【課題】中屈折率（屈折率１．５８以上）、低分散（アッベ数４７以上）、低屈伏点で、成形時の耐失透性が改善され、且つレアアース含有量を抑制した、精密モールドプレス成形等のモールド成形に適した光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｂ_２Ｏ_３：２０．０〜４０．０重量％、ＳｉＯ_２：１．０〜１０．０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３：０．１〜８．０重量％、Ｒ^１_２Ｏ：３．０〜１５．０重量％、Ｒ^２Ｏ：１０．０〜４０．０重量％、ＺｎＯ：１０．０〜４０．０重量％、ＷＯ_３：１．０〜１５．０重量％、Ｌｎ_２Ｏ_３：１２．０重量％以下含有する光学ガラスである。ただし、Ｒ^１はＬｉ、Ｎａ、Ｋの中から選ばれる１種若しくは２種以上の元素を示し、Ｒ^２はＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａの中から選ばれる１種若しくは２種以上の元素を示し、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄの中から選ばれる１種若しくは２種以上の元素を示すものとする。 （もっと読む）

【課題】泡品質に優れ、化学強化可能な、装飾用途に好適な特性を持った化学強化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を５０〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜１５％、Ｎａ_２Ｏを６〜２１％、Ｋ_２Ｏを０〜１５％、ＭｇＯを０〜１５％、ＣａＯを０〜２０％、ΣＲＯ（Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎ）を０〜２１％、ＺｒＯ_２を０〜５％、Ｆｅ_２Ｏ_３を１．５〜６％、Ｃｏ_３Ｏ_４を０．１〜１％含有するガラスを化学強化することを特徴とする化学強化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）が小さく、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０％以上６０．０％以下、ＢａＯ成分を０％より多く２５．０％以下、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％より多く１５．０％以下、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く２０．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を２０．０％以上６０．０％以下、ＣａＯ成分を２０．０％より多く５０．０％以下含有し、ＢａＯ成分及びＫ_２Ｏ成分を合計で０％より多く２０．０％以下含有し、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が３０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】 フロート法を用いた場合でも、低コストで、表面異物が少なく、高い表面品位を有するガラス基板を製造する方法を提供することである。
【解決手段】 ＺｒＯ_２含有ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、フロート法等で成形するガラス基板の製造方法であって、Ｚｒ源として、Ｐ_２Ｏ_５含有量が０．４質量％以下であるジルコン等のジルコニア化合物を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス成形後に行われる成膜工程やこれらガラスを用いた撮像デバイスの製造工程等において、加熱処理が行われた場合であっても、ガラスに結晶が生じにくく、これにより欠点発生等のおそれなく用いることができる近赤外線カットフィルタガラスを提供する。
【解決手段】カチオン％表示で、Ｐ^５＋ ２５〜３７％、Ａｌ^３＋ １６．２〜２５％、 Ｒ^＋ ０．５〜４０％（ただし、Ｒ^＋は、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、及びＫ^＋の合量を表す）、Ｒ^２＋ ０．５〜４５％（ただし、Ｒ^２＋は、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ｂａ^２＋、及びＺｎ^２＋の合量を表す）、Ｃｕ^２＋ ２〜１０％、Ｓｂ^３＋ ０〜１％を含有すると共に、アニオン％表示で、Ｏ^２− ３０〜８５％、Ｆ⁻ １５〜７０％、を含むことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を１０．０％以上６０．０％以下、ＢａＯ成分を０％より多く２０．０％以下、Ｌａ_２Ｏ_３成分を０％より多く１５．０％以下、及びＮｂ_２Ｏ_５成分を０より多く１９．５％未満含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながら、アッベ数（ν_ｄ）及び部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を２０．０％以上６０．０％以下、ＣａＯ成分を２０．０％より多く５０．０％以下含有し、ＢａＯ成分及びＫ_２Ｏ成分を合計で０％より多く２０．０％以下含有し、Ｎｂ_２Ｏ_５成分の含有量が３０．０％以下であり、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（νｄ）との間で、νｄ≦３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００２７５×νｄ＋０．６８１２５）の関係を満たし、νｄ＞３１の範囲において（−０．００１６２×νｄ＋０．６３８２２）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００１６２×νｄ＋０．６４６２２）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】 オーバーフローダウンドロー法、フロート法等の板ガラス成形法を用い、低コストで、内面異物が少なく、且つ高い品位を有するガラス基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 珪酸塩ガラスとなるように調合したガラス原料を溶融、成形するガラス基板の製造方法であって、シリカ源として、Ｃｒ含有量が２ｐｐｍ以下である珪砂原料を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を６０．０％以下、及び、Ｔａ_２Ｏ_５成分を２５．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ６．５〜３０％、ＺｎＯ ０〜１５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ３６．６〜６５％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜１６％、Ｔａ_２Ｏ_５ １〜１８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜８％未満、ＷＯ_３ ０．１〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、屈折率が１．８６以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびＦ成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす１００μｍ以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が１０〜２００μｍのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、（徐冷点＋２００℃）〜（徐冷点＋５０℃）の温度範囲における平均冷却速度を３００〜２５００℃／分の範囲に調節することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときの熱収縮率の絶対値が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率特性を達成しやすい、（４）可視光透過率に優れている、（５）モールドプレス成形時の耐失透性に優れる、（６）耐侯性や化学耐久性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、モル％で、ＳｎＯ ４３．５〜９０％、Ｐ_２Ｏ_５＋Ｂ_２Ｏ_３＋ＳｉＯ_２ ０．１〜５６．５％を含有し、かつ、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、厚さのばらつきが６μｍ以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。 （もっと読む）

【課題】表面品位を向上させることができ、且つ耐失透性が良好な太陽電池用ガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明の太陽電池用ガラス基板は、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ３０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜２５％、ＢａＯ ０〜２５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜８％を含有し、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が５０〜９５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
半導体シリコン太陽電池に形成される電極として使用可能な鉛を含まない導電性ペーストを得ることを目的とした。
【解決手段】
半導体シリコン基板を用いる太陽電池用の導電性ペーストであって、該導電性ペーストに含まれるガラスフリットの組成は、実質的に鉛成分を含まず、質量％で
ＳｉＯ_２を１〜２０、Ｂ_２Ｏ_３を５〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを５〜３５、ＲＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を５〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏからなる群から選ばれる少なくとも１種の合計）を０．１〜６、Ｂｉ_２Ｏ_３を１０〜６０、を含むことを特徴とする導電性ペースト。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下の高屈折率高分散特性を有しながら、高品質の光学素子の製造に適した機械的特性を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】
酸化物ガラスであって、
カチオン％表示にて、
Ｐ⁵⁺を14〜36％、
Ｂｉ³⁺を12〜34％、
Ｎｂ⁵⁺を12〜34％、
Ｔｉ⁴⁺を5〜20％、
Ｗ⁶⁺を0〜22％
含み、
Ｂｉ³⁺、Ｎｂ⁵⁺、Ｔｉ⁴⁺およびＷ⁶⁺の合計含有量が50％以上、
ヌープ硬度が370以上、屈折率ｎｄが2.02以上、アッベ数νｄが19.0以下である光学ガラス。この光学ガラスからなるプレス成形用ガラス素材及び光学素子。この光学ガラスを機械加工する工程を備えるプレス成形用ガラス素材の製造方法。 （もっと読む）