ＳｉＯ_２含有粒によりＵＶ放射源のための石英ガラス要素をつくる既知の方法から出発して、高耐放射線特性により特徴付けられる石英ガラス要素を得る廉価な方法として本発明が提案していることは、合成的に製造した石英ガラスを溶融してＳｉＨ基の数よりも大きい数の水酸基を含む石英ガラスから成るプリプロダクトをつくることと、そのＳｉＨ基を除去するためそのプリプロダクトを少なくとも８５０℃の温度でアニール処理し、それにより石英ガラス要素を得ることである。本発明の石英ガラス要素において石英ガラスは合成的につくった水晶を溶融して得ており、それのＳｉＨ基の含有量は５×１０^１７分子／ｃｍ^３より少ない。 （もっと読む）

本発明は、以下の重量範囲の化合物を、すなわち０．７ないし０．９５％Ｆｅ_２Ｏ_３（全鉄）、５０ないし８０ｐｐｍＣｏＯ及び４００ないし７００ｐｐｍＮｉＯ、又は０．７ないし０．９５％Ｆｅ_２Ｏ_３（全鉄）、２００ないし３００ｐｐｍＣｏＯ及び１５００ないし１９００ｐｐｍＮｉＯの間の濃度で本質的に含有する着色部分を含む暗灰色のソーダ石灰シリカ型ガラス組成物に関し、該組成物はセレニウムがなく、０．４以下のレドックスを有する。さらに、前記ガラスは、３．８５ｍｍの厚さで測定される、５０％以下の光源Ａの下での光透過係数（Ｔ_ＬＡ）及び４５％未満の総エネルギー透過係数（Ｔ_Ｅ）を有する。本発明は、前述の組成物から得られるガラスの必要に応じて熱処理したシートに関し、及び例えば自動車のためのプライバシー窓ガラスとしての、該シートの少なくとも１つを含む窓ガラスにも関する。 （もっと読む）

本発明はガラス強化ストランドに関し、その組成には以下に規定する範囲（質量パーセントで表す）内で以下の構成成分が含まれる。その範囲とは、ＳｉＯ₂ ５８〜６３％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜１６％、ＣａＯ １６〜２３％、ＭｇＯ ０．５〜３．５％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ｌｉ₂Ｏ ０〜２％、ＴｉＯ₂ １〜１．５％、Ｂ₂Ｏ₃ ０〜１．５％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜０．４％、ＺｎＯ ０〜０．４％、ＭｎＯ ０〜１％、Ｆ ０〜０．５％である。これらのストランドは、低コスト組成物向けに、機械的強度、耐酸性及び高温耐熱性に関する特性が改善されている。また、本発明はこれらストランドの製造方法、及びこれらストランドを製造可能とする組成物に関する。 （もっと読む）

本発明は、質量百分率として表記して以下の制限値の以下の成分を含む組成である強化ガラス糸［ＳｉＯ_２５９〜６３％、Ａｌ_２Ｏ_３１０〜１６％、ＣａＯ１６〜２３％、ＭｇＯ１〜３．２％、（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ＋Ｌｉ_２Ｏ）０〜２％、ＴｉＯ_２０〜１％、Ｂ_２Ｏ_３０．１〜１．８％、Ｌｉ_２Ｏ０〜０．５％、ＺｎＯ０〜０．４％、ＭｎＯ０〜１％、Ｆ０〜０．５％］に関する。本発明の糸は低コストの組成で改良された機械特性、酸及び高温耐性を示す。前記糸の製造のための方法及びその組成物も開示する。 （もっと読む）

この発明は、屈折率が少なくとも１．５５で、以下の重量％をもつ、５０％以上のＳｉＯ_２、０．６％以上４％以下のＢ_２Ｏ_３、３％以下のＫ_２Ｏ、１２％以上１５％以下のＮａ_２Ｏ、４％以上１１％以下のＣａＯ、４．５％以上のＺｎＯ、０．２５％以上５％以下のＡｌ_２Ｏ_３、５％以下のＴｉＯ_２、並びに２％以下のＭｇＯ、特に６０％以下のＳｉＯ_２および８−１６％のＺｎＯを含み、Ｐｂ、Ｂａ、Ａｓの各酸化物の全量が０．１％未満、Ｔｉ、Ｌａの各酸化物の全量が５％未満、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙｂ、Ｙ、Ｗ、Ｂｉ、Ｚｒの各酸化物の全量が５％未満で、さらにＮｂ、Ｔａ、Ｙｂの各酸化物が多くとも１％、Ｙ、Ｗ、Ｂｉ、Ｚｒの各酸化物が多くとも３％であることを特徴とする、鉛およびバリウムを含まないクリスタルガラスに関する。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ₂およびＹｂ₂Ｏ₃系に属し、必要ならば、その特性を調節するために添加剤を含有することができるＸ線不透過ガラスに関する。前記ガラスの製造方法およびその使用、特に歯科用ガラスの形態での使用もまた開示されている。 （もっと読む）

本発明は放射性および／または有害廃棄物、１つ以上の放射性核種、有害元素、有害化合物および／または他の化合物を含有する廃棄物を、ホウケイ酸ガラスに固定化する方法を提供する。また、本発明は放射性および／または有害廃棄物を固定化するのに使用するホウケイ酸ガラス組成物を提供する。 （もっと読む）

紫外波長領域における、特に約２５０ｎｍ未満の波長における紫外線による光学的損傷に対して高い耐性を有し、低いレーザー誘起波面歪を示す合成シリカガラス光学材料、詳しくは、約１９３ｎｍにおいてかつ約７０μＪ／ｃｍ^２のフルエンスで動作するレーザーの百億パルスに曝された場合に、６３３ｎｍで測定されたレーザー誘起波面歪が約−１．０と１．０ｎｍ／ｃｍの間である合成シリカガラス光学材料が開示されている。本発明の合成シリカガラス光学材料は、約６００ｐｐｍ未満の、好ましくは２００ｐｐｍ未満のＯＨ濃度レベルと、約５．０×１０^１７分子／ｃｍ^３未満の、好ましくは約２．０×１０^１７分子／ｃｍ^３未満のＨ_２濃度とを有している。合成シリカガラス光学材料の製造方法の請求項も含んでいる。
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本発明は、ガラスの比重よりも高い比重を有する溶融金属のバス上で、少なくとも30重量％の酸化鉛を含むガラスを得るために、中性のガス雰囲気のフロートガラス設備において実施される連続フロートガラスプロセスにより、酸化鉛を多く含むフラットガラスを製造する方法に関する。本発明により、Ｘ線に対する保護のために有用な、酸化鉛を多く含むフラットガラスの製造が可能である。
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本発明は、特定の処理雰囲気を必要とせず、また溶融塩を用いることなく、ガラス基材の所望部位に対して容易に屈折率分布を形成できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明は、アルカリ金属成分をガラス構成成分として含むガラス基材に、銅化合物、有機樹脂及び有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

プレート状製品を構成するように意図されたガラスプレートであって、その面の少なくとも１つの少なくとも１部分に金属被覆を備えているガラスプレートであって、製品が製造および／または使用される条件下でガラスの表面からガラス中へ移動しやすく、次いで着色の原因であるＭ⁰種へ還元されやすい、前記金属被覆の少なくとも１種の金属種Ｍⁿ⁺による着色に耐性があるガラスプレートであって、少なくとも表面および着色しやすい少なくとも１つの面に、１種または複数のＭⁿ⁺種の前記移動および／または前記還元を制限または防止することのできる組成物を含むことを特徴とするガラスプレート。 （もっと読む）

本発明は紫外線を吸収するソーダ−ライム−シリケート系タイプの透明ガラス組成物に関係するものであり、この組成物は以下の重量制限範囲内で含有率が変化する光吸収剤を含む。
Ｆｅ₂Ｏ₃（鉄総量） ０．０１〜０．１５％
Ｖ₂Ｏ₅（バナジウム総量） ０．１１〜０．４０％
ＭｎＯ（マンガン総量） ０．０５〜０．４０％
そして、厚さ３ｍｍの場合、紫外線透過率が４０％、かつ色度座標（ａ＊，ｂ＊）が−３から３の間を超えない。
これはまた前述の組成物から得られるガラス製中空容器または平面製品にも関係する。
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高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するＰ₂Ｏ₅−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成：３３〜７５％のＰ₂Ｏ₅、２〜５２％のＳｉＯ₂、８〜３５％のＡｌ₂Ｏ₃を有する。
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本発明は、アルカリアルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料およびそのアルカリアルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料を製造する方法を提供する。このガラス材料は、約２４０から３５０ｎｍの間に及ぶ波長、特に、エキシマ・レーザの標準的な２４８ｎｍで、感光性にすることができ、それゆえ、光学素子に形成できる。また、アルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料に屈折率パターンが形成され、その屈折率パターンが、高屈折率の領域と低屈折率の領域を含み、高屈折率の領域と低屈折率の領域との間の差が６３３ｎｍの波長で少なくとも４×１０^-5である光学素子も開示されている。
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【課題】形態及び特性に関して、可視域における透過性、ＵＶ域における遮断性、耐露光性、低熱膨張係数、及び優れた耐薬品性等の一定の要求を満たし、かつ新規用途に利用可能な該ガラスセラミック材料、及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】Ｐ_２Ｏ_５を０〜４重量％未満及び／またはＣａＯを０〜８重量％未満含むガラスセラミックをＵＶ光遮断ランプの一部として使用する。 （もっと読む）

高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｐ₂Ｏ₅三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成：５５〜８０％のＳｉＯ₂、１２〜３０％のＡｌ₂Ｏ₃、および２〜１５％のＰ₂Ｏ₅を有する。
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本発明が提供する近赤外線吸収グリーンガラス組成物は、基礎ガラス成分とともに、質量基準で、Ｆｅ_２Ｏ_３換算の全酸化鉄含有量（Ｔ−Ｆｅ_２Ｏ_３）：０．６〜１．３％、ＣｅＯ_２：０〜２．０％、ＭｎＯ：３００ｐｐｍ以下を含み、Ｆｅ_２Ｏ_３換算したＦｅＯのＴ−Ｆｅ_２Ｏ_３に対する質量比（ＦｅＯ比）：０．２１〜０．３５であり、以下ａ）、ｂ）の少なくとも一方を満たす。ａ）１．３〜２．４ｍｍの厚みに成形したときに、可視光透過率が少なくとも８０％、全太陽光エネルギー透過率が６２％以下、主波長が５００〜５４０ｎｍ、波長１１００〜２２００ｎｍの透過率を１ｎｍ毎に積分した積分値が６２０００以下。ｂ）３〜５ｍｍの厚みに成形したときに、可視光透過率が少なくとも７０％、全太陽光エネルギー透過率が４５％以下、主波長が４９５〜５４０ｎｍ、上記積分値が６２０００以下。 （もっと読む）

本発明は、バット染料アンバーガラスの製造のための組成物；ソーダ−石灰−シリカ組成物をベースとしたガラス質に変わる組成物から形成するアンバーガラス；及び、そのガラスを用いた電球（１）のための管とブランク（２）の製造のための方法に関する。組成物は以下の成分の１００重量％を含む：０．０１重量％〜１重量％の二硫化モリブデン及び０．０１重量％〜７重量％の硫化ストロンチウム。このようにして得られたガラスは、カドミウムのような有害物を持たず、所望の色を得るための付加的な熱処理は不要である。
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（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）ＲＥＯ、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
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酸化物の形としてＢａＯ、ＳｒＯ、ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３を含み、それぞれの含有量を分子濃度比とするとき、ＢａＯ＋ＳｒＯ＋ＴｉＯ_２：０．２〜０．８、ＳｉＯ_２：０．１〜０．６、Ａｌ_２Ｏ_３：０．０５〜０．２５で、ＳｒＯおよびＢａＯの合計量を１とするとき、（１−ｘ）ＢａＯ＋ｘＳｒＯ＝１の式にてｘ：０．１〜０．７であり、キュリー温度が−１００℃から８０℃までの範囲にあることを特徴とするガラス組成物。また、ガラス組成物中でＡｌ_２Ｏ_３となる素材原料にＡｌＦ_３を用い、原料粉末を１３００〜１４００℃にて溶融した後、急冷して得たガラスの粉末を用いて９００〜１２００℃にて焼成する上記の強誘電性ガラス組成物の製造方法。このようにして、印加電圧による可変容量コンデンサ素子に用いるキュリー温度制御の容易な低温焼成可能強誘電性のガラス組成物とその製造方法が提供できる。 （もっと読む）