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Fターム[4G062FB02]の内容

ガラス組成物 (224,797) | Ti (5,144) | 0+〜1 又は 0+〜? (1,070)

Fターム[4G062FB02]に分類される特許

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【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にあり、且つ低いガラス転移点(Tg)を有しながらも、耐失透性が高く安価に製造することができる光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を5.0〜30.0%、及びLa成分を15.0〜50.0%を含有し、Ta成分の含有量が20.0%以下である。 (もっと読む)


【課題】屈折率(n)及びアッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、色収差の補正に好ましく用いられる光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB成分を1.0〜31.0%及びLn成分を40.0〜65.0%を含有し、TiO成分の含有量が30.0%以下、Nb成分の含有量が30.0%以下である。レンズプリフォームは、この光学ガラスを母材とする。 (もっと読む)


【課題】 封着に適した流動性と、熱処理後に高い熱膨張係数を示すと共に、長期間に亘って高温に晒されても、接着箇所の気密性や接着性の低下や、ガラス成分の揮発による燃料電池の発電特性の劣化が起こり難く、安定した耐熱性を有する材料を提供することである。
【解決手段】 本発明の高膨張結晶性ガラス組成物は、モル%で、SiO 30超〜50%未満、MgO 10〜50%、BaO 5〜40%、CaO 0〜20%、SrO 0〜10%、B 0〜15%、ZnO 0〜15%、Al 0〜6%、ZrO 0〜3%、SnO 0〜3%からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。 (もっと読む)


【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスである板ガラスの表面に対して、化学強化による圧縮応力層を形成する圧縮強化処理工程と、該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスをスクライブ割断して、強化板ガラスを得る分割加工工程とを有すると共に、前記スクライブ割断の際に形成される切り傷の深さが、圧縮応力層厚さより大きく、且つ前記該圧縮強化処理工程により化学強化された板ガラスが内部の引っ張り応力により破壊しないように、前記スクライブ割断を行う。 (もっと読む)


【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点(Tg)並びに高屈折率で、被覆作業後もガラスと蛍光体が反応せず高い蛍光特性と信頼性を有するビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】Biを含有し、ガラス転移点(Tg)が500℃以下であるガラス組成物。Bi−B−ZnO系ガラスである前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示で、5〜50%のB、5〜90%のBi、5〜70%のZnOの各成分を含有する前記ガラス組成物。酸化物基準のモル%表示でZnO/Bの比の値が0.2以上かつZnO/Biの比の値が0.2以上であることを特徴とする前記ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や運搬時等に傷や割れが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi成分、SiO成分及び/又はB成分並びにF成分を含有し、「JOGIS09−1975光学ガラスのヌープ硬さの測定方法」に準じた測定方法において、250以上のヌープ硬さ(Hk)を有し、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。 (もっと読む)


【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiOを50〜70質量%、Alを5〜20質量%、NaOを6〜30質量%、および、LiOを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。 (もっと読む)


【課題】耐火性、生体溶解性を有する繊維を提供する。
【解決手段】以下の組成を有する無機繊維。SiO71〜80重量%、CaO18〜27重量%、MgO0〜3重量%、Al1.1〜3.4重量、但し、ZrO、R(RはSc,La,Ce,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,Y又はこれらの混合物から選択される)はそれぞれ0.1重量%以下であり、アルカリ金属酸化物は0.2重量%以下であり、SiO、CaO、MgO、Alの合計は99重量%以上である。 (もっと読む)


【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+およびR2+(R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)を含み、カチオン%表示で、Ca2+の含有率が14.0〜24.0%、R2+の含有率が32.0〜58.0%であり、アニオン成分として、F-およびO2-を含有し、屈折率(nd)が1.50以上で、アッベ数(νd)が65以上である光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】SiO成分、Al成分、R’O成分(ただしR’はLi、Na、Kのいずれか1種以上)を含む板状の結晶化ガラスを準備する工程と、前記結晶化ガラスを研削する研削工程を含み、前記研削工程は前記結晶化ガラスをダイヤモンドパッドで研削する工程のみからなり、前記研削工程は、ダイヤモンド粒子の平均径が0.1〜5μmのダイヤモンドパッドで研削する情報記録媒体用基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】結晶化ガラス層の内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出したことに起因して外観にまだら模様が現出した、模様付き結晶化ガラス物品を提供する。
【解決手段】主結晶としてβ−ウォラストナイトおよびディオプサイドから選択される少なくとも1種の結晶を含み、厚さが6mm超18mm以下であり、内部に球状の結晶化ガラスが1個ないし複数個析出している結晶化ガラス層Aと、前記結晶化ガラス層Aの片面および側面から選択される少なくとも1つの面の少なくとも一部に融着した状態で設けられたガラス層Bと、を含む模様付き結晶化ガラス物品。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板の主表面の研磨のために従来から研磨剤として使用されてきた酸化セリウムよりも、主表面を平らにする点、主表面のスクラッチの生じにくさの点でより優れた研磨剤を使用した磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】
研磨液を用いて磁気ディスク用ガラス基板の主表面を研磨するときに、研磨液として、主表面の算術平均粗さを0.5nm以下とし、かつ主表面のマイクロウェービネス(MW-Rq)を0.5nm以下とすべく、アルミニウム系の研磨剤として粒状のベーマイトおよび/またはギブサイトを含むものを使用する。 (もっと読む)


【課題】有機物に対する高い吸着性と光触媒活性とを兼ね備え、かつ使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】アパタイト型結晶と、TiO結晶、WO結晶、RnNbO結晶、RnTaO結晶(RnはLi、Na及びKから選択される1種以上)、RNb結晶、RTa結晶(RはBe、Mg、Ca、Sr、Ba及びZnから選択される1種以上)、ZnO結晶、ナシコン型結晶、Bi結晶、BiWO結晶、Bi結晶、Bi12結晶、BiMoO結晶、BiMo結晶、BiMo12結晶、BiTi結晶、BiTi11結晶、BiTi12結晶、Bi12TiO20結晶、BiNbO結晶、BiFe結晶、BiVO結晶、LiBiO結晶、及びこれらの固溶体から選択される1種以上の結晶と、を含有するガラスセラミックスとする。 (もっと読む)


【課題】 ガラス転移点Tgが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散(具体的には屈折率ndが1.48〜1.54、アッベ数νdが59〜67)の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO 45.5〜70%、B 10〜44%、Al 7.2〜20%、TiO 0〜7%、NaO 1〜20%、LiO 0〜9%、RO 3〜30%(ROはNaO、LiO及びKOの合量)、Sb0〜0.1%未満、(B+RO)/(Al+SiO)が0.16〜0.80であり、実質的にPbOを含まないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】10dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、Bが15.5モル%以上の組成を有するSiO−B−RO系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。 (もっと読む)


【課題】得られたガラスセラミックスがクラック形成を回避する特殊な表面特性を有し、非常に高い曲げ引張強さが達成されるフロートガラスのセラミック化プロセスを提供する。
【解決手段】水素化合物を含む雰囲気中でフロートガラスのセラミック化を行い、前記水素化合物を水蒸気および分子水素からなる群より選択し、水蒸気の場合に3体積%以上、水素の場合には2体積%以上の量で雰囲気中に存在し、得られたガラスセラミックは曲げ引張強さが少なくとも30MPaであるとする方法。 (もっと読む)


【課題】特にPbO、TlO、TeO及びAsを用いない、好ましくは弗素及びGdを用いない環境保護的考慮がなされた光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率nが1.91≦n≦2.05、アッベ数vが19≦v≦25である鉛及び砒素非含有光学ガラスであって、次の組成(酸化物に基づく重量%で)、即ちBi55−70、GeO13−21、SiO0−9、B0−10、LiO0−5、NaO0−5、KO0−5、CsO0−6、MgO0−10、CaO0−10、SrO0−10、BaO0−10、ZnO0−10、TiO0−5、La0−7、Wo0−6、Nb0−6、Σアルカリ金属酸化物0−5、Σアルカリ土類金属酸化物0−10、Σ(La+WO+Nb+TiO)0−8、通常の清澄剤0−2を含み、BiとGeOの比を5以下とすることを特徴とするガラス。 (もっと読む)


【課題】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを19重量%以上含むガラス原料から製造される、素材安定性に優れ、一般的な工芸ガラスと共に使用する場合にもクラックを生じさせない褐色ガラスを提供する。
【解決手段】都市ゴミ焼却灰から製造された熔融スラグを、ガラス原料の全重量を基準にして19重量%〜50重量%の量で含むガラス原料から製造された褐色ガラスであって、好ましくは、線膨張係数α(室温〜300℃)が、(103±7)×10−7/℃の範囲内である。また、熔融スラグを元素分析することにより得られた各元素の重量パーセンテージに0.6をかけた値を、褐色ガラスに導入される熔融スラグ中の各元素由来の酸化物の重量パーセンテージと規定した場合に、褐色ガラスが酸化物換算による重量%表示で、SiO45〜60%;NaO11.5〜12.5%;B1.2〜1.5%;KO5.5〜8.0%;CaO5.0〜8.5%;Al2.0〜3.0%;Sb0.2〜0.4%;ZnO2.0〜3.0%;BaO2.0〜3.0%;F0.05〜0.15%;LiO0.2〜0.4;Mg0.2〜0.4;Fe0.4〜0.8;TiO0.2〜0.5;を含む前記褐色ガラスも提供される。 (もっと読む)


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