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Fターム[4G062DD01]の内容

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Fターム[4G062DD01]に分類される特許

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【課題】本発明は、太陽電池用カバーガラスに適した高い透過率を有し、さらに風冷強化時に反りの発生を抑制し易いガラスを提供することを課題とする。
【解決手段】太陽電池用カバーガラスであり、該太陽電池用カバーガラスは平面状で厚さ2mm〜4mmのソーダ石灰系ガラスからなり、成分として、質量%で、
Alを1.1〜1.6、CaOを9〜11、MgOを2.5〜3.5、全アンチモン酸化物をSb換算で0.1〜0.5、鉄酸化物をFeに換算で0.005〜0.02有し、Fe2+が(Fe2++Fe3+)の2〜9%を占め、実質的に酸化セリウム及び酸化鉄以外の着色成分を含んでいないソーダ石灰系ガラスからなることを特徴とする太陽電池用カバーガラス。 (もっと読む)


【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高く、より安価である光学ガラスの提供。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量を基準として質量%換算で、Bを10.0〜35.0%、Laを20.0〜40.0%含有し、結晶析出温度(Tx)とガラス転移温度(Tg)との差分(ΔT)が140℃以上である光学ガラス。酸化物換算組成のガラス全質量を基準として、質量%換算で0〜5%のLiOを含有する前記記載の光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】可視領域に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全質量に対する質量%でBi成分を70.0%以上90.0%以下、B成分を6.0%以上20.0%以下及びSiO成分を0%超20%以下の成分をそれぞれ含有することを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】ビスマス系ガラスは構造的に不安定なガラスが多く、焼成途中で結晶化し、結晶化することで流動性が損なわれ、十分な接着強度、気密性が得にくいという問題があった。従って、本発明は透明で、焼成時に結晶化し難いビスマス系ガラスを得ることを目的とした。
【解決手段】Bi、B、ZnOを含むビスマス系ガラス組成物であり、質量%でBiを55〜80、RO(SrO+BaO)を0.1〜5含み、30℃〜300℃における線膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が450℃以上530℃以下であることを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】特に歯科用ガラス及び光学ガラスとして適し、非常に良好な耐薬品性を有するBaO−フリー及びPbO−フリーのX線不透過性ガラスを提供する。
【解決手段】せいぜい不純物を除きBaO−フリー及びPbO−フリーであるX線不透過性ガラスは、LaとZrOを付加したSiO−Al−SrO−RO系であり、酸化物基準の質量%表示で、SiO 55〜75%、B 0〜9%、Al 0.5〜4%、LiO 0〜2%、NaO 0〜7%、KO 0〜9%、CsO 0〜15%、SrO 4〜17%、CaO 0〜11%、MgO 0〜<3%、ZrO 1〜<11%、La 1〜10%、SnO 0〜4%、LiO+NaO+KO 0.5〜12%、SrO+CsO+La+SnO+ZrO ≧10%を含有し、1.50〜1.58の屈折率n及び少なくとも300%のアルミニウム等価厚を有する。 (もっと読む)


【課題】 溶融温度が変動しても、着色状態の変化がないLiO−Al−SiO系結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】 V 0.01〜0.2質量%、SnO 0.1〜0.5質量%含有し、As及びSbを実質的に含有せず、主結晶としてβ−石英固溶体を析出してなるLiO−Al−SiO系結晶化ガラスであって、MnO及び/又はCeOを含有し、(MnO+CeO)/SnOが質量基準で0.2〜1.2であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】480℃以上で一次焼成しても、失透することがなく、その後に供される二次焼成で良好な流動性および封着強度を確保することが可能なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供すること。
【解決手段】本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物換算のモル%で、Bi 30〜50%、B 20〜35%、ZnO 10〜25%、BaO 1〜15%、BaO+SrO+MgO+CaO 3〜15%のガラス組成を含有し、且つモル分率でBi/B 1.0〜1.75(但し、1.75は含まない)、ZnO/(BaO+SrO+MgO+CaO) 1.0〜3.5の関係を満たすことに特徴付けられる。 (もっと読む)


【課題】触覚で知覚可能な表面を有する物品を提供すること。
【解決手段】層が触覚で知覚可能な構造を有するように、コーティングしたガラスまたは結晶化ガラス基板に触覚特性を有する層を設け、層が構造付与無機および/またはポリシロキサン系の粒子を含み、粒子が基板上に層形成性材料により固定されており、粒子が層上に隆起を生じさせ、これにより触覚で知覚可能な構造をもたらす。 (もっと読む)


【課題】本発明の技術的課題は、異種結晶(超伝導特性を示さない結晶)の析出量が少なく、短時間の処理でBi系超伝導結晶を析出させ得る超伝導材料の製造方法を創案することである。
【解決手段】本発明の超伝導材料の製造方法は、組成として、モル%表記で、Bi 7〜35%、SrO 25〜65%、CuO 25〜65%を含有する非晶質材料を、Ca含有化合物を含む融液に接触させる工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】大画面でも液晶ディスプレイの輝度ムラを抑えることが可能な液晶ディスプレイ用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】本発明のディスプレイ用ガラス基板は、ガラス基板面と直交する光により測定したレタデーションをΔ(nm)、ガラス基板の辺方向に対する該レタデーションの方位角をθ(°)とした際、{sin(2θ)}×{sin(180°・Δ/550)}で求められる最大値が3.5×10−5以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準においてモルパーセントで、
SiO 64.0−72.0
Al 9.0−16.0
1.0−5.0
MgO+La 1.0−7.5
CaO 2.0−7.5
SrO 0.0−4.5
BaO 1.0−7.0
を含み、
ここで、モルパーセントにおけるBaO/SrO比が、2.0以上であり、
700℃以上のひずみ点を有する。 (もっと読む)


【課題】安定供給が可能であって、優れたガラス安定性を有し、しかも着色が少ない高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量%表示で、
SiO2およびB23を合計で5〜32%、
La23、Gd23およびY23を合計で45〜65%、
ZnOを0.5〜10%、
TiO2およびNb25を合計で1〜20%、
ZrO2を0〜15%、
Ta25 を0〜12%、
GeO2を0〜5%、
含み、
23の含有量に対するSiO2の含有量の質量比(SiO2/B23)が0.3〜1.0、La23、Gd23およびY23の合計含有量に対するGd23およびY23の合計含有量の質量比(Gd23+Y23)/(La23+Gd23+Y23)が0.05〜0.6であり、
屈折率ndが1.90〜2.0、アッベ数νdが32〜38、かつ着色度λ70が430nm以下であることを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】従来の方法では排気工程を高温にできないため、低コストでかつ信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得られなかった。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネルの封着材は、前面板と、背面板とを対向配置して周囲を封着するためのプラズマディスプレイパネルの封着材であって、フィラー、フリットガラス、樹脂および有機溶剤を含み、前記フリットガラスは、酸化ビスマスを含む硼珪酸系ガラスであり、粒径が10nm以上1000nm以下であり、前記フィラーは、コージライト、フォルステライト、β−ユークリプタイト、ジルコン、ムライト、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、酸化チタン、酸化モリブデン、酸化スズ、酸化アルミニウム、石英ガラスの少なくともいずれかであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】液晶ディスプレイ基板用に所望の物理および化学特性を示すアルカリを含まないガラスを提供する。
【解決手段】SiO、Al、B、MgO、CaO、およびBaOと、任意にSrOとを含むアルカリを含まないガラスであって、このガラスの組成が、
(a)[MgO]:[CaO]:[SrO+BaO]=1±0.15:1±0.15:1±0.15、および
(b)1.15≦Σ(MgO+CaO+SrO+BaO)/(Al)≦1.55
という関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】面粗さの小さい基板として適当なTiO−SiOガラスの提供。
【解決手段】TiO濃度が1〜12質量%のシリカガラスであり、かつ、TiO濃度の最大値と最小値との差が、少なくとも一つの面内における30mm×30mmの範囲で0.06質量%以下であることを特徴とするTiOを含有するシリカガラス。 (もっと読む)


【課題】本発明によれば、低消費電力のプラズマディスプレイパネルを実現して、大画面の表示デバイスなどに有用である。
【解決手段】本発明の誘電体ペーストは、誘電体ガラスと、溶剤と、樹脂とを備え、前記溶剤は、テキサノールおよび界面活性剤を含み、前記テキサノールは、前記有機溶剤中40重量%以上99重量%以下であり、前記界面活性剤は、ポリアクリレートであり、前記有機溶剤中0.2重量%以上1.0重量%以下であり、前記樹脂は、前記樹脂中エチルセルロース樹脂40重量%以上80重量%以下、アクリル樹脂20重量%以上80重量%以下であり、前記誘電体ガラスは、モル比率で25%以上38%以下であり、前記誘電体ガラスのBET値が2.5m2/g以上、3.2m2/g以下である。 (もっと読む)


【課題】充分な厚みの圧縮応力層を有していることにより優れた耐衝撃性を有し、かつ、高平滑性を備えるとともに、高温高湿環境下においても歪みの発生しにくいHDD用ガラス基板および該HDD用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】一対の主表面に圧縮応力層が設けられたHDD用ガラス基板であって、前記主表面にイオン交換層を有さず、前記圧縮応力層の厚みが2〜30μmであることを特徴とするHDD用ガラス基板。 (もっと読む)


【課題】優れた耐衝撃性を有し、読み書きエラーの発生頻度が少ないHDD用ガラス基板およびHDD用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】中心孔を形成する内周端面に圧縮応力層とイオン交換層とを有し、主表面及び外周端面にイオン交換層を有さないことを特徴とするHDD用ガラス基板とする。中心孔を有する円盤状のガラス基板前駆体を用いたHDD用ガラス基板の製造方法であって、化学強化工程によって前記ガラス基板前駆体の全表面に厚みの合計が50〜200μmである圧縮応力層とイオン交換層とを形成した後、外径研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の外周端面に形成されたイオン交換層を除去し、研削工程及び/又は研磨工程によって前記ガラス基板前駆体の主表面に形成されたイオン交換層を除去することを特徴とするHDD用ガラス基板の製造方法を用いる。 (もっと読む)


【課題】低レベルの偏光誘起複屈折、低レベルの光誘起波面歪曲及び高レベルの初期内部透過率を有する、合成石英材料及びその作成方法を提供する。
【解決手段】開示には約300nmより短波長におけるリソグラフィに用いるための光学素子に使用することができるODドープ合成石英ガラスが含まれる。ODドープ合成石英ガラスはOH濃度が同程度の無ODドープ石英ガラスよりもかなり小さい偏光誘起複屈折値を有することがわかった。ODドープ合成石英ガラス、そのようなガラスからなる光学部材及びそのような光学部材を備えるリソグラフィシステムも開示される。ガラスは、約193nmにおける偏光誘起複屈折値が極めて小さいことから、浸漬リソグラフィシステムに特に適する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、タッチパネルディスプレイのカバーガラスとして利用可能な強度及び視認性を有する抗菌性ガラスを供給することを目的とした。
【解決手段】表層に抗菌物質を有する抗菌性ガラスであって、該抗菌性ガラスは表層において、ガラス表面から深さ30μm以内に銀イオンの拡散層と、ガラス表面から深さ方向に厚み15μm以上の圧縮層とを有し、表面圧縮応力が480MPa以上であり、前記表層において、蛍光X線分析法によって測定されたカリウムのX線強度(K)と銀のX線強度(Ag)との比(Ag/K)が0.0005〜0.5であることを特徴とすることを特徴とする抗菌性ガラス。 (もっと読む)


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