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無アルカリガラス基板の製造方法
【課題】清澄剤としてAs2O3を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でSiO2 50〜70%、Al2O3 10〜25%、B2O3 5〜20%、MgO 0〜10%、CaO 0〜15%、BaO 0〜10%、SrO 0〜10%、ZnO 0〜5%を含有し、かつSnO2及び/又はSb2O3を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−OH値が0.485/mm〜0.65/mmとなるようにガラス中の水分量を調節する。
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光学ガラス
【課題】本発明は、屈折率(nd)が1.59以上で、アッベ数(νd)が63以上である光学恒数を有し、ガラスの熔解安定性に優れ、精密プレス成形に適した軟化温度とプリフォーム用ゴブ成形性に好適な液相粘性を有し、しかも化学的耐久性に優れた光学ガラスの提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の質量%で、P2O5:30〜50%、BaO:18〜43%、B2O3:2〜12%、Al2O3:1.4〜5%、Li2O:0超〜6%、La2O3:0超〜9%、MgO:0.1〜8%、CaO:0〜10%、SrO:0〜15%、ZnO:0〜5%、Gd2O3:0〜7%、SiO2:0〜3%、を含み、nd:1.59〜1.63、νd:63〜68の光学恒数を有する光学ガラスに関する。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、B2O3成分、La2O3成分を含有し、1.73以上の屈折率(nd)と、45以上のアッベ数(νd)とを有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で(θg,F)≧(−0.00170×νd+0.63750)の関係を満たす。
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透明なガラスセラミックス
【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】少なくとも以下の組成:SiO2:60〜76;Al2O3:18〜24;Li2O:2〜5;MgO:0〜1.5;ZnO:>4〜8;ZrO2:1〜5;SnO2:>0.5〜4;Na2O:0〜1;K2O:0〜1;BaO:0〜4;Fe2O3:0〜0.1;As2O3:0〜<0.5(酸化物ベースに基づき質量%で記載)を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。
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光学ガラス
【課題】Bi2O3を成分として含有しながらも、低い屈伏点を有し、且つ広い範囲の屈折率、高屈折率をもつ光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Bi2O3、Ag2O、P2O5からなる3成分の各100モル%をそれぞれ正三角形の頂点とする3元系成分組成図上において、前記3成分が下記A〜Gの7点を結ぶ線で囲まれる領域にある。A:(Bi2O3、Ag2O)=(2.5モル%、60.0モル%)、B:(Bi2O3、Ag2O)=(12.5モル%、50.0モル%)、C:(Bi2O3、Ag2O)=(12.5モル%、42.5モル%)、D:(Bi2O3、Ag2O)=(32.5モル%、2.5モル%)、E:(Bi2O3、Ag2O)=(17.5モル%、2.5モル%)、F:(Bi2O3、Ag2O)=(17.5モル%、10.0モル%)、G:(Bi2O3、Ag2O)=(2.5モル%、25.0モル%)。
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光学ガラス
【課題】低い屈折率の温度係数と良好な光線透過性を併せ持つ、温度変化の激しい環境での使用に好適なガラス組成物を提供する。
【解決手段】SiO2、B2O3、La2O3を含有するガラスであって、相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が10.0×10−6(℃−1)以下の光学ガラス。相対屈折率(546.07nm)の温度係数(20〜40℃)が4.6×10−6(℃−1)以下の前記光学ガラス。400nmにおける内部透過率(τ10mm)が80%以上である前記光学ガラス。
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無アルカリガラス
【課題】生産性(特に耐失透性)に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ELディスプレイ内部の気密性を確保し、且つp−Si・TFTの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減すること。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が680℃より高く、30〜380℃の温度範囲における平均熱膨張係数が40〜55×10−7/℃であり、液相温度が1200℃より低いことを特徴とする。また、本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜70%、Al2O3 10〜20%、B2O3 0.1〜4.5%、MgO 0〜1%、CaO 5〜15%、SrO 0.5〜5%、BaO 5〜15%を含有することを特徴とする。
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Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
【課題】 As2O3やSb2O3を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 As2O3、Sb2O3を実質的に含有しないLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスであって、Clを含有するとともに、S含有量がSO3換算で10ppm以下、β−OH値が0.2/mm以上であることを特徴とする。なおClの含有量は50〜1500ppmであることが好ましい。
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封着材料層付きガラス部材とそれを用いた電子デバイスおよびその製造方法
【課題】封着材料層のコーナー部へのレーザ照射に起因するガラス基板や封着層のクラックや割れ、また封着ガラスの発泡による気密性の低下等を抑制することを可能にした封着材料層付きガラス部材およびそれを用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】ガラス基板3は封止領域5を備える。ガラス基板3の封止領域7上には、封着ガラスと低膨張充填材とレーザ吸収材とを含有する封着材料からなる封着材料層7が設けられている。枠状の封着材料層7は直線部7aとコーナー部7bとで構成されている。封着材料層7はコーナー部7bの幅L12が直線部7aの幅L11より広い。
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ガラス板
【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、3Dディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量%で、SiO2 40〜80%、Al2O3 0〜30%、B2O3 0〜15%、アルカリ金属酸化物(Li2O、Na2O、K2Oの一種又は二種以上) 0〜25%、アルカリ土類金属酸化物(MgO、CaO、SrO、BaOの一種又は二種以上) 0〜15%を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。
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光学ガラスの製造方法
【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、P2O5 5〜60%、TiO2 0〜25%、B2O3 0〜20%、SiO2 0〜30%、Nb2O5 5〜60%、Ta2O5 0〜20%、WO3 0〜10%、Bi2O3 0〜10%、ZrO2 0〜 5%、Al2O3 0〜 5%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、La2O3+Y2O3+Gd2O3 0〜20%、ZnO 0〜20%、Li2O+Na2O+K2O 0〜35%、ただし、Li2O 0〜 8%、Na2O+K2O 0〜35%、および上記金属元素の1種または2種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物(F)として合計0〜8%含有する光学ガラスにおいて、MoO3の含有量を測定し、MoO3の含有量が重量で30ppmを超える場合は、MoO3の含有量を重量で30ppm以下に減少させる。
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珪酸塩ガラスの製造方法
【課題】 ガラス原料中のS量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にLi2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラスの作製に用いられるLi2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 S含有量をSO3換算で15ppm以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径45〜180μmのSiO2原料を使用することを特徴とする。
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中空状ガラス球用組成物
【課題】本発明は、中空状ガラス球を形成するガラスの溶融成形性を向上させ、且つアルカリ溶出量が極めて少なく、化学的耐久性が良好な中空状ガラス球用のガラス組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】中空状ガラス球を形成するガラスを
SiO2 :30〜55質量%
B2O3 :3〜7質量%
ZnO :10質量%超〜30質量%
Al2O3 :5〜16質量%
MgO :0〜10質量%
CaO :20〜35質量%
SrO :0〜10質量%
BaO :0〜10質量%
SO3 :0.75〜3.5質量%
の組成物を含み、該組成物の合計が95〜100質量%からなる実質的にアルカリを含有しないガラスとすること。
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強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、30〜380℃の温度範囲における熱膨張係数が30〜100×10−7/℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。
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希土類アルミノホウケイ酸ガラス組成物
【課題】固体レーザー媒質としての使用に好適なアルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラス組成物を提供する。
【解決手段】アルミノホウケイ酸塩をベースとしたガラスはレーザー発振イオン用の希土類イオンの発光帯域幅を示す。完全には分かっていないが、発光帯域幅を拡大することは、ガラスマトリックス中の有効量のランタニドイオンの存在によって達成されると考えられる。加えて、ヤング率、破壊靭性及び硬度の高い値のために、透明な防弾窓材料としても好適である。
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光学ガラスの製造方法
【課題】所定の光学定数を有し、ガラス転移温度が低く、ISO試験法耐酸性に優れ、
液相温度における粘度が高く、透過率に優れ、精密プレスモールド成形に適した光学ガラ
スの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスの製造方法は、SiO2、B2O3、La2O3、Gd2O3、Ta2O5、WO3、TiO2、ZnO、及びLi2Oを含有する原料を準備し、原料をるつぼに投入し、溶融し、徐冷することによって光学ガラスを得る工程を含み、光学ガラスは、屈折率(nd)が1.85を超え、アッベ数(νd)が40以上の範囲の光学定数を有し、必須成分として酸化物基準の質量%でSiO2 3〜8%、B2O3 5〜19.5%、La2O3 15〜50%、Gd2O3 0.1〜25%、Ta2O5 10%を超え25%、WO3 1.5〜6%、TiO2 0〜1%、ZnO 0.1%以上であり、Li2Oを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分を含まず、ガラス転移温度(Tg)が630℃以下である。
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無鉛半導体封入用ガラス
【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 106dPa・sの粘度の温度が670℃以下であり、ガラス組成として、CeO2の含有量が0.01〜6質量%であり、且つSb2O3の含有量が0.1質量%以下であることを特徴とする。
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ガラスの製造方法
【課題】溶融ガラスMによる耐熱容器1の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器1に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器1内の溶融ガラスMを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器1を、この耐熱容器1の外側面を支える支持部材2を介して底部12を浮かせた状態で載置面3の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、部分分散比(θg,F)が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、SiO2成分と、Ta2O5成分、Nb2O5成分、Na2O成分及びBaO成分からなる群から選択される1種以上と、を含有し、部分分散比(θg,F)がアッベ数(νd)との間で、νd≦25の範囲において(−0.00160×νd+0.63460)≦(θg,F)≦(−0.00563×νd+0.75573)の関係を満たし、νd>25の範囲において(−0.00250×νd+0.65710)≦(θg,F)≦(−0.00340×νd+0.70000)の関係を満たす。
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ガラス組成物および基板上にそれを具備する部材
【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率(nd)が1.88以上2.20以下、ガラス転移温度(Tg)が450℃以上515℃以下、および50℃から300℃までの平均熱膨張係数(α50−300)が60×10−7/K以上90×10−7/K以下であって、Bi2O3の含有量は酸化物基準のモル%表示で5〜30%であり、ZnOの含有量は酸化物基準のモル%表記で4〜40%であることを特徴とする。
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