO2 0〜1%、Fe2O3 0〜0.2%を含み、BaOを実質的に含まず、アルカリ土類金属酸化物の含有率の合計(MgO+CaO+SrO)が10〜18.5質量%であり、失透温度が1200℃以下であるガラス組成物とする。
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カバーガラス及びその製造方法
【課題】圧縮層測定の容易化を図るとともに、短時間の処理でもイオン交換性能を十分に発揮させることによって効率的に製造することができ、機械的強度を向上させることができるカバーガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】主表面に圧縮応力層を有し、ガラス組成として、SiO2:50〜70モル%、Al2O3:3〜20モル%、Na2O:5〜25モル%、Li2O:0モル%より多く、2.5モル%以下、K2O:0〜5.5モル%及びB2O3:0〜3モル%未満が含有されてなるカバーガラス及び(1)ガラス原料を熔融して熔融ガラスを得、(2)得られた熔融ガラスを、ダウンドロー法により板状に成形してガラス基板を得、(3)得られたガラス基板表面に圧縮応力層を形成する工程を含むカバーガラスの製造方法。
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