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Fターム[4G062GA01]の内容

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Fターム[4G062GA01]に分類される特許

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【課題】 薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】 Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luの内の少なくとも1種類の希土類元素を含有するガラス材の表面部に、超短パルスレーザーを照射することにより、前記希土類元素を少なくとも含む結晶質の異質相を形成し、薄型・軽量化しても耐破砕性が要求される各種構造部材、磁気デイスク材、FPD材料、食器、窓ガラス等に利用できる。 (もっと読む)


【課題】 充分な強度を備える画像表示装置用スペーサとこのスペーサを備えた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】 SiOを10〜35質量%、RO(但し、Rはアルカリ土類金属を示す)を20〜60質量%、Bを9〜30質量%、及びAlを0〜10質量%、Sbを0.01〜5質量%含有するガラス基材を有するスペーサ。 (もっと読む)


【課題】 ガラスの熔融温度を高くせずに、ガラス流量を増加させても、未溶解ブツや泡の品位が良好であり、しかも、長期間に亘って保管しても、ガラス表面からアルカリ成分が溶出しにくく、ガラスの表面品位の低下を防止することが可能な陰極線管用ファンネルを提供することである。
【解決手段】 本発明の陰極線管用ファンネルは、PbO含有量が10〜30質量%であり、0.6ÅにおけるX線吸収係数が40cm-1以上である鉛含有ガラスからなる陰極線管用ファンネルにおいて、前記鉛含有ガラスが、Clを0.01〜0.1質量%含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイパネル(PDP)のコントラストの向上が可能となり得るプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法の提供。
【解決手段】透明電極が形成されているガラス基板がガラス層によって被覆されているプラズマディスプレイパネル前面基板の製造方法であって、ガラス層とガラス基板が接している部分の色がL表色系で表して−5<a<−1.2かつ−6<b<0となるようなガラス層によって前記ガラス基板を被覆するPDP前面基板の製造方法。ガラス層が質量百分率表示で、PbO 35〜55%、B 15〜30%、SiO 2〜15%、Al 0〜15%、BaO 0〜25%、CuO 0.2〜1%、CoO 0.3〜0.9%、CeO 0〜2%、から本質的になり(B+SiO)が17〜44%であるガラスからなる前記PDP前面基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】耐破砕性を格段に向上した、薄型・軽量化に適用可能な高強度ガラス材を提供する。
【解決手段】Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Luの群から選ばれた少なくとも一種の希土類元素を含み、さらに少なくともSi元素とアルカリ金属元素を含有する酸化物系ガラスの表面部に圧縮応力層を形成した。希土類元素は、酸化物換算で1〜10重量%、圧縮応力層はアルカリ金属イオン交換による化学強化によって形成される。酸化珪素とアルカリ酸化物からなるガラスの中に希土類酸化物を添加して高強度ガラス素材HIGとし、これに化学強化を施してガラス表面に化学強化層CSLを形成する。 (もっと読む)


【課題】結晶を容易に配向させて、これにより、結晶が配向された結晶化ガラスを簡便に製造する。
【解決手段】原ガラスを所定の温度で熱処理して結晶化ガラスを製造する結晶化ガラスの製造方法であって、熱処理の際に、析出されるフレスノイト型結晶を配向させるように原ガラスに0.5テスラ[T]以上の磁場を印加する。 (もっと読む)


第一に、不純物が少なく且つ天然石英ガラスと同等以上の高温粘度特性を有し、高温環境下にあっても変形し難い合成石英ガラスの製造方法、特に発泡が無く緻密な高耐熱性合成石英ガラスの製造方法を提供する。第二に、本発明の製造方法により容易に得られる高耐熱性合成石英ガラス体、特に、発泡が無く緻密、赤外線吸収率及び放出率が高い、またアルカリ金属拡散防止効果が極めて高い透明又は黒色石英ガラス体を提供する。
245nmの吸収係数が0.05cm−1以上である高耐熱性石英ガラス体を製造する方法であって、シリカ多孔質体を、還元処理した後、焼成して緻密なガラス体とするようにした。
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【課題】プラスイオンの抑制効果と、マイナスイオンを増幅効果で該イオンを多量かつ持続的に発生し、同時に遠赤外線を放射するガラス組成物を提供する。
【解決手段】ガラス基材と極微細な放射線を放出する稀有元素類を含む鉱物と、トルマリン若しくは遠赤外線セラミックのいずれか一方の混合物を、溶融し成形したガラス組成物とし、プラスイオンを抑制減少し、マイナスイオンを増幅し多量かつ持続的に発生し、同時に遠赤外線も増幅し、持続的に放射させることができる構成とする。 (もっと読む)


【課題】 信頼性の高い抵抗体を実現する。
【解決手段】 原料混合粉末を溶融した後急冷することにより、AO(Aはアルカリ土類金属元素を表す。)、B及びSiOを含有する抵抗体ペースト用ガラス組成物を製造する抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法であって、原料混合粉末がASiO又はABの少なくとも一方を含有する。または、原料混合粉末を溶融した後急冷することにより、AO(Aはアルカリ土類金属元素を表す。)、B、SiO及び第4の酸化物成分を含有する抵抗体ペースト用ガラス組成物を製造する抵抗体ペースト用ガラス組成物の製造方法であって、原料混合粉末がASiO、AB、第4の酸化物成分を構成する酸素以外の元素とAとの複合酸化物から選ばれる少なくとも1種を含有する。AはCa、Sr、Baから選ばれる少なくとも1種である。 (もっと読む)


【課題】本発明は赤外域(IR域)において光を吸収する無鉛含リン酸塩ガラス、好ましくは着色ガラス及びフィルターガラスの精密成形加工における使用に関する。好ましくはガラス中のフッ素含量は低くされる。
【解決手段】例えばデジタルカメラ用のレンズ等の光学部品を仕上げ処理を行うことなく有利に製造することができる。本発明方法を用いることにより、同等な技術的目的に直接用いられる他の光学部品も製造することができる。精密成形によって製造される光学部品は撮像、投影、遠距離通信、光通信光学及びレーザ技術の分野において有利に用いられる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、粉砕工程が必要なく、分散性に優れたガラス微小球を得ることができるとともに、抗菌性能を長期間にわたって持続できる抗菌性ガラス微小球およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の抗菌性ガラス微小球は、抗菌性金属を含有し、平均粒径が1.0μm以下の抗菌性ガラス微小球であって、温水浸漬処理とその後の乾燥を3回繰り返しても、大腸菌を用いた液体培地希釈法において800ppm以下の最小発育阻止濃度を示すことを特徴とし、また、本発明の抗菌性ガラス微小球の製造方法は、金属M化合物と抗菌性金属化合物の水溶液をpH6.5〜7.0に調整してから加水分解性の有機ケイ素化合物を添加して攪拌する工程、アルカリ触媒を添加してpH12〜13に調整して攪拌する工程、焼成する工程を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】UV領域以下の短波長の露光に用いられる反射型フォトマスク用Tiドープ低熱膨張石英ガラス基板につき、平坦度≦100nm、表面の自乗平均平方根粗さ≦0.15nmRMSを同時に満足する加工法を提供する。
【解決手段】不活性ガスと反応ガスとの混合ガス中にガラス基板を配し、ガラス基板に対向して設けた電極に高周波電圧を印加して生成した局所的なプラズマによって反応ガスのラジカルを生成し、ガラス基板とラジカルとを化学反応させて生成する反応生成物の揮発量を、予め測定したガラス基板の表面形状データを基に制御してガラス基板表面を高平坦化する方法において、ガラス基板がTiドープ低熱膨張石英ガラスであり、混合ガス全量に対して酸素系ガスの存在が0.01vol%以下で加工を行なう。 (もっと読む)


【課題】 鉛フリーで、例えば10kΩ/□以下の低い抵抗値を有する抵抗体において、TCR特性を改善する。
【解決手段】 導電性材料及びガラス組成物を含有し、これらが有機ビヒクルと混合されてなる抵抗体ペーストであって、前記導電性材料としてRuOを含有するとともに、希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mgから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物は、R(2−x)(x)Ru(Rは元素番号57〜71の希土類元素から選ばれる少なくとも1種であり、AはCa、Sr、Ba、Mgから選ばれる少なくとも1種である。また、0<x≦1.0である。)である。RはNd、Sm、Gd、Dy、Er、Luから選ばれる少なくとも1種類である。ガラス組成物は、CaO、B、SiO及びMnOを含有する。 (もっと読む)


【課題】 環境問題になっている鉛を含んだハンダ及びフィラの使用が困難になってきているがガラス等の接着に無鉛金属を使用する有効な接着方法が開発されていない。
【解決の手段】一液加熱硬化型アルカリ−ケイ酸系ガラス12〜28質量%に純アルミニュームの含有量が52〜60質量%、純銀の含有量が16〜22質量%であるコーティング材を用い、その素地面にニッケル鍍金銀鍍金又は銅鍍金施したものを重ね合わせ、220〜300℃まで加熱、銀−錫ハンダによりシーリングしたガラス容器。 (もっと読む)


【課題】耐熱性と耐結晶化性に優れ、希土類の熔解が可能で光安定性に優れるカルコゲナイドガラスを提供する。
【解決手段】RS−Ga系(Rはアルカリ土類金属)で、RSとGaのモル比が1以上であり、さらにGeSを1〜40モル%を添加したRS−Ga−GeS系ガラス。耐熱性を表すガラス転移温度が500℃以上、耐結晶化性を表す結晶化開始温度とガラス転移温度の差が150℃以上で、希土類の熔解が可能であり、さらに光安定性に優れた硫化物ガラスが得られる。 (もっと読む)


高シリカ純度で、形状と粒子径が均斉のとれたシリカマイクロスフィアを提供する。外径50〜125μm、好ましくは60〜90μm、壁厚1μm以上、好ましくは1〜3μm、および密度0.3〜0.7g/cmを有し、シリカマイクロスフィア(M)全重量に対してシリカを95重量%以上、好ましくはシリカマイクロスフィア(M)全重量に対してシリカを99重量%以上含むシリカマイクロスフィア(M)である。 (もっと読む)


【課題】 Pbフリーで、温度特性(TCR)に優れ、経時変化の小さい低抵抗厚膜抵抗体を実現し得るガラス組成物を提供する。
【解決手段】 下記の組成を有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ZnO,Cr,CuOから選択される1種若しくは2種以上として、CuOを含むことが好ましい。ガラス組成物は、導電性材料及び有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これを例えば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
CaO,SrO,BaOから選択される1種若しくは2種以上:10〜35モル%
:20〜40モル%
SiO:20〜40モル%
MnO:0〜15モル%(ただし、0は含まず。)
:0〜10モル%
ZnO,Cr,CuOから選択される1種若しくは2種以上:0〜20モル%(ただし、0は含まず。) (もっと読む)


【課題】Zr系フッ化物ガラスにErとCeを共添加するガラス組成物において、高品質なファイバーを安定に製造することが望まれている。
【解決手段】ガラスを構成する陽イオンが、モル%表示で、Zr,Hfから選ばれる少なくとも1種類以上の元素:45〜70%、及びAl,Ga,Inから選ばれる少なくとも1種類以上の元素:0〜15%、及びBa,Sr,Ca,Mgから選ばれる少なくとも1種類以上の元素:10〜40%、La:0〜15%、R:0.01〜15%(Rは、Sc,Y,Gd,Luから選ばれる少なくとも1種類以上の元素を示す)、Er:0.001〜15%、Ce:0.01〜15%、かつ(La+R+Er+Ce)≦15%、Li,Na,K,Cs,Rb,Pb,Gd,Znから選ばれる少なくとも1種類以上の元素:0〜30%の範囲からなり、ガラスを構成する陰イオンが、モル%表示でF:100-x%、Cl,Br,Iから選ばれる少なくとも1種類以上の元素:0〜10%(ただしxはCl,Br,Iのモル%)の範囲からなることを特徴とするハロゲン化物ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】
耐熱性ガラスをカレット原料として用いた場合に安定な操業を可能とするガラス短繊維及びその製造方法の提供。
【解決手段】
重量%で、SiO を55%以上70%以下、Al を1%以上4%未満、B を1%以上4%未満、NaOを10%以上20%以下、KOを0.9%以上10%以下、CaOを1%以上12%以下、MgOを0.1%以上10%以下、SrOを0%以上10%以下、BaOを0.1%以上10%以下、ZrOを0%以上10%以下含みかつ(SrO+BaO)が0.1%以上12%以下であり、実質的にF、P、ZnOを含まず、失透温度が1000℃以下で、粘度10000ポイズを示す温度が1300℃以下であり、失透温度と粘度1000ポイズを示す温度との差が100℃以上であるガラス短繊維。 (もっと読む)


高純度および均質性を有する低アルカリ材料を製造可能にするために、本発明は、ホウ酸塩含有低アルカリ材料を製造する方法であって、ホウ素含有溶融材料は、交流電磁場を用いた装置で直接誘導加熱され、溶融材料は、構成成分として、少なくとも25モル%の量的比率で、少なくとも1つの金属酸化物を含み、金属酸化物の金属イオンは、少なくとも2の原子価を有し、溶融材料中のホウ酸塩に対する二酸化ケイ素のモル物質量の比は、0.5以下である方法を提供する。 (もっと読む)


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