【課題】プレス成形を行った後において、ガラス成形体の表面の凹凸や曇りを低減することのできるガラス成形体の製造方法、及びガラス成形体の曇り低減方法を提供する。
【解決手段】ガラス成形体の製造方法は、軟化したガラスに対して金型内でプレス成形を行うガラス成形体の製造方法において、Ｓｂ成分を実質的に含有しないガラスを用いるものである。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、軟化したガラスに対する金型内でのプレス成形によって作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、プレス成形前のガラスに含まれるＳｂ成分を低減するものである。 （もっと読む）

【課題】人体及び環境に対して悪影響をおよぼす砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずとも、垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備えた結晶化ガラスを提供すること。とりわけ、高速回転化や落下衝撃に耐え得る高強度を有し、各ドライブ部材に合致する熱膨張特性や化学的耐久性をも兼ね備えた、溶融温度が低く、プレス成形等に適した生産性の高い情報記録媒体用ディスク基板用等の結晶化ガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ｌｉ_２Ｏ成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分を含有し、結晶相として二ケイ酸リチウムを含有し、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｗ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｎｂ、Ｓ、Ｃｌ、およびＦから選ばれる１種以上の元素を含有することを特徴とする結晶化ガラス。 （もっと読む）

ＩＲ透過性着色剤を含有する繊維、琴に黒色、褐色または灰色の繊維。ＩＲ透過性着色剤は、二色型、三色型または多色型の染料または顔料、殊にペリレン顔料であることができる。この繊維は、式ＩａまたはＩｂ〔式中、基Ｒ¹およびＲ²は、互いに独立に、それぞれ１回または数回Ｃ₁〜Ｃ₁₂アルキル、Ｃ₁〜Ｃ₆アルコキシ、ヒドロキシおよび／またはハロゲンによって置換されていてよい、フェニレン、ナフチレンまたはピリジレンを表わす〕の異性体の１つ、または２つの異性体の混合物を含有するペリレン顔料を含有することができる。繊維材料としては、なかんずくプラスチックまたはガラスがこれに該当する。前記繊維は、なかんずく熱管理に使用されるか、または編織布または布地の製造に使用される。
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本発明は、細胞低酸素経路を調節するために特定遷移金属イオンの制御放出を与えるように配合されたガラス組成物、並びに薬剤及び生物医学的研究（罹患組織又は損傷組織の修復、回復又は再生に関する）における、これらの低酸素経路調節ガラスの使用に関する。
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本発明は、相互接続された孔隙を有する多孔質ガラス構造の製造方法、結果として得られる多孔質構造、並びに骨の修復及び再生におけるマクロポーラス足場としてのその利用に関する。
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【課題】砒素成分やアンチモン成分を使用せずともガラス中に泡がなく、次世代の情報記録媒体基板用途としての物性を備えたガラス基板を提供すること。とりわけ、次世代の情報記録媒体用基板として適用しうる比重と機械的強度のバランスを備え、プレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した情報記録媒体用ガラス基板を提供すること。
【解決手段】酸化物基準において、ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｒ_２Ｏ成分を必須で含有し、さらに清澄成分としてα元素を含有し、ガラス中のα元素酸化物とβ元素化合物のモル比βｍ／αｍが０．１未満であり、比重が２．７未満であることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。ただしα元素はＳｎ、Ｃｅのうちどちらか１種の元素であり、β元素は、Ｓｎ、Ｃｅ、Ｍｎ、Ｗ、Ｔａ、Ｂｉ、Ｓ、Ｃｌ、およびＦから選ばれる１種以上でありα元素と重複しない。また、Ｒは、Ｌｉ，Ｎａ、Ｋから選ばれる１種以上である。 （もっと読む）

本発明は、ガラスストランド、特に有機マトリックス及び／又は無機マトリックスを有する複合材料の製造のためのガラスストランドに関する。このストランドの組成は、次に定められた範囲で次の構成成分を有する：
ＳｉＯ_２ ５０〜６５ｗｔ％
Ａｌ_２Ｏ_３ １２〜２３ｗｔ％
ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３ ＞ ７９ｗｔ％
ＣａＯ １〜１０ｗｔ％
ＭｇＯ ６〜１２ｗｔ％
Ｌｉ_２Ｏ １〜３ｗｔ％、好ましくは１〜２ｗｔ％
ＢａＯ＋ＳｒＯ ０〜３ｗｔ％
Ｂ_２Ｏ_３ ０〜３ｗｔ％
ＴｉＯ_２ ０〜３ｗｔ％
Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ＜ ２ｗｔ％
Ｆ_２ ０〜１ｗｔ％
Ｆｅ_２Ｏ_３ ＜ １ｗｔ％。
これらのストランドは、比ヤング率に代表される機械的特性と、その溶融及び繊維化の条件との間の優れた妥協を与えるガラスで作製される。 （もっと読む）

【課題】光学機器の高精細化、コンパクト化に伴い、赤外線カットフィルターに要求される赤外線吸収能力が高くなっている。このような課題に対して厚みを薄くしても赤外線範囲において極めて高い吸収能を有するガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量％で２５〜６５％のＰ_２Ｏ_５成分及びＣｕＯ成分を含有するガラスに、ＣｏＯ成分を含有させた赤外線吸収ガラスを提供する。本発明によるガラスは、従来の赤外線吸収ガラスに比べＰ_２Ｏ_５成分の含有量を少なくできるので耐候性がよく、波長７００ｎｍの光における透過率が７％未満、波長７８０〜１０００ｎｍの光における透過率が１％未満、波長１１００ｎｍの光における透過率が３％未満、波長１２００ｎｍの光における透過率が５％未満という優れた赤外線吸収能力を有する。 （もっと読む）

【課題】高強度で耐久性のある構成部品の接着を達成でき、構成部品間の接着部の密閉性をできるだけ高い程度まで到達できるガラスセラミック複合構造物を生成する方法を提供する。
【解決手段】第１（１６）および少なくとも１つの第２（１８）のガラス構成部品を、ガラスからなる接合材（２０）の中間層をその間に挟んで組み立てて被接合複合構造物を形成し、前記接合材（２０）は接合する前記構成部品（１６，１８）よりも高い放射線吸収能を有し、前記被接合複合構造物は少なくとも前記接合材（２０）の領域に、前記接合材（２０）が前記構成部品（１６，１８）と前記接合材（２０）とを接着させるのに十分軟化するまで、例えばＩＲエネルギーで照射することによって、複合ガラス状構造物を作製し、その後セラミック化処理を行う。 （もっと読む）

【課題】製造工程での取扱いが容易であって、表面の剥離や経時劣化も少なく、高い光触媒特性を有するガラスセラミックス、及びその製造方法を提供する。特に、比較的容易な方法で所望の形状に成形できる光触媒活性が高いガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】ＴｉＯ_２、又はこの固溶体、から選ばれる少なくとも１種を含む結晶性組成物と、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、又はＰ_２Ｏ_５成分から選ばれる少なくとも１種以上を含むガラス性組成物とからなるガラスセラミックスであって、該ガラス性組成物をマトリックス成分とする。結晶性組成物は、光触媒性が高い結晶型を有することができる。 （もっと読む）

本発明は、特に１次光源としての半導体光源を含む白色または着色光源のための変換材料に関し、この変換材料は、約１ｍｍの厚さｄを有するバルク材料として用いられるとき、３５０ｎｍから８００ｎｍの波長領域において、また１次光源が発光する領域において、８０％を超える内部透過率τ_ｉを有するマトリックスガラスを含み、発光団を含まない焼結マトリックスガラスの透過率およびリミッタンス（ｒｅｍｉｔｔａｎｃｅ）の合計は、３５０ｎｍから８００ｎｍのスペクトル領域において、また１次光源が発光するスペクトル領域において、少なくとも８０％を超える。
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【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を含有する光学ガラスにおいて、極めて大きい部分分散比[θｇ，Ｆ]を維持しつつ、アッベ数[νd]が特徴的な値を有する光学ガラスを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分及び/又はＢ_２Ｏ_３成分を含有し、酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３成分を４０〜９０％含有し、部分分散比［θｇ，Ｆ］が０．６３以上、アッベ数［νｄ］が２７以下であり、部分分散比［θｇ，Ｆ］＞−０．０１０８×［νｄ］＋０．８５２９を満たすことを特徴とする光学ガラス。酸化物基準の質量％でＢｉ_２Ｏ_３ 成分を６４〜９０％含有する請求項１記載の光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】熱膨張係数の十分大きな結晶化ガラス基板が安定的に得られる製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともＳｉＯ_２を主成分として含有するガラス基板に、露光エネルギーを１〜２０Ｊ／ｃｍ^２の間で調節して紫外線露光を行い、次いで熱処理温度を７８０℃〜９００℃の間で調節して熱処理を行う結晶化ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】球形度が高い球状低融点ガラス組成物粉体の製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス転移点が３５０℃〜５００℃、軟化点が４００℃〜６００℃である低融点ガラス組成物を粉砕してガラス粉末を得る粉末化工程と、前記ガラス粉末を火炎中に噴霧して熔融球状化させる球状化工程と、を有し、前記粉末化工程後、前記球状化工程前に、前記ガラス粉末の表面にオルガノシラザン類を接触させる表面処理工程を有することを特徴とする。オルガノシラザン類を接触させる量はガラス粉末の質量を基準として０．００５質量％〜０．５質量％であることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】 酸素欠乏欠陥による紫外光透過性の低下等が改善された新規なフッ素添加石英ガラスを提供する。
【解決手段】 ガラス内部１における平均フッ素濃度が１０００ｗｔｐｐｍ以上、平均ＯＨ基濃度が２ｗｔｐｐｍ以下で、且つ、ガラス表層部２の平均ＯＨ基濃度が３〜１５０ｗｔｐｐｍである構成のフッ素添加石英ガラスとした。これにより、Ｓｉ-Ｓｉ結合濃度が１×１０^１５個／ｃｍ^３であって、波長１６３ｎｍにおける紫外光透過率が８０％以上のフッ素添加石英ガラスを供することができる。 （もっと読む）

【課題】オートクレーブ処理に耐え、耐酸性であるコアガラスとそれらから作成された光ファイバを提供する。
【解決手段】コアガラスとそれから作製される光ファイバーライトガイドが記載されている。コアガラスは、アルカリ亜鉛珪酸塩系であり、酸化物ベースのモル％で、５４．５〜６５のＳｉＯ_２、１８．５〜３０のＺｎＯ、８〜２０のΣアルカリ酸化物、０．５〜３のＬａ_２Ｏ_３、２〜５のＺｒＯ_２、０．０２〜５のＨｆＯ_２、２．０２〜５のΣＺｒＯ_２＋ＨｆＯ_２、０．４〜６のＢａＯ、０〜６のＳｒＯ、０〜２のＭｇＯ、０〜２のＣａＯ、０．４〜６のΣアルカリ土類酸化物、０．５〜３のＬｉ_２Ｏ、（但し、Σアルカリ酸化物の２５％より大きくない）、＞５８．５のΣＳｉＯ_２＋ＺｒＯ_２＋ＨｆＯ_２である。Ｎａ_２Ｏ/Ｋ_２Ｏのモル比は、１/１〜１/０．３である。ＢａＯに対するＺｎＯのモル比は、３．５より大である。 （もっと読む）

【課題】短波長領域、特に３９５〜４００ｎｍの波長範囲において内部透過率の高められた光学ガラスを提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、ＧｅＯ_２成分を含有するとともに、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％で表して、Ａｌ_２Ｏ_３成分の含量が１０％以下である。この光学ガラスは、短波長領域、特に４００ｎｍ近辺の波長範囲において内部透過率が高められるため、光伝送損失が少なく、フアイバー用のコア材ガラスとして好適に用いられる。 （もっと読む）

【課題】Ｂ₂Ｏ₃を含有せず、ＬＣＤパネル用のガラス板として用いることができるディスプレイパネル用ガラス板の提供。
【解決手段】実質的にＢ₂Ｏ₃を含有せず、酸化物基準の質量％表示で、ガラス母組成として、ＳｉＯ₂：７３．５〜７８．５、ＭｇＯ：１０．６〜１１．８、Ｎａ₂Ｏ：３．０〜１５．０、Ｋ₂Ｏ：１．０〜１２．０、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ：６．０〜１５．０からなり、密度が２．４５ｇ／ｃｍ³以下であり、５０〜３５０℃の平均熱膨張係数が７５×１０^-7／℃以下であり、ガラス転移点が６１０℃以上であり、ブリトルネスが６．５μｍ^-1/2以下であり、粘度をηとするときｌｏｇη＝２．５を満たす温度が１６２０℃以下であるディスプレイパネル用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上、特に２０００ｍｍ×２０００ｍｍ以上である場合に、ガラス基板全面に渡って、溶融欠陥検査を適正に行うことにより、溶融欠陥がない大型のガラス基板を得ること。
【解決手段】本発明のガラス基板は、基板寸法が１１００ｍｍ×１２５０ｍｍ以上であり、且つ経路長５０ｍｍにおける波長５００〜８００ｎｍの透過率が８０％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス中のβーＯＨ値を低減することによりガラス中の泡形成を抑制する。
【解決手段】アルカリ金属酸化物を実質的に含まず、Ａｓ_２Ｏ_３で表されるヒ素を0.02モルパーセント未満しか含有しないケイ酸塩ガラスが得られるバッチ成分から、シート形成ダウンドローガラス製造法を用いて、ケイ酸塩ガラスシートを溶融および形成するケイ酸塩ガラスシートの製造方法において、溶融ガラス中の水分量を、得られるケイ酸塩ガラスのβ−ＯＨ値が0.4/mm未満となるようにする。 （もっと読む）