【課題】所望の光学特性を有し、かつ、耐失透性に優れ量産性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．７５〜１．９５、アッベ数（νｄ）が１５〜３５のＳｉＯ_２−Ｎｂ_２Ｏ_５−ＴｉＯ_２系ガラスからなり、作業温度範囲（ΔＴ）＝（１０^０．５ポイズでの温度−液相温度）が２０℃以上であることを特徴とする光学ガラス。ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ １５〜４５％、Ｎｂ_２Ｏ_５ １５〜４０％（ただし、４０％を含まない）、ＴｉＯ_２ １〜３０％を含有することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、「ＪＯＧＩＳ０９−１９７５光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、２５０以上のヌープ硬さ（Ｈｋ）を有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】ガラスの失透を抑え、ガラスの成形を良好に行うことができるとともに、ポリカーボネート樹脂に配合されるガラスフィラーとして好適に用いられ、屈折率及びアッベ数をポリカーボネート樹脂のそれらに近づけてポリカーボネート樹脂成形体の透明性を向上させることができるガラス組成物及びその用途を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、必須成分として二酸化珪素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）及び酸化チタン（ＴｉＯ_２）を含有し、さらに酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）、酸化ナトリウム（Ｎａ_２Ｏ）及び酸化カリウム（Ｋ_２Ｏ）の少なくとも１種を含有する。各成分の含有量は質量％で表して、４５≦ＳｉＯ_２≦６５、０．１≦Ａｌ_２Ｏ_３≦１５、９≦（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）≦２５及び１５≦ＴｉＯ_２≦２５である。 （もっと読む）

【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でＢｉ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分及び／又はＢ_２Ｏ_３成分並びにＦ成分を含有し、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス１〜５であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１３１×［νｄ］＋０．９０００を満たす。 （もっと読む）

【課題】 液晶表示装置用ガラス基板として、微量のアルカリ金属酸化物を含むガラス板を製造するに際し、アルカリ金属酸化物による清澄効果（気泡低減効果）を向上させる。
【解決手段】 ガラス原料を熔融して熔融ガラスを生成する工程と、熔融ガラスをガラス板へと成形する工程とを含み、ガラス板が、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃およびＲ₂Ｏ（Ｒ：Ｌｉ、Ｎａ、Ｋから選ばれる少なくとも１種であって少なくともその一部がＮａ）を含むとともに、Ｒ₂Ｏの含有率が０．０１〜２．０質量％であってＮａ₂Ｏの含有率が０．０１〜０．１５質量％であるガラス組成物からなり、ガラス原料が、Ａｌ₂Ｏ₃の原料として、Ｎａ₂Ｏを０．１〜０．６質量％の範囲で含有するアルミニウム酸化物（アルミナ）を含む、液晶表示装置用ガラス基板の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】携帯電話の表示部に要求される表面品位を達成可能であると共に、エッチングレートを高めることが可能であり、しかも機械的強度が高い強化ガラスを創案する。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ_２ ４５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１５％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜１２％、Ｎａ_２Ｏ ０．３〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ １〜１５％を含有し、モル比（Ａｌ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｐ_２Ｏ_５）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比（Ｂ_２Ｏ_３＋Ｎａ_２Ｏ）／ＳｉＯ_２が０．１〜１、モル比Ｐ_２Ｏ_５／ＳｉＯ_２が０〜１、モル比Ａｌ_２Ｏ_３／ＳｉＯ_２が０．０１〜１、モル比Ｎａ_２Ｏ／Ａｌ_２Ｏ_３が０．１〜５であると共に、強化処理前に表面の一部又は全部がエッチングされてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フィルターガラスとして用いられるフッ化リン酸ガラスは、耐候性が悪くしばしば非常に高いフッ素含有率のために製造が難しいという欠点がある。この問題点を解決するフッ化リン酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリックス中に少なくとも６８％の架橋度のリン酸成分を有するガラスで、３９％モル量までのＯ２−イオンがＦで置換されているフッ化リン酸ガラス。着色成分として酸化銅を含み、融液中のレドックス比の調整のために、酸素を含むガス（特に酸素）バブリング工程を含む方法で得られる。 （もっと読む）

【課題】耐火性、生体溶解性を有する繊維を提供する。
【解決手段】以下の組成を有する無機繊維。ＳｉＯ_２７１〜８０重量％、ＣａＯ１８〜２７重量％、ＭｇＯ０〜３重量％、Ａｌ_２Ｏ_３１．１〜３．４重量、但し、ＺｒＯ_２、Ｒ_２Ｏ_３（ＲはＳｃ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ｙ又はこれらの混合物から選択される）はそれぞれ０．１重量％以下であり、アルカリ金属酸化物は０．２重量％以下であり、ＳｉＯ_２、ＣａＯ、ＭｇＯ、Ａｌ_２Ｏ_３の合計は９９重量％以上である。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ⁵⁺、Ａｌ³⁺およびＲ²⁺（Ｒ²⁺は、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｓｒ²⁺およびＢａ²⁺からなる群から選ばれる少なくとも１つ）を含み、カチオン％表示で、Ｃａ²⁺の含有率が１４．０〜２４．０％、Ｒ²⁺の含有率が３２．０〜５８．０％であり、アニオン成分として、Ｆ^-およびＯ^2-を含有し、屈折率（ｎｄ）が１．５０以上で、アッベ数（νｄ）が６５以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が０．１〜５μｍのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 放射線遮蔽能力を十分に確保した上で、被検体の視認性をも十分なものとするための適切な透明性を確保できる放射線遮蔽ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％表示で、ガラス組成として、ＳｉＯ₂ １０〜３５％、ＰｂＯ ５５〜８０％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１０％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、Ｎａ₂Ｏ ０〜１０％、Ｋ₂Ｏ ０〜１０％を含有し、且つ厚さ１０ｍｍについての波長４００ｎｍにおける全光線透過率が５０％以上である放射線遮蔽ガラス。 （もっと読む）

【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが１個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも１種の結晶を含み、厚さが６ｍｍ超１８ｍｍ以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが１個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Ａと、前記結晶化ガラス層Ａの片面および側面から選択される少なくとも１つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Ｂと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のアモルファスガラスを準備する工程と、前記アモルファスガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記アモルファスガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、最終研磨終了後の目標厚さをｔ１、加工時の前記アモルファスガラスの厚さｔ２とするとき、ｔ２／ｔ１≦１．２の場合は全てダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを０．５ｎｍ以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス（MW-Rq）を０．５ｎｍ以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび／またはギブサイトを含むものを使用する。 （もっと読む）

【課題】発光素子用基板におけるガラスセラミックスの変色を抑制できるアルミナフィラーを提供すること。
【解決手段】発光素子を搭載する発光素子用基板の製造に用いられるアルミナフィラーであって、アルミナフィラーと、前記アルミナフィラーの表面を被覆し、アルミニウム以外の金属の酸化物からなる被覆層とを有することを特徴とする被覆アルミナフィラー。 （もっと読む）

【課題】
色素増感太陽電池等に代表される電子材料基板用の絶縁性被膜材料及び封着材料として用いられる無鉛低融点ガラス組成物に於いて、耐腐食性を有するもの望まれている。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２を１０〜３５、Ｂ_２Ｏ_３を１〜２０、ＺｎＯを０〜２０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏから選ばれる一種以上の合計）を２〜２０、Ｂi_２Ｏ_３を４０〜８０含み、実質的に鉛成分を含まないことを特徴とする耐腐食性を有する無鉛低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】１０^６ｄＰａ・ｓの粘度に相当する温度が６５０℃以下であり、Ｂ_２Ｏ_３が１５．５モル％以上の組成を有するＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−Ｒ_２Ｏ系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をｐＨ３〜６の酸性溶液又はｐＨ８〜１２のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 （もっと読む）

【課題】人やペットを火葬してできる遺骨等をできるだけ多く含有させることができるオブジェを得る。
【解決手段】生物を燃焼してできる遺骨又は／及び遺灰と、ガラス転移温度降下剤と、酸化ケイ素とを含有したガラス状物質において、酸化ケイ素の含有量をＸ重量％とし、ガラス転移温度降下剤の含有量をＹ重量％とした場合に、（１）Ｙ≦7.0Ｘ−34.0、（２）Ｙ≧−3.5Ｘ＋40.0、（３）8≦Ｘ、5≦Ｙという条件を満たし、生物を燃焼してできる遺骨又は／及び遺灰を20重量％〜80重量％含有させる。 （もっと読む）

【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に３体積％以上、水素の場合には２体積％以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも３０ＭＰａであるとする方法。 （もっと読む）

【課題】特にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２及びＡｓ_２Ｏ_３を用いない、好ましくは弗素及びＧｄ_２Ｏ_３を用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎ_ｄが１．９１≦ｎ_ｄ≦２．０５、アッベ数ｖ_ｄが１９≦ｖ_ｄ≦２５である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成（酸化物に基づく重量％で）、即ちＢｉ_２Ｏ_３５５−７０、ＧｅＯ_２１３−２１、ＳｉＯ_２０−９、Ｂ_２Ｏ_３０−１０、Ｌｉ_２Ｏ０−５、Ｎａ_２Ｏ０−５、Ｋ_２Ｏ０−５、Ｃｓ_２Ｏ０−６、ＭｇＯ０−１０、ＣａＯ０−１０、ＳｒＯ０−１０、ＢａＯ０−１０、ＺｎＯ０−１０、ＴｉＯ_２０−５、Ｌａ_２Ｏ_３０−７、Ｗｏ_３０−６、Ｎｂ_２Ｏ_５０−６、Σアルカリ金属酸化物０−５、Σアルカリ土類金属酸化物０−１０、Σ（Ｌａ_２Ｏ_３＋ＷＯ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５＋ＴｉＯ_２）０−８、通常の清澄剤０−２を含み、Ｂｉ_２Ｏ_３とＧｅＯ_２の比を５以下とすることを特徴とするガラス。 （もっと読む）