【課題】材料として微小な粒子を用いなくても高い光反射率を達成することが可能な光反射基材およびそれを用いた発光デバイスを提供する。
【解決手段】ガラスマトリクス中にＲＮｂ_２Ｏ_６結晶および／またはＲ_４Ｎｂ_２Ｏ_９結晶（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａのいずれか１種以上）を含有してなることを特徴とする光反射基材。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する化学強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＺｒＯ_２０．００１〜１０％、ＴｉＯ_２０〜４％を含有することを特徴とし、ＳｎＯ_２０．０１〜３％含有せしめることでイオン交換性能を向上させる。 （もっと読む）

【課題】乗用車やトラック等に搭載されるパワー半導体装置は、エポキシ樹脂、シリカやアルミナ、フェライト複合体等の無機充填材からなる封止材により封止されているが、近年半導体装置の発熱が増加し、封止材が２５０℃の連続加熱または−５０℃〜２５０℃の熱衝撃により半導体素子と封止材、および半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離および封止するための封止材の厚みが１ｍｍ以上でもクラックが生じないガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、前記課題を解決すべくなされたものであり無機材料で耐熱性、絶縁性に優れた鉛を含有しないガラスフリット１〜３０ｗｔ％、コージライト３０〜９０ｗｔ％、熱硬化性のシリコーン３〜４０ｗｔ％、１〜１０００ｐｐｍのアルカリ金属を含むシリカ１〜２０ｗｔ％を含有する事を特徴とするガラスフリット複合材料。 （もっと読む）

【課題】高耐熱性を有し、且つＰｂＯ等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が６５０℃以上であり、且つ１０^４ｄＰａ・ｓにおける温度が１２００℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＣａＯ、ＳｒＯの合量）０〜２０％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２の合量）０〜２５％、Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（Ｌａ_２Ｏ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５の合量）０〜２０％を含有する。 （もっと読む）

【課題】 高度の品質が要求される情報記録媒体用ガラス基板に好適に用いられるガラスの製造方法、この方法で得られたガラスを用いてガラス基板ブランクスおよびガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 ガラス原料をガラス溶解装置で溶解し、アルカリ金属元素を含むガラスを製造する方法において、前記溶解装置として、ガラス接触部分の材料がジルコニウムを含み、かつ実質的にアルカリ金属元素を含まない材料で構成されたものを用いるガラスの製造方法、この製造方法で得られたガラスをプレス成形またはフロート成形するガラス基板ブランクスの製造方法、および該ガラス基板ブランクスに研削、研磨加工を施すガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 ＴｉＯ_２成分、ＷＯ_３成分、ＺｎＯ成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、及びＴａ_２Ｏ_５成分からなる群より選択される１種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、１０〜７５％含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、屈折率１．９０〜２．１０、アッベ数１５〜２７の範囲の光学定数を有するような高屈折率高分散領域で、部分分散比が小さい光学ガラスを提供することにある。
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を５．０〜３０．０％、Ｔａ_２Ｏ_５成分を０．５〜１５．０％含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６２×ν_ｄ＋０．７５６６３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２６０×ν_ｄ＋０．６８１００）の関係を満たす光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】電子基板として適する貫通電極を有するガラス板を製造する方法であって、貫通電極を精度よく、且つ高密度に形成できる方法を提供する。
【解決手段】波長λのレーザパルス１１をレンズで集光してガラス板１２に照射し、レーザパルス１１が照射された部分に変質部１３を形成する工程と、ガラス板１２に対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部１３をエッチングしてガラス板１２に孔を形成する工程と、貫通電極を構成する導電性材料を前記孔の内部に配置する工程とを含む製造方法とする。レーザパルス１１のパルス幅は１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にあり、波長λは５３５ｎｍ以下、波長λにおけるガラス板１２の吸収係数は５０ｃｍ^-1以下、レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）をレンズに入射する際のレーザパルス１１のビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値は７以上とする。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群
の１種以上の酸化チタン、並びにアルカリ土類チタンリン酸化合物の結晶相を有しているガラスセラミックス、その製造方法、及び前記ガラスセラミックスを含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供する。
【解決手段】Ｒ_０．５Ｔｉ_２（ＰＯ_４）_３及びこれらの固溶体から選ばれる１種以上、並びにＴｉＯ_２及びこの固溶体のいずれか又は両方、を有し、ＪＩＳ Ｒ １７０３−２：２００７に基づくメチレンブルーの分解活性指数が３．０ｎｍｏｌ／Ｌ／ｍｉｎ以上であるガラスセラミックス。（式中、ＲはＢｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎから選ばれる１種以上とする）。本ガラスセラミックスは、原料を混合・溶融してガラス融液またはガラスを得る工程と、前記融液又はガラスを結晶核が生成し成長する温度に保持する結晶化工程と、を有する製法によって作られる。 （もっと読む）

【課題】ガラスを原料として、２種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる２種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、ＴｉＯ_２結晶、ＷＯ_３結晶、ＺｎＯ結晶、ＲｎＮｂＯ_３結晶、ＲｎＴａＯ_３結晶（ここで、Ｒｎはアルカリ金属を意味する）、及びこれらの固溶体からなる群より選択される２種以上の結晶を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、Ａｇ^＋のマイグレーションが生じ難い、低融点の無鉛ガラスを提供する。
【解決手段】アルカリ金属酸化物を含まない無鉛低融点ガラスであって、酸化物換算で、Ｂｉ_２Ｏ_３を５５〜７５重量％、ＳｉＯ_２を１５〜３５重量％、ＺｒＯ_２ を１〜１０重量％、ＢａＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ及びＳｒＯからなる群から選ばれた少なくとも一種を合計で１〜１０重量％、Ｂ_２Ｏ_３ を０〜２重量％、Ａｌ_２Ｏ_３ を０〜５重量％、ＴｉＯ_２ を０〜５重量％含有し、且つ、（ＳｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３及びＴｉＯ_２の合計量）／（ＢａＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ及びＢ_２Ｏ_３の合計量）（重量比）＝２〜６である、軟化点が６００℃以下の低融点ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス溶融時におけるハロゲンの清澄能力を高めることで、泡品位に優れたＬＡＳ系結晶性ガラスを得る方法を提供する。
【解決手段】原料バッチを溶融することにより、組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ １７〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ ３〜６％、ＭｇＯ ０〜２％、ＺｎＯ ０〜２％、ＴｉＯ_２ ２〜５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜３％、希土類酸化物 ０．０３〜１％、ハロゲン ０．０１〜０．２％を含有し、実質的にＡｓ_２Ｏ_３およびＳｂ_２Ｏ_３を含有しないＬＡＳ系結晶性ガラスを製造するための方法であって、原料バッチ中に希土類酸化物を０．０３〜１％かつハロゲンを０．０５〜１％含有することを特徴とするＬＡＳ系結晶性ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】５３０〜５７０℃の歪点を有し、且つガラス板中のアルカリ成分と電極が反応し難いガラス板を創案し、ディスプレイの低価格化を推進すること。

【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜６％未満、ＭｇＯ ０〜８％、ＣａＯ ０〜８％、ＳｒＯ １０〜２０％、ＢａＯ ０〜８％、ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜２５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの合量） １０〜３０％、Ｎａ_２Ｏ １〜９％未満、Ｋ_２Ｏ ６超〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合量） ９〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜５％、Ａｌ_２Ｏ_３＋ＺｒＯ_２（Ａｌ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２の合量） ０〜６％未満を含有し、且つ歪点が５３０〜５７０℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透過する画像にゆがみが生じない反射防止膜付き防火保護板ガラス、反射防止膜付き防火保護合わせガラス、及びこれらの何れかを用いた特定防火設備を提供する。
【解決手段】反射防止膜付き防火保護板ガラス１０は、３０〜７５０℃の温度範囲において−１０〜１０×１０^−７／Ｋの平均線膨張係数を有する結晶化ガラス製の耐熱板ガラス１１の透光面１１ａ（１１ｂ）に、反射防止膜１２が形成され、表面粗さのＲａ値が０.０３μｍ以下であり、かつＪＩＳ Ｒ３１０６に規定の可視光反射率が０．４％以下である。また、反射防止膜付き防火保護合わせガラスは、複数枚の板ガラスの少なくとも１枚が、防火保護板ガラス１０である。また、特定防火設備は、全ての遮炎有効部位の厚みが１．６ｍｍ以上の枠体の溝部に、防火保護板ガラス１０が６．５ｍｍ以上のみ込まれており、枠体の溝部と防火保護板ガラス１０の間が耐熱性の材料で封止されている。 （もっと読む）

バルク散乱特性を有するガラスセラミック、および、例えば、ＯＬＥＤまたは光起電用途における前記ガラスセラミックの使用に関する。
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【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０％以上９９．０％以下、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で１．０％以上８５．０％以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格ＪＩＳ Ｒ １７０３−２：２００７に基づくメチレンブルーの分解活性指数が３．０ｎｍｏｌ／Ｌ／ｍｉｎ以上である。 （もっと読む）

本発明は、アルミノケイ酸リチウムガラス及びアルミノケイ酸リチウムガラスを製造する方法に関し、該ガラスは、（ｍｏｌ％で）以下の組成：６０〜７０ ＳｉＯ_２、１０〜１３ Ａｌ_２Ｏ_３、０．０〜０．９ Ｂ_２Ｏ_３、９．６〜１１．６ Ｌｉ_２Ｏ、８．２〜＜１０ Ｎａ_２Ｏ、０．０〜０．７ Ｋ_２Ｏ、０．０〜０．２ ＭｇＯ、０．２〜２．３ ＣａＯ、０．０〜０．４ ＺｎＯ、１．３〜２．６ ＺｒＯ_２、０．０〜０．５ Ｐ_２Ｏ_５、０．００３〜０．１００ Ｆｅ_２Ｏ_３、０．０〜０．３ ＳｎＯ_２、０．００４〜０．２００ ＣｅＯ_２を有する。以下の比率及び条件：（Ｌｉ_２Ｏ＋Ａｌ_２Ｏ_３）／（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＞２、０．４７＜Ｌｉ_２Ｏ／（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）＜０．７０、０．８＜ＣａＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３＋ＺｎＯ＋Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＣｅＯ_２＜３（式中、６つの酸化物のうち少なくとも４つが含まれる）が、本発明によるガラスに適用される。このようなアルミノケイ酸リチウムガラスは、少なくとも８２ＧＰａの弾性率を有する。その上、それは、５４０℃未満のガラス転移温度Ｔ_ｇ及び／又は１１５０℃未満の加工温度を有する。ガラスは、フロートプロセスを用いた成形に好適であり、少なくとも５５０Ｎ／ｍｍ^２の曲げ強度を有し得るように化学的及び／又は熱的に強化することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラスからの成分の揮発が少なく、結晶が析出しにくく、寸法精度に優れ、分相やそれに伴う結晶化が起こりにくい照明用ガラスおよび蛍光ランプ用外套管を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．５〜５％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１０％（ただし１０％を含まず）、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ ０〜１５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ５〜１５％、ＺｒＯ_２ ０〜３％、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＷＯ_３、ＭｏＯ_３、ＳｎＯ_２から選ばれる１種類以上を０．１〜５％含有し、Ａｌ_２Ｏ_３／Ｂ_２Ｏ_３が０．１〜０．５であり、熱膨張係数が４６〜７０×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）