【課題】低い屈折率の温度係数と良好な光線透過性を併せ持つ、温度変化の激しい環境での使用に好適なガラス組成物を提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３を含有するガラスであって、相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が１０．０×１０^−６（℃^−１）以下の光学ガラス。相対屈折率（５４６．０７ｎｍ）の温度係数（２０〜４０℃）が４．６×１０^−６（℃^−１）以下の前記光学ガラス。４００ｎｍにおける内部透過率（τ１０ｍｍ）が８０％以上である前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、ガラス封止材の熱膨張係数に整合し、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、有機ＥＬディスプレイ内部の気密性を確保し、且つｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減すること。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が６８０℃より高く、３０〜３８０℃の温度範囲における平均熱膨張係数が４０〜５５×１０^−７／℃であり、液相温度が１２００℃より低いことを特徴とする。また、本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０．１〜４．５％、ＭｇＯ ０〜１％、ＣａＯ ５〜１５％、ＳｒＯ ０．５〜５％、ＢａＯ ５〜１５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３やＳｂ_２Ｏ_３を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであって、Ｃｌを含有するとともに、Ｓ含有量がＳＯ_３換算で１０ｐｐｍ以下、β−ＯＨ値が０．２／ｍｍ以上であることを特徴とする。なおＣｌの含有量は５０〜１５００ｐｐｍであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 耐ソーラリゼーションに優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量で、Ｐ₂Ｏ₅ ５〜６０％、ＴｉＯ₂ ０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＳｉＯ₂ ０〜３０％、Ｎｂ₂Ｏ₅ ５〜６０％、Ｔａ₂Ｏ₅ ０〜２０％、ＷＯ_３ ０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３ ０〜１０％、ＺｒＯ₂ ０〜 ５％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０〜 ５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ０〜２０％、Ｌａ₂Ｏ₃＋Ｙ₂Ｏ₃＋Ｇｄ₂Ｏ₃ ０〜２０％、ＺｎＯ ０〜２０％、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、ただし、Ｌｉ₂Ｏ ０〜 ８％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ ０〜３５％、および上記金属元素の１種または２種以上の酸化物の一部または全部と置換した弗化物（Ｆ）として合計０〜８％含有する光学ガラスにおいて、ＭｏＯ_３の含有量を測定し、ＭｏＯ₃の含有量が重量で３０ｐｐｍを超える場合は、ＭｏＯ_３の含有量を重量で３０ｐｐｍ以下に減少させる。 （もっと読む）

【課題】高強度と視域制御機能を両立し得るガラス板を創案することにより、３Ｄディスプレイの高精細化、高輝度化、低消費電力化に寄与すること。
【解決手段】本発明のガラス板は、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ４０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜３０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１５％、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの一種又は二種以上） ０〜２５％、アルカリ土類金属酸化物（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯの一種又は二種以上） ０〜１５％を含有し、且つ二次元ディスプレイの一部又は全部を覆う視域制御部材に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 固体撮像装置に使用するカバーガラスをイオン交換するに際し、その処理時間を短縮できるため、生産性を向上することが可能な強化ガラス基板と、その製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の強化ガラス基板の製造方法は、アルカリ金属酸化物を含有し、３０〜３８０℃の温度範囲における熱膨張係数が３０〜１００×１０^−７／℃のガラスとなるように原料を調製する工程、該原料を溶融容器内で溶融した後、オーバーフローダウンドロー法によって板状に成形する工程、成形した板状ガラスをイオン交換することによって、その表面に圧縮応力層を形成する工程、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス原料中のＳ量を制限しなくても、泡品位に優れた珪酸塩ガラス、特にＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスの作製に用いられるＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶性ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｓ含有量をＳＯ_３換算で１５ｐｐｍ以上含有するガラス原料を用いて珪酸塩ガラスを製造する珪酸塩ガラスの製造方法であって、平均粒径４５〜１８０μｍのＳｉＯ_２原料を使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 外観検査の自動化が容易であり、しかも清澄性及び半導体素子の封入性に優れた無鉛半導体封入用ガラスを創案することを技術的課題とする。
【解決手段】 １０^６ｄＰａ・ｓの粘度の温度が６７０℃以下であり、ガラス組成として、ＣｅＯ_２の含有量が０．０１〜６質量％であり、且つＳｂ_２Ｏ_３の含有量が０．１質量％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】より均一な濃度分布を有する金属ドーパントを含有する石英ガラス体を製造する方法を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物と、ドーパントとなる金属を含む化合物と、をバーナーの火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させる工程を含むガラス体を製造する方法であって、ケイ素化合物のガス、ドーパントとなる金属を含む化合物のガス、並びに、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの一方を含む、原料混合ガスをバーナーの中央に位置する中央ノズル（Ａ）に供給し、可燃性ガス及び支燃性ガスのうちの他方のガスを、バーナーの中央ノズルとは異なるノズル（Ｂ）に供給し、さらにノズル（Ａ）、（Ｂ）とは異なるノズルに、任意に可燃性ガス又は支燃性ガスを供給することからなり、原料混合ガスの流速は、中央ノズル（Ａ）以外のノズルから供給される可燃性ガス又は支燃性ガスのうち、最大の流速のものの５０％以上９０％以下であることを特徴とする、ガラス体を製造する方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】所定の光学定数を有し、ガラス転移温度が低く、ＩＳＯ試験法耐酸性に優れ、
液相温度における粘度が高く、透過率に優れ、精密プレスモールド成形に適した光学ガラ
スの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の光学ガラスの製造方法は、ＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｇｄ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ_３、ＴｉＯ_２、ＺｎＯ、及びＬｉ₂Ｏを含有する原料を準備し、原料をるつぼに投入し、溶融し、徐冷することによって光学ガラスを得る工程を含み、光学ガラスは、屈折率（ｎ_d）が１．８５を超え、アッベ数（ν_d）が４０以上の範囲の光学定数を有し、必須成分として酸化物基準の質量％でＳｉＯ₂ ３〜８％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜１９．５％、Ｌａ₂Ｏ₃ １５〜５０％、Ｇｄ₂Ｏ₃ ０．１〜２５％、Ｔａ₂Ｏ₅ １０％を超え２５％、ＷＯ_３ １．５〜６％、ＴｉＯ_２ ０〜１％、ＺｎＯ ０．１％以上であり、Ｌｉ₂Ｏを含有し、実質的に鉛成分、ヒ素成分を含まず、ガラス転移温度（Ｔｇ）が６３０℃以下である。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が５．０％以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、ＳｉＯ_２成分と、Ｔａ_２Ｏ_５成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、Ｎａ_２Ｏ成分及びＢａＯ成分からなる群から選択される１種以上と、を含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上５１５℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は酸化物基準のモル％表示で５〜３０％であり、ＺｎＯの含有量は酸化物基準のモル％表記で４〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム）などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で０．１％〜２０％のＮａ_２Ｏ、０．１％〜５０％のＰ_２Ｏ_５の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル％で、３０％〜９０％のＳｉＯ_２、０％〜５０％のＢ_２Ｏ_３、０％〜５０％のＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する請求項１に記載の陽極接合用ガラス。 （もっと読む）

【課題】大面積で薄いカバーガラス板の自重変形を低減することができるディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル２０と、該表示パネル２０の前方に設置されるカバーガラス板３０とを備えるディスプレイ装置１０において、カバーガラス板３０は、３２インチ以上の対角線長さＬ、１．５ｍｍ以下の厚さ、および、７０ＧＰａ以上のヤング率を有することを特徴とするディスプレイ装置２０を提供する。 （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】高融点半田に対し耐半田溶解性を改善する。
【解決手段】本発明に係る導電性ペーストは、
（Ａ）導電性粉末と、
（Ｂ）酸化物換算で下記の組成からなる成分を合計で８５重量％以上含有し、かつ、実質的に鉛を含まないガラスフリットと、
（Ｃ）有機ビヒクルと、
を含むことを特徴とする導電性ペースト。
ガラスフリット中の割合として、ＳｉＯ₂…１６〜４７重量％、Ａｌ₂Ｏ₃…３３〜５２重量％、ＭｇＯ…３〜１５重量％、Ｂ₂Ｏ₃…１５〜４５重量％ （もっと読む）

【課題】特に環境保護的観点から望ましい有利な光学特性（ｖ_ｄ／ｎ_ｄ）をもち、同時にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２、ＣｄＯ、ＴｈＯを用いず、さらに好ましくはＳｉＯ_２及びＬｉＯ_２も必要とせずに低ガラス転移温度が得られる光学ガラスを提供する。
【解決手段】組成を酸化物ベースの重量％で下記の範囲とする。Ｐ_２Ｏ_５；２６〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３；１０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３；５．５〜１０％、ＢａＯ；２５〜３７％、ＳｒＯ；０〜６％、ＣａＯ；８〜１５％、ＺｎＯ；３〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３；０〜８％、Ｎａ_２Ｏ；０〜２％、Ｋ_２Ｏ；０〜２％、ＷＯ_３；０〜１０％、Ｌａ_２Ｏ_３；０〜２％、Ｎｂ_２Ｏ_５；０〜１％、ＴｉＯ_２；０〜＜１％、アルカリ土類金属酸化物総計≧４０％、アルカリ金属酸化物総計；０〜２％、一般的清澄剤；０〜０．５％ （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚０．１ｍｍ以上のディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、１００以上４００以下の磨耗度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）