【課題】 ガラス中の全鉄酸化物（Ｆｅ₂Ｏ₃）及び２価の鉄酸化物（ＦｅＯ）の含有量を少なくしなくても、ガラスの着色を抑え、輝度を高くすることが可能なプラズマディスプレイパネル用ガラス基板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用ガラス基板は、４００〜７００ｎｍにおける分光透過率が８７％以上であるプラズマディスプレイパネル用ガラス基板において、全鉄酸化物の含有量がＦｅ₂Ｏ₃に換算して０．０６超〜０．２０質量％であり、且つ、ガラスの肉厚が２．３ｍｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子を取扱う系たとえばエッチングに用いられるプラズマ発生装置における電極といった部材であって、高い寸法精度のものが得られ、電荷の蓄積に起因する静電破壊等の虞のない部材を提供すること。
【解決手段】 酸化バナジウムを主成分とする、電気伝導度が少なくとも１×１０^−８Ｓ／ｃｍの導電性バナジン酸塩ガラスにイオンビーム照射又はレーザビーム照射による加工を施して得られる、精密加工された導電性ガラス部材。 （もっと読む）

【課題】 フッ化物を含有しないリン酸塩系ガラスにおいて実用的な耐候性と安定性を有し、低価格で大量生産可能な近赤外吸収フィルタ用ガラスを提供すること。
【解決手段】 上記フッ化物を含有しないリン酸塩系ガラスの組成は次のとおりである。
重量パーセントで、
P₂O₅が40.0〜48.0％、Al₂O₃が2.0〜10.0％、MgOが0〜5.0％、CaOが0〜10.0％、SrOが0〜10.0％、BaOが13.0〜35.0％、（但し、MgO、CaO、SrO、BaOの合量が16.0〜40.0％）、ZnOが2.0〜15.0％、Li₂Oが1.0〜6.0％、Na₂Oが0〜7.0％、K₂Oが0〜8.0％、（但し、Li₂O、Na₂O、K₂Oの合量が5.0〜16.0％）、を含む基礎ガラス100重量部に、CuOを1.0〜7.0％、Sb₂O₃を0〜1.2％含有する近赤外吸収フィルタ用ガラス。 （もっと読む）

【課題】エキシマレーザーなどの強い紫外光の照射によって、蛍光色が変化せず、またガラスが破損せず、さらに紫外光から青色光への変換効率が高く、蛍光強度が大きい青色蛍光ガラスを提供すること。
【解決手段】モル％表示で、ＡｌＦ_３が１５〜５５、ＭｇＦ_２が０〜２０、ＣａＦ_２が０〜２５、ＳｒＦ_２が０〜２０、ＢａＦ_２が０〜３５、ＲＸ_２が０〜１５（ただし、Ｒは、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる一種以上の元素で、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる一種以上の元素）、ＬｎＦ_３が０〜２５（ただしＬｎは、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｄｙから選ばれる一種以上の元素）、ＥｕＸ´_３が０．０１〜５（ただしＸ´は、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉから選ばれる一種以上の元素）である、青色蛍光ガラス。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が高く、着色が低減された光学ガラスを提供する。
【解決手段】 重量％表示で、Ｂ_２Ｏ_３を２〜４５％、ＳｉＯ_２を０〜３０％（ただし、Ｂ_２Ｏ_３含有量＞ＳｉＯ_２含有量）、Ｌａ_２Ｏ_３を１０〜５０％、ＴｉＯ_２を０〜３０％、ＺｎＯを０〜１５％、ＺｒＯ_２を０〜１５％、Ｎｂ_２Ｏ_５を０〜３５％、ＢａＯを０〜３５％、ＳｒＯを０〜５％、ＣａＯを０％以上８％未満、ＭｇＯを０％以上１３％未満（ただし、ＢａＯ、ＳｒＯ、ＣａＯおよびＭｇＯの合計含有量０〜４０％）、Ｇｄ_２Ｏ_３を０〜２０％、Ｙ_２Ｏ_３を０〜１５％、Ｔａ_２Ｏ_５を０〜１８％、ＷＯ_３を０％以上０．５％未満、Ｎａ_２ＯとＫ_２ＯとＬｉ_２Ｏを合計で０％以上１．５％未満、ＧｅＯ_２を０〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３を０〜２０％、Ｙｂ_２Ｏ_３を０〜１０％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０％、Ｓｂ_２Ｏ_３を０％以上２％未満およびＳｎＯ_２を０〜１％含む光学ガラスである。 （もっと読む）

【課題】 高温高湿環境下における絶縁抵抗劣化の発生を抑制することが可能な導電性ペースト、電子部品、及び電子機器を提供すること。
【解決手段】 一対の端子電極１１，１３は、第１の電極層１１ａ，１３ａ、第２の電極層１１ｂ，１３ｂ、及び、第３の電極層１１ｃ，１３ｃをそれぞれ有している。第１の電極層１１ａ，１３ａは、コンデンサ素体３の外表面に形成されており、且つ導電性ペーストの焼付により形成されている。第２の電極層１１ｂ，１３ｂは、第１の電極層１１ａ，１３ａ上に電気めっきにより形成されている。第３の電極層１１ｃ，１３ｃは、第２の電極層１１ｂ，１３ｂ上に電気めっきにより形成されている。導電性ペーストは、金属粉末と、ガラスフリットと、有機ビヒクルと、ＺｎＯとを含み、当該ＺｎＯの添加量は金属粉末に対して５ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下に設定されている。 （もっと読む）

【課題】 バリウチタン系強誘電体ガラスを提供する。
【解決手段】 バリウムチタン系化合物を静電浮遊とガス浮遊等無容器凝固法により、試料１を圧縮空気ガスの浮力により浮遊させ、レーザにより試料１の融点(1330℃)より約100℃高い温度まで加熱して溶融させた。一定時間（少なくとも数秒）その溶融状態を保持した後、所定の温度範囲（1400-1000℃）から約10³K/secの速度で急冷することによって容器壁からの不純物混入と核生成を抑制し、原料を凝固させた。従来では得られなかった極めて大きな誘電率を示すガラスが得られる。 （もっと読む）

【課題】 低融点無鉛フリットと着色剤とを溶融するのに坩堝を使用する必要が無く、無鉛絵具の量産化が容易で、作業者の熟練度に関係なく均質な絵具が得られ、採算性も良好で、着色剤の混合比率を大きくして濃色絵具を得ることができる方法を提供する。
【解決手段】 低融点の無鉛フリットと着色剤の粉末とを混合した後、混合粉末をプレス成形し、成形物を溶融させた後に冷却し、得られた固形物を粉砕し粉末化して無鉛絵具を得る。 （もっと読む）

【課題】微細化された電極パターンであっても、電極の剥離が生じにくいディスプレーパネル用基板を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板表面に１００μｍ以下の線幅のパターン電極が形成されたディスプレーパネル用基板であり、電極が形成されたガラス基板表面の平均表面粗さが、０．８ｎｍ以下とし、好ましくは、ガラス基板をフロート法で得られたもの、より好ましくは、前記平均表面粗さ値をフロート法で得られたガラスのトップ面側に形成させること。 （もっと読む）

本発明は、ゾルゲル法で製造され、高均質性を特徴とするＳｉ_２Ｏガラスに関する。 （もっと読む）

【課題】
ＴｉＯ₂濃度が均一であり、少なくとも一方向に脈理のない均質なシリカ・チタニアガラスの製造方法、及び一方向あるいは三方向に脈理が存在せず、且つＴｉＯ₂濃度が均一であり、ＥＵＶリソグラフィー用の反射光学材料又は反射型マスク材料として好適である均質なシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料及びチタニア原料を酸水素火炎中に導入し、シリカ・チタニアガラス微粒子を回転する基体上に垂直方向に堆積、成長して多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を炉内で加熱して透明化し、シリカ・チタニアガラス体を作製する作製工程と、前記シリカ・チタニアガラス体の外周部の濃度不均質部分を除去する除去処理工程と、を有するようにした。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、燃焼雰囲気に長時間にわたって曝されても、クラックが発生しにくいＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系透明結晶化ガラスと、それを生産するために用いるＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラスを提供することにある。
【解決手段】本発明のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラスは、β−ＯＨ量が０．２０／ｍｍ以上であり、表面に存在する粒径０.０５μｍ以上の結晶の数が、１００個／ｃｍ²以下であることを特徴とし、また、本発明のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系透明結晶化ガラスは、β−ＯＨ量が０．２０／ｍｍ以上であって、表面に存在する粒径０.０５μｍ以上の結晶の数が、１００個／ｃｍ²以下のＬｉ₂Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系結晶性ガラスを熱処理してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】低いガラス転移温度（Ｔｇ）及び高屈折率低分散性を有し、化学的耐久性、特に表面法耐候性に優れ、精密モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎ_d）が１．７５〜１．８５、アッベ数（ν_d）が３５〜４５の範囲の光学定数を有し、必須成分としてＳｉＯ₂、Ｂ₂Ｏ₃、を含有し、かつ、ＺｒＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、からなる群より選択される１種以上の成分を含有し、ガラス転移点（Ｔｇ）が５８０℃以下、表面法耐候性が級１または級２であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】高い寸法精度を有し、平面表示装置の製造工程における熱処理工程で破損や変形が起こらないガラススペーサーを製造する方法を提供する。
【解決手段】
歪点が５５０℃以上、液相温度が１１５０℃以下の特性を有する素材ガラスを準備する工程と、長径１μｍ以上の失透結晶がガラス中に析出しない条件で素材ガラスを延伸成形する工程と、延伸されたガラス成形体ガラスを切断する工程とを含むことを特徴とする。また得られるスペーサーは、歪点が５５０℃以上、液相温度が１１５０℃以下の特性を有するガラスからなり、長径１μｍ以上の失透結晶がガラス中に析出しない条件で素材ガラスを延伸成形する工程を経て得られた平面表示装置用ガラススペーサーにおいて、平面表示装置の基板平面に対して垂直方向となる寸法をガラススペーサーの高さｈとした時に、スペーサーの最大高さｈ_maxと最小高さｈ_minの差が、平均高さｈ_aveの１０％以下の値となることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
少なくとも一方向に脈理が存在せず、かつシリカ・チタニアの成分濃度が部材全体に渡って均一である均質なシリカ・チタニアガラスを製造する方法、及び一方向又は三方向に脈理が存在せず、部材に渡って濃度が均一である均質なシリカ・チタニアガラスを提供する。
【解決手段】
シリカ原料及びチタニア原料を酸水素火炎中に導入し、シリカ・チタニアガラス微粒子を回転する基体上に垂直方向に堆積、成長して多孔質ガラス体を作製し、該多孔質ガラス体を加熱して透明化し、円柱状のシリカ・チタニアガラス体を作製する作製工程と、前記シリカ・チタニアガラス体を半径に沿って成長軸方向に切断し、棒状ガラス体を形成する切り出し工程と、前記棒状ガラス体を、該ガラス体の成長軸に対して垂直な方向にせん断応力が作用するように帯域溶融法を適用して脈理を除去する均質化処理を施す第１の均質化処理工程と、を含むようにした。 （もっと読む）

【課題】銀電極との反応による黄変が起こりにくく、誘電体層の形成に好適で、かつ可視光透過率の高い透明絶縁性低融点ガラスの提供。
【解決手段】透明絶縁性の低融点ガラスにおいて、重量％でＳｉＯ_２を２〜１５、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５、Ａｌ_２Ｏ_３を１〜７、ＰｂＯを３５〜６０、ＢａＯを１０〜２５、及びＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯから選ばれた少なくとも一種類以上のアルカリ土類を０〜３、さらに必須成分としてＣｏＯを０．１〜０．５、ＣｅＯ_２を０．０１〜２含み、ＣｏＯ＋ＣｅＯ_２が０．１〜２でかつＣｏＯ／ＣｅＯ_２が０．１〜５である乾式粉砕工程を経て粉砕加工されたことを特徴とする。さらに乾式粉砕加工後の低融点ガラスの１２０℃〜５００℃までの重量減少が０．２５〜１．２重量％であり、２５μｍ厚の全光線透過率が８０％以上、直線透過率が７０％以上である特徴も有す。 （もっと読む）

【課題】超精密機器に用いる部品として要求されるヤング率を満たすコーディエライト材及び同コーディエライト材の製造方法を提供する。
【解決手段】SiO₂とAl₂O₃とMgOと窒化物とを溶融させた後、冷却に伴って非晶質化すると共に、所定温度に保持してα−コーディエライト質結晶相を析出させることによって、高硬度、高ヤング率を有するコーディエライト材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 黄変を一層抑制できる銀被覆用ガラス粉末、銀被覆用ガラス・ペースト、およびグリーンシートを提供する。
【解決手段】 ガラス・ペースト中に２価のCuおよび４価のCeがイオンまたは酸化物の形態で含まれることから、このガラス・ペーストを銀導体膜である金属電極を覆って塗布し、焼成処理を施して誘電体層を形成すると、ペースト中に含まれるCuOおよびCeO₂が銀の還元を抑制することから、その生成過程における黄変が好適に抑制される。 （もっと読む）

本発明は、酸化物に対する重量％で、組成ＳｉＯ_２を４０〜８０重量％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜４０重量％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０重量％、Ｐ_２Ｏ_５を０〜３０重量％、Ｌｉ_２Ｏを０〜２５重量％、Ｎａ_２Ｏを０〜２５重量％、Ｋ_２Ｏを０〜２５重量％、ＣａＯを０〜２５重量％、ＭｇＯを０〜１５重量％、ＳｒＯを０〜１５重量％、ＢａＯを０〜１５重量％、ＮｎＯを０〜３０重量％、Ａｇ_２Ｏを０〜５重量％、ＣｕＯを０〜１０重量％、ＧｅＯ_２を０〜１０重量％、ＴｅＯ_２を０〜１５重量％、Ｃｒ_２Ｏ_３を０〜１０重量％、Ｊを０〜１０重量％、Ｆを０〜１０重量％含み、ＺｎＯ＋Ａｇ_２Ｏ＋ＣｕＯ＋ＧｅＯ_２＋ＴｅＯ_２＋Ｃｒ_２Ｏ_３＋Ｂ_２Ｏ_３の合計は、５〜７０重量％である抗微生物作用ホウケイ酸ガラスに関する。 （もっと読む）