【課題】精密プレス成形法によって高品質なガラス光学素子を得ることが可能なプレス成形用ガラス素材を提供すること。
【解決手段】光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み１５ｎｍ未満の珪素酸化物膜とを有し、かつ、三液法によって測定される表面自由エネルギーが７５ｍＪ／ｍ^２以下であるプレス成形用ガラス素材。光学ガラスからなる芯部と、少なくとも芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み１５ｎｍ未満の珪素酸化物膜とを有するプレス成形用ガラス素材の製造方法。ＳｉＯ_２からなる成膜材料を用いて、不活性ガスと酸素との混合ガス雰囲気であって、酸素含有率が５体積％以上２０体積％未満の範囲である雰囲気下で成膜処理を行うことにより前記珪素酸化物膜を前記芯部の前記部位上に形成する。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ技術および薄膜光電池の双方における基板ガラスとしての使用に高度に適したガラス。
【解決手段】次の組成（質量％、酸化物基準）：ＳｉＯ_２ ＞５８〜６５、Ｂ_２Ｏ_３ ＞６〜１０．５、Ａｌ_２Ｏ_３ ＞１４〜２５、ＭｇＯ ０〜＜３、ＣａＯ ０〜９およびＢａＯ ＞３〜８、但し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＢａＯ ８〜１８、ＺｎＯ ０〜＜２を有する、アルカリ金属不含のアルミノホウケイ酸塩ガラス。 （もっと読む）

約48〜54質量％のSiO₂と、約７〜14質量％のAl₂O₃と、約10〜16質量％のCaOと、約７〜13質量％のTiO₂と、約９〜19質量％のZnOとの組成物を有するガラス繊維が提供される。本発明のガラス繊維とポリマーマトリックスとで形成される複合材料も提供される。本発明のガラス繊維は、590nmにおける屈折率が約1.60〜1.66である。 （もっと読む）

【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備える複合体であって、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル％で、ＴｉＯ_２成分を５．０〜７０．０％、並びに、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上を合計で５．０〜９０．０％含有する。 （もっと読む）

【課題】実質的にＰｂＯを含まないにもかかわらず、封入温度が低く、且つ実用上、十分な化学的耐久性、特に耐酸性を有する半導体封入用ガラスを創案すること。
【解決手段】本発明の半導体封入用ガラスは、ガラス組成として、アルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏ）の２種以上、Ｂ_２Ｏ_３およびＢｉ_２Ｏ_３を含み、且つ実質的にＰｂＯを含まないことを特徴とし、１０^６ｄＰａ・ｓおける温度が６６０℃以下であり、且つ３０〜３８０℃における熱膨張係数が８５〜１０５×１０^−７／℃であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率が１．７０〜１．９０であり、屈伏温度が４６０℃以下と低く、紫外域の透過性が良好であり、且つ、耐失透性が良好な、モールドプレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、
（１）Ｂ_２Ｏ_３：７〜２８重量％、Ｂｉ_２Ｏ_３：３０〜７７重量％及びＧａ_２Ｏ_３：２１〜３５重量％、
（２）Ｒ_２Ｏ（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ又はＫ）の少なくとも１種：０．１〜２０重量％、並びに
（３）Ｒ_２Ｆ_２（但し、ＲはＬｉ、Ｎａ又はＫ）の少なくとも１種：０．１〜５重量％を含有し、
屈折率が１．７０〜１．９０であり、且つ、屈伏温度が４６０℃以下である、
ことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れたガラスセラミックスと、これを用いた光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスの製造方法は、光触媒活性を有するガラスセラミックスの製造方法であって、ＳｉＯ_２成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｐ_２Ｏ_５成分及びＧｅＯ_２成分からなる群より選択される１種以上と、ＴｉＯ_２成分と、を含有するガラス体から得られる粉砕ガラスを所望形状の成形体に成形する成形工程と、前記成形体を加熱して焼結を行うことで、焼結体を作製する焼結工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化ニオブの結晶、ニオブ酸塩の結晶及び／又はこれらの固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＮｂ_２Ｏ_５成分を５〜５０％含有してもよく、さらにＲｎ_２Ｏ及び／又はＲＯ成分（Ｒｎは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる１種以上、並びにＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎから選ばれる１種以上を意味する）５〜４０％を含有してもよい。 （もっと読む）

【課題】中性ガラスとして理想的に適し、溶融温度が理想的には高すぎない従来の溶融システムで製造できるように十分な化学的耐久性を有する酸化ホウ素を含まないガラスを提供する。
【解決手段】本発明は、酸化物基準の重量％で、６５〜７２のＳｉＯ_２と、１１〜１７のＡｌ_２Ｏ_３と、０．１〜８のＮａ_２Ｏと、３〜８のＭｇＯと、４〜１２のＣａＯと、０〜１０のＺｎＯの組成を有し、ＣａＯ／ＭｇＯ比が１．４ないし１．６であり、ＤＩＮ ＩＳＯ ７１９による耐加水分解性がクラス１であり、かつＤＩＮ １２１１６による耐酸性およびＤＩＮ ＩＳＯ ６９５による耐アルカリ性が少なくともクラス２である、ホウ素フリー中性ガラスを開示する。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化タンタルの結晶、タンタル酸塩の結晶及び／又はこれらの固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％でＴａ_２Ｏ_５成分を５〜５０％含有してもよく、さらにＲｎ_２Ｏ及び／又はＲＯ成分（Ｒｎは、Ｌｉ、Ｎａ、及びＫから選ばれる１種以上、並びにＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ及びＺｎから選ばれる１種以上を意味する）５〜４０％を含有してもよい。 （もっと読む）

【課題】熱的安定性に優れ、高品質なガラス成形品を安定供給可能なフツリン酸ガラスを提供すること。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ⁵⁺を３０〜５０カチオン％、Ｚｎ²⁺を３０〜５０カチオン％、Ｎａ⁺を１０〜３０カチオン％、Ｌｉ⁺を０〜７カチオン％、Ｋ⁺を０〜７カチオン％、Ｂａ²⁺を０〜２カチオン％、含むフツリン酸ガラスであって、Ｐ⁵⁺の含有量に対するＯ^2-の含有量のモル比（Ｏ^2-／Ｐ⁵⁺）が３．４以上、かつＦ^-とＯ^2-との合計含有量に対するＦ^-の含有量のモル比（Ｆ^-／（Ｆ^-＋Ｏ^2-））が０．０５以上であるフツリン酸ガラス。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化チタン（ＴｉＯ_２）及び／又はこの固溶体を含む結晶相を含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、Ｂｉ_２Ｏ_３及びＴｅＯ_２から選択される１種以上の成分を０．１％以上５０．０％以下含有する （もっと読む）

【課題】０℃から５０℃において平均線膨張係数が極めて小さく、かつΔＬ／Ｌ曲線の傾きの変化が極めて小さい結晶化ガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】Ｌｉ_２Ｏ、Ａｌ_２Ｏ_３及びＳｉＯ_２の各成分を含有するガラスを熱処理し、結晶相にβ−石英及び／又はβ−石英固溶体を含む結晶化ガラスとする結晶化ガラスの製造方法であって、前記熱処理における少なくとも一つの保温工程Ｎ_Ｇは、
温度（℃）をｘ軸、時間（ｈ）をｙ軸として表したグラフにおいて、下記ＡからＤの４点の座標を結んだ領域内であることを特徴とする請求項１に記載の結晶化ガラスの製造方法。
Ａ：（Ｔｇ＋５０,０．１）
Ｂ：（Ｔｇ＋５０,４００）
Ｃ：（Ｔｇ＋８０,４００）
Ｄ：（Ｔｇ＋９５,０．１）
但しＴｇは前記結晶化ガラスの原ガラスのガラス転移点（℃）である。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、０℃から５０℃において平均線膨張係数が極めて小さく、かつΔＬ／Ｌ曲線の傾きの変化が極めて小さい結晶化ガラスを提供することであり、より具体的には０℃から５０℃において平均線膨張係数が０．０±０．２×１０^−７・℃^−１、ΔＬ／Ｌの最大値−最小値の絶対値が０℃から５０℃において１０×１０^−７以下、かつ２０℃〜３０℃におけるｄＣＴＥ／ｄＴ−温度曲線の値が−１．５ｐｐｂ・℃^−２から＋１．５ｐｐｂ・℃^−２の範囲内である結晶化ガラスを提供することである。
【解決手段】β−石英及び／又はβ−石英固溶体を含み、結晶化前後における屈折率ｎｄの変化量が０．０４以下である結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】交流電流を溶融物の加熱に使用するガラスの製造中に気泡の形成を低減させるか少なくとも防止する方法並びに装置を提供する。
【解決手段】ガラス溶融物ＦＳを交流電流により加熱するために前記ガラス溶融物ＦＳ中に伸長する電極を使用し、前記ガラス溶融物ＦＳ中に直流電流が生じ、前記直流電流が前記ガラス溶融物ＦＳ中の気泡の形成の臨界となるしきい値を超過する電流密度を有するような低含有量のレドックス緩衝剤を含むガラス溶融物ＦＳを使用し、気泡の形成を低減または防止するため、加熱用交流電流の動作周波数を最小周波数に調整し、それにより、生じている電流密度が臨界しきい値より下に留まる、製造方法。 （もっと読む）

本発明は、２０〜３００℃の温度範囲での８〜１０×１０^−６／Ｋの範囲内の熱膨張係数、５８０℃〜６４０℃の範囲内の変態点Ｔｇならびに１０６５℃〜１１４０℃の範囲内の作業温度ＶＡを有し、かつしたがってソーダ石灰ガラスに対する代替物として使用することができるアルミノケイ酸塩ガラスに関する。本発明の対象は、ガラスの高い熱負荷容量が有利である適用への、とりわけ半導体技術の分野における基板ガラス、スーパーストレートガラス及び／又はカバーガラスとしての、好ましくはＣｄ−Ｔｅ太陽光発電もしくはＣＩＳ太陽光発電ないしはＣＩＧＳ太陽光発電への適用のための、そしてソーラー技術の他の適用への本発明によるガラスの使用でもある。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低消費電力化が可能なプラズマディスプレイ用ガラス板を創案することにより、プラズマディスプレイの低消費電力化および低コスト化を図ること。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ用ガラス板は、ガラス組成中のアルカリ金属酸化物（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ：Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、Ｋ_２Ｏの合量）の含有量が６．５質量％以下であり、且つ２５℃、周波数１ＭＨｚにおける誘電率が６．５以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【解決手段】直接火炎加水分解法により得られ、０〜２５０℃における線熱膨張係数が−３００〜３００ｐｐｂ／℃の範囲内であって、２５℃における線熱膨張係数分布が１００ｐｐｂ／℃以下であるチタニアドープ石英ガラスを使用することを特徴とするナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス。
【効果】本発明によれば、微細パターン転写時のモールドの温度変化による変形を抑制することができ、位置精度の高いナノインプリントによる微細パターンの転写が可能となる。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性と可視光応答性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックス焼結体は、得られるガラス体が酸化物換算組成のモル％で、酸化タングステン成分を１０〜９５％含有し、さらにＰ_２Ｏ_５成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分、及びＧｅＯ_２成分のうち少なくとも１種以上の成分を５〜６０％含有するように調製された原料組成物を溶融しガラス化することで、ガラス体を作製するガラス化工程と、ガラス体を粉砕して粉砕ガラスを作製する粉砕工程と、粉砕ガラスを所望形状の成形体に成形する成形工程と、成形体を加熱して焼結させるとともに、ガラス中に少なくとも酸化タングステン及び／又はその固溶体を含む結晶相を生成させてガラスセラミックス焼結体を作製する焼結工程と、によって製造される。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】
光触媒特性を有する結晶を含有するガラス粉粒体および加熱されることによりガラス内に光触媒特性を有する結晶を生成するガラス粉粒体が提供される。これらのガラス粉粒体は、酸化物換算組成のモル％で、ＷＯ_３成分、及びＴｉＯ_２成分のうち少なくとも１種以上を１０〜９５％含有することができ、さらに、Ｐ_２Ｏ_５成分、Ｂ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分、およびＧｅＯ_２成分のうち少なくとも１種以上の成分を５〜６０％、を含有することができる。 （もっと読む）