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Fターム[4G062DB04]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Al (5,897) | 10−30 (1,142)

Fターム[4G062DB04]に分類される特許

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【課題】ガラスの失透を抑え、ガラスの成形を良好に行うことができるとともに、ポリカーボネート樹脂に配合されるガラスフィラーとして好適に用いられ、屈折率及びアッベ数をポリカーボネート樹脂のそれらに近づけてポリカーボネート樹脂成形体の透明性を向上させることができるガラス組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、必須成分として二酸化珪素(SiO)、酸化アルミニウム(Al)及び酸化チタン(TiO)を含有し、さらに酸化リチウム(LiO)、酸化ナトリウム(NaO)及び酸化カリウム(KO)の少なくとも1種を含有する。各成分の含有量は質量%で表して、45≦SiO≦65、0.1≦Al≦15、9≦(LiO+NaO+KO)≦25及び15≦TiO≦25である。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、「JOGIS09−1975光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、250以上のヌープ硬さ(Hk)を有し、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】 液晶表示装置用ガラス基板として、微量のアルカリ金属酸化物を含むガラス板を製造するに際し、アルカリ金属酸化物による清澄効果(気泡低減効果)を向上させる。
【解決手段】 ガラス原料を熔融して熔融ガラスを生成する工程と、熔融ガラスをガラス板へと成形する工程とを含み、ガラス板が、SiO2、Al23およびR2O(R:Li、Na、Kから選ばれる少なくとも1種であって少なくともその一部がNa)を含むとともに、R2Oの含有率が0.01〜2.0質量%であってNa2Oの含有率が0.01〜0.15質量%であるガラス組成物からなり、ガラス原料が、Al23の原料として、Na2Oを0.1〜0.6質量%の範囲で含有するアルミニウム酸化物(アルミナ)を含む、液晶表示装置用ガラス基板の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiOを50〜70質量%、Alを5〜20質量%、NaOを6〜30質量%、および、LiOを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 (もっと読む)


【課題】カレットとしてLCD、PDP用ガラス基板が使用可能であると共に、高い機械的強度を有する強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO 50〜75%、Al 5〜20%、B 0〜8%、NaO 5〜20%、KO 0.1〜10%、MgO 0.1〜15%、SrO+BaO 0.001〜5%を含有し、質量比(MgO+CaO+SrO+BaO)/(MgO+ZrO)が0.3〜1.5であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フィルターガラスとして用いられるフッ化リン酸ガラスは、耐候性が悪くしばしば非常に高いフッ素含有率のために製造が難しいという欠点がある。この問題点を解決するフッ化リン酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリックス中に少なくとも68%の架橋度のリン酸成分を有するガラスで、39%モル量までのO2−イオンがFで置換されているフッ化リン酸ガラス。着色成分として酸化銅を含み、融液中のレドックス比の調整のために、酸素を含むガス(特に酸素)バブリング工程を含む方法で得られる。 (もっと読む)


【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO 55〜73%、Al 17〜25%、LiO 2〜5%、TiO 2.5〜5.5%、ZrO 0〜2.3%、SnO 0.2〜0.9%、V 0.005〜0.09%を含有し、AsおよびSbを実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。 (もっと読む)


【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO 45〜75%、Al 3〜15%、LiO 0〜12%、NaO 0.3〜20%、KO 0〜10%、MgO+CaO 1〜15%を含有し、モル比(Al+NaO+P)/SiOが0.1〜1、モル比(B+NaO)/SiOが0.1〜1、モル比P/SiOが0〜1、モル比Al/SiOが0.01〜1、モル比NaO/Alが0.1〜5であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをt1、加工時の前記アモルファスガラスの厚さt2とするとき、t2/t1≦1.2の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも1種の結晶を含み、厚さが6mm超18mm以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Aと、前記結晶化ガラス層Aの片面および側面から選択される少なくとも1つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Bと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】内部の気泡を低減し得るとともに、高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有する結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶と長石結晶が析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末。結晶性ガラス粉末は、ガラス組成として質量%で、SiO 20〜65%、CaO 3〜25%、MgO 7〜30%、Al 0〜20%、BaO 5〜40%を含有し、かつ質量比で、1≦SiO/BaO≦4の関係を満たすことが好ましい。 (もっと読む)


【課題】 ガラス転移点Tgが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散(具体的には屈折率ndが1.48〜1.54、アッベ数νdが59〜67)の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO 45.5〜70%、B 10〜44%、Al 7.2〜20%、TiO 0〜7%、NaO 1〜20%、LiO 0〜9%、RO 3〜30%(ROはNaO、LiO及びKOの合量)、Sb0〜0.1%未満、(B+RO)/(Al+SiO)が0.16〜0.80であり、実質的にPbOを含まないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを0.5nm以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス(MW-Rq)を0.5nm以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび/またはギブサイトを含むものを使用する。 (もっと読む)


【課題】励起光遮断特性を高めることにより、励起光カットフィルタの厚みを従来の色ガラス材よりも薄くできる色ガラス材を提供する。
【解決手段】 陽イオンとして、陽イオン%表示で、
Si4+ 25〜60%
Al3+ 3〜19%
3+ 18〜38%
9〜31%
Co2+ 0.1〜1.5%
を含み、陰イオンとして、O2−を主成分として含み、さらに陰イオン%表示で、
1〜12%
Cl 0.01〜2%
を含むことを特徴とするコバルト含有ガラスである。
(もっと読む)


【課題】回路形成時にフォトマスクによる補正が可能な大型の無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】短辺、長辺ともに1500mm以上の無アルカリガラス基板において、常温から10℃/分の速度で昇温し、保持温度450℃で10時間保持し、10℃/分の速度で降温(図1に示す温度スケジュールで熱処理)したときに、基板内の熱収縮率絶対値の最大値と最小値の差が5ppm以内となることを特徴とする。この基板は、成形時の冷却過程において、徐冷点から(徐冷点−100℃)の温度の範囲での平均冷却速度が、板幅方向の中央部分と端部とで100℃/分以内でとなるように調節することで作製可能である。 (もっと読む)


【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に3体積%以上、水素の場合には2体積%以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも30MPaであるとする方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フラッタリング特性と表面平滑性に優れた記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の記録媒体用ガラス基板は、内層の表裏両面を表層で被覆したものであって、該内層は、SiO2およびP25の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0.1〜16質量%であるガラス組成を有し、該表層は、SiO2およびP25の少なくとも1種を30質量%以上含み、かつLi2O、Na2O、およびK2Oからなる特定アルカリ成分の合計量が0〜0.1質量%であるガラス組成を有し、かつ該内層の特定アルカリ成分の合計量と該表層の特定アルカリ成分の合計量との差が、0.1質量%以上であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性(高アッベ数)を備え、加えて、従来のものと同等以上に摩耗度が低く研磨加工を行い易い光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+、Ca2+、Ln3+(Ln3+は、Y3+、La3+、Gd3+、Yb3+およびLu3+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)、ならびにMg2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つを含み、Ln3+の合計含有率がカチオン%表示で1.1%超10.0%以下であり、アニオン成分としてFを含み、屈折率(nd)≧1.55、アッベ数(νd)≧55である光学ガラス。 (もっと読む)


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