【課題】溶融ガラスＭによる耐熱容器１の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器１に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器１内の溶融ガラスＭを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器１を、この耐熱容器１の外側面を支える支持部材２を介して底部１２を浮かせた状態で載置面３の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】加熱される金属素材の表面にスケールが生成されるのを従来よりも抑制できる酸化防止剤を提供する。
【解決手段】軟化点の異なる複数のガラスフリットと、６００℃以下の融点を有する無機化合物とを含有する酸化防止剤。無機化合物は、主として６００℃前後の低温域で軟化する。複数のガラスフリットは、主として６００℃〜１３００℃の温度域で軟化する。そのため、酸化防止剤は、広い温度域で金属素材表面を覆い、金属素材表面が酸化してスケールを生成するのを抑制する。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したＣＳＰにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ５６〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜２６％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１１％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＺｎＯ ４〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜４．０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５．０％、Ｋ_２Ｏ ０〜６．０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １％以上を含有し、３０〜３００℃の範囲における平均熱膨張係数が３０〜３８×１０^−７Ｋ^−１、ヤング率が７８ＧＰａ以上の固体撮像装置用カバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】原料コストや溶融コストを低下できると共に、低温で焼成可能であり、しかも焼成後の表面精度を向上し得る天然大理石様結晶化ガラスの製造方法を創案することにより、安価な天然大理石様結晶化ガラス及び天然大理石様結晶化ガラス物品を得る。
【解決手段】本発明の天然大理石様結晶化ガラスは、組成として、ＳｉＯ_２を４５質量％以上、ＣａＯを７．５質量％以上、ＺｎＯを０．０５質量％以上、ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＺｒＯ_２を０．１質量％以上含み、主結晶としてβ−ウォラストナイト結晶が析出していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム）などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で０．１％〜２０％のＮａ_２Ｏ、０．１％〜５０％のＰ_２Ｏ_５の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル％で、３０％〜９０％のＳｉＯ_２、０％〜５０％のＢ_２Ｏ_３、０％〜５０％のＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する請求項１に記載の陽極接合用ガラス。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、１００以上４００以下の磨耗度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】一般の光学ガラスでは実現できなかった、高い硬度と高いヤング率とを有し、かつ高屈折率で低分散の光学ガラスを提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスは、ｍｏｌ％で示す組成が次の条件を満たす：４０％≦Ａｌ₂Ｏ₃≦５４％；２０％≦Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃≦３０％；０％≦Ｌａ₂Ｏ₃≦３０％；０％≦Ｙ₂Ｏ₃≦３０％；１６％≦ＺｒＯ₂＋Ｎｂ₂Ｏ₅＋Ｔａ₂Ｏ₅＋ＭｇＯ≦３０％；０％≦ＺｒＯ₂≦２５％；０％≦Ｎｂ₂Ｏ₅≦１０％；０％≦Ｔａ₂Ｏ₅≦１０％；０％≦ＭｇＯ≦１５％；０％≦Ｓｃ₂Ｏ₃≦１０％；０％≦Ｙｂ₂Ｏ₃≦５％；０≦ＳｉＯ₂≦１５％。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス、及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下であり、５００℃以上１２００℃以下の液相温度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚０．１ｍｍ以上のディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＳｒＯの合量）０〜２５％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、及びＮｂ_２Ｏ_５の合量）３〜４０％を含有し、歪点が６５０℃以上、１０ｋｅＶにおけるＸ線吸収係数が１５０ｃｍ^−１以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ⁵⁺、Ａｌ³⁺およびＲ²⁺（Ｒ²⁺は、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｓｒ²⁺およびＢａ²⁺からなる群から選ばれる少なくとも１つ）を含み、カチオン％表示で、Ｂａ²⁺の含有率が１７．０〜３１．０％、Ｒ²⁺の含有率が３５．０〜５５．０％であり、アニオン成分として、Ｆ^-およびＯ^2-を含有し、屈折率（ｎｄ）が１．５０以上で、アッベ数（νｄ）が６５以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を０〜８、Ｂ_２Ｏ_３を２〜１２、ＺｎＯを２〜７、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．５〜３、ＣｕＯを０．５〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３を８０〜９０、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．１〜３、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜３含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３やＳｂ_２Ｏ_３を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであって、Ｃｌ、ＣｅＯ_２及びＳｎＯ_２の少なくとも１種を含有するとともに、Ｓ含有量がＳＯ_３換算で１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
結晶Ｓｉ太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】重量％でＳｉＯ_２を２〜１０、Ｂ_２Ｏ_３を１８〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを０〜２５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を２０〜５０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０〜１７含むＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＲＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）の小さく、且つ分光透過率の経時的な劣化が抑制された光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＳｉＯ_２成分を１０．０〜４０．０％、及び、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１．０〜５０．０％含有し、１５以上３０以下のアッベ数（ν_ｄ）を有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００４８０×ν_ｄ＋０．７３５００）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６７７５０）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】空調施設のドレイン水における抗菌性ガラスからの銀イオン溶出量を安定的に制御して、ドレイン水における微生物の発生を効果的に抑制できる空調施設用混合抗菌性ガラスを提供する。
【解決手段】空調施設において、銀イオンを放出することによって抗菌効果を発揮する空調施設用混合抗菌性ガラスであって、溶解した場合にアルカリ性を示す抗菌性ガラスと、溶解した場合に酸性を示す抗菌性ガラスと、を含み、アルカリ性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量、および、酸性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量がそれぞれ所定の範囲内の値であり、アルカリ性を示す抗菌性ガラスの配合量が、酸性を示す抗菌性ガラス１００重量部に対して、１０〜１００重量部の範囲内の値であり、かつ、所定測定条件にて測定される総銀イオン溶出量が所定の範囲内の値である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、Ｌｎ_２Ｏ_３成分（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｃｅ、Ｅｕ、Ｄｙ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選択される１種以上）を合計で６０．０％未満含有し、１．７５以上の屈折率（ｎｄ）と１０以上のアッベ数（νｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れた結晶化ガラスを創案することにより、結晶化ガラスの表面において、化学的腐食に起因した微細なクラックが発生する事態を防止すること。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、燃焼装置の構成部材に用いる結晶化ガラスであって、表面にＫリッチ層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）