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プレス加工用硝材およびプレス加工用硝材の製造方法
【課題】還元反応を発生し難くして金型の寿命の延命化を図るとともに、シリコンの析出を防いで歩留りの向上を図ることができるプレス加工用硝材およびプレス加工用硝材の製造方法を提供する。
【解決手段】焼結炉11の炉心管12内にガラス微粒子堆積体20を収容し、炉心管12内をフッ素を含む添加剤のガス雰囲気にする。そして、炉心管12の外側に配置した発熱体13によりフッ素添加剤を添加しながらガラス微粒子堆積体20を焼結する。その後、所定形状に切断加工が施されるプレス加工用硝材およびプレス加工用硝材の製造方法。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の1種以上の酸化チタン結晶を表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル%でTiO2成分を15.0%以上88.9%以下、及びP2O5成分を11.0%以上84.9%以下含有し、Rn2O成分及びRO成分からなる群より選択される1種以上の成分を0.1%以上60.0%以下含有するものである(式中、RnはLi、Na、K、Rb、Csからなる群より選択される1種以上とし、RはMg、Ca、Sr、Ba、Znからなる群より選択される1種以上とする)。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の1種以上の酸化チタン結晶を表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル%でTiO2成分を15.0%以上88.9%以下、及びP2O5成分を11.0%以上84.9%以下含有し、B2O3成分、Al2O3成分、Ga2O3成分、及びIn2O3成分からなる群より選択される1種以上の成分を0.1%以上50.0%以下含有するものである。
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ケイ酸リチウムガラスセラミック
【課題】コンピュータ支援ミリングプロセスおよびコンピュータ支援トリミングプロセスによって容易に成形され得、その後、高い化学的耐性と優れた光学特性とを示す高強度の歯科用製品へと変換され得、そして上記最終変換の間に示す収縮がかなり小さく、そしてこれらの特性全てが、ZnOを必要とせずに達成される材料を提供すること。
【解決手段】ケイ酸リチウム材料であって、機械加工によって、その器具が過度に磨耗することなく歯科用製品へと容易に加工可能であり、その後、高い強度を示すケイ酸リチウム製品へと変換され得る、ケイ酸リチウム材料。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の1種以上の酸化チタン結晶を表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル%でTiO2成分を15.0%以上88.9%以下、及びP2O5成分を11.0%以上84.9%以下含有し、Nb2O5成分、Ta2O5成分、WO3成分、及びMoO3成分からなる群より選択される1種以上の成分を0.1%以上50.0%以下含有するものである。
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ガラスセラミックス及びその製造方法
【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の1種以上の酸化チタン結晶相を有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル%でTiO2成分を15.0%以上90.0%以下、及びP2O5成分を10.0%以上85.0%以下含有するものである。また、ガラスセラミックスの製造方法は、原料を混合してその融液を得る溶融工程と、前記融液を冷却してガラス体を得る冷却工程と、前記ガラス体の温度をガラス転移温度を超えた領域まで上昇させる再加熱工程と、前記温度を前記温度領域内で維持して結晶を生じさせる結晶化工程と、を有するものである。
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乾燥ガラス系フリットを製造する方法
乾燥ガラス系フリット、および乾燥ガラス系フリットを製造する方法が開示されている。ある実施の形態において、乾燥ガラス系フリットは、バナジウム、リンおよび金属ハロゲン化物を含む。ハロゲンは、例えば、フッ素または塩素であってよい。別の実施の形態において、乾燥ガラス系フリットを製造する方法は、そのフリットのバッチ材料をか焼し、次いで、バッチ材料を窒素雰囲気などの不活性雰囲気中で溶融する各工程を有してなる。さらに別の実施の形態において、乾燥ガラス系フリットを製造する方法は、フリットのバッチ材料をか焼し、次いで、バッチ材料を窒素雰囲気などの空気雰囲気中で溶融する各工程を有してなる。
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ガラスセラミックスの製造方法、光触媒機能性成形体、及び親水性成形体
【課題】耐久性に優れ且つ酸化チタンの結晶を高確率に有するガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供すること。
【解決手段】ガラスセラミックスの製造方法は、得られるガラス体が酸化物基準のモル%で、TiO2成分を15.0〜90.0%、P2O5成分を10.0〜85.0%含有するように調製された原料組成物を溶融しガラス化することで、ガラス体を作製するガラス化工程と、ガラス体を粉砕して粉砕ガラスを作製する粉砕工程と、粉砕ガラスを所望形状の成形体に成形する成形工程と、成形体を加熱して焼結を行うことで、焼結体を作製する焼結工程と、を有する。
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複合体の製造方法、光触媒機能性部材、及び親水性成部材
【課題】耐久性に優れ且つ酸化チタンの結晶を高確率に有する複合体の製造方法、及びこの製造方法で製造される複合体を含む光触媒機能性部材及び親水性部材を提供すること。
【解決手段】複合体の製造方法は、得られるガラス体が酸化物基準のモル%で、TiO2成分を15.0〜90.0%、P2O5成分を10.0〜85.0%含有するように調製された原料組成物を溶融しガラス化することで、ガラス体を作製するガラス化工程と、ガラス体を粉砕して粉砕ガラスを作製する粉砕工程と、粉砕ガラスを基材上に配置した後に加熱し焼成を行う焼成工程と、を有する。
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施釉された製品へのインクジェット印刷用のインクセット
【課題】ガラス釉薬が表面に設けられた琺瑯やタイルにインクジェット印刷でき、500℃以上の温度で焼成された時に、インクとガラス釉薬成分との化学反応によって、高い明度と彩度が発現するCMYK4色の水性遷移金属塩インクとガラス釉薬成分で構成するインクセットを提供する。
【解決手段】琺瑯やタイルのガラス釉薬成分にチタン、アンチモン、或いはニオブ酸化物の少なくとも1種類を0.1−10%含有させることによって、遷移金属塩のアミン中和水溶液からなるシアン(C)、マゼンタ(M)、イエロー(Y)及びブラック(K)インク4原色と焼成時に化学反応させ、インクの発色を高明度、高彩度にする。
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光学ガラス、試料保持器具及び光学素子
【課題】観察時及び撮像時の画質や測定時の測定精度を高めた光学ガラス、試料保持器具及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でSiO2成分の含有量が45.0%を超え且つ80.0%以下であり、質量和(As2O3+Sb2O3)が0.1%未満であり、F成分を20.0%以下含有する。また、試料保持器具及び光学素子は、この光学ガラスが用いられたものである。
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リン酸塩系ガラス体およびその製造方法、ならびに該ガラス体を用いた近赤外カットフィルタ
【課題】近赤外カットフィルタに好適な、耐候性に優れた新規なリン酸塩系ガラス体、およびその製造方法の提供。
【解決手段】表面の少なくとも一部分において、当該表面におけるフッ素原子とリン原子との濃度比(フッ素原子濃度/リン原子濃度)が、該表面から2000nmの深さにおけるフッ素原子とリン原子との濃度比(フッ素原子濃度/リン原子濃度)に比べて大きいことを特徴とするリン酸塩系ガラス体。
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板ガラスの製造方法
【課題】フロートガラスの製造において、トップスペックおよびBOSの数および大きさを減少させる。
【解決手段】溶融槽でガラスを溶融し、ガラス溶融物を、フロートバスハウジングにある液状のメタルバス上に注ぎ、ガラスリボンに成形し、フロートバスハウジングの自由内部空間に、水素を含有する保護ガスを導入し、フロートバスハウジングから導出する、板ガラスを製造する方法において、フロートバスハウジングのm3の自由内部体積につき、少なくとも0.2Nm3/minの保護ガスが導入される。tmit,theo≦1.2分の時間で、フロートバスハウジングにある保護ガス容積全体の完全な交換がなされる。
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配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体
【課題】結晶化度が高いにもかかわらず、緻密な焼結体を得ることが可能な配線基板用ガラスセラミックス組成物及びガラスセラミックス焼結体を提供する。
【解決手段】焼成すると主結晶としてディオプサイド(CaMgSiO6)、コージェライト(Mg2Al4Si5O18)、又はフォルステライト(Mg2SiO4)を析出する性質を有する結晶性ガラス粉末を含む配線基板用ガラスセラミックス組成物であって、ガラス組成中にアニオン成分としてフッ素(F)を0.1〜3モル%含有することを特徴とする。
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光学ガラス及びガラス成形体の曇り低減方法
【課題】研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス及びガラス成形体の曇り低減方法を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でSiO2成分を44.0%以上60.0%以下、B2O3成分を14.0%以上30.0%以下、BaO成分を15.0%以上35.0%以下、並びに、ZnO成分及び/又はTiO2成分を必須成分として含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜3である。また、ガラス成形体の曇り低減方法は、ガラスに対して研磨を行うことで作製されるガラス成形体の曇り低減方法であって、研磨加工前のガラスにZn成分及び/又はTi成分を含む状態にするものである。
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無アルカリガラスの清澄方法
【課題】ヒ素やアンチモンの使用量を最少にして、無アルカリガラスの清澄を行う方法。
【解決手段】歪点が640℃以上でAs2O3含有量が0.5質量%以下の無アルカリガラスを熔解時に清澄する方法であって、1.5質量%以下のSb2O3、5.0質量%以下のSO3、2.0質量%以下のFe2O3および5.0質量%以下のSnO2からなる群から選ばれる1種以上の有効量と、5.0質量%以下のClおよび5.0質量%以下のFからなる群から選ばれる1種以上の有効量とを含有せしめて熔解、清澄する。
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電子装置のための耐久性ガラスハウジング/エンクロージャ
本発明は、ガラス材料を含み、電子装置ハウジング/エンクロージャまたは保護カバーとしての使用に適切なガラス物品に関する。特に、以下の特性を示すイオン交換されたガラスを含むハウジング/エンクロージャ/カバー:(1)15MHzから3.0GHzまでの周波数範囲において0.03未満の損失正接により定められるラジオおよびマイクロ波周波数透明性;(2)赤外線透明性;(3)0.6MPa・m1/2より大きい破壊靭性;(4)350MPaより大きい4点曲げ強度;(5)少なくとも450kgf/mm2のビッカース硬度および少なくとも5kgfのビッカース中央/放射亀裂開始限界;(6)約50から100GPaの間のヤング率;(7)2.0W/m℃未満の熱伝導率;および(8)以下の特性の少なくとも1つ:(i)20μmより大きい層の深さ(DOL)および400MPaより大きい圧縮応力を有する圧縮表面層、または(ii)20MPa以上の中央張力。 (もっと読む)
色素増感型太陽電池用ガラス組成物および色素増感型太陽電池用材料
【課題】ヨウ素電解液に侵食され難く、低融点特性を有するガラス組成物およびこれを用いた材料を創案することにより、長期信頼性の高い色素増感型太陽電池を得ること。
【解決手段】本発明の色素増感型太陽電池用ガラス組成物は、ガラス組成として、モル%で、SnO 35〜70%、P2O5 18〜50%含有することを特徴とする。
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ガラス成形品
【課題】本発明の目的は、ナトリウム除去処理などの必要が無く、ナトリウム成分の溶出が無いガラス成形品を提供することにある。
【解決手段】本発明のガラス成形品は、Na2O不含ガラスから構成されることを特徴とする。また、該Na2O不含ガラスは、SiO264〜74質量%、ZrO24〜16質量%、R2O(ただし、RはLi、K、Csを示す)10〜22質量%、R’O(ただし、R’はMg、Ca、Sr、Baを示す)3〜14質量%を主成分として含有してなり、Na2Oが不添加であることを特徴とする。
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二重クラッド光ファイバおよび二重クラッド光ファイバを備えたデバイス
二重クラッド光ファイバは、シリカ系ガラスのコア、内側クラッドおよび外側クラッドを有してなる。コアは、約5μm未満の半径、および第1の屈折率n1を有し、活性希土類ドーパントは全く含んでいない。内側クラッドは、コアを取り囲み、少なくとも約25μmの半径方向厚さ、少なくとも約0.25の開口数、およびn2<n1となるような第2の屈折率n2を有する。コアの内側クラッドに対する相対屈折率パーセント(Δ%)は、約0.1%より大きい。外側クラッドは、内側クラッドを取り囲み、約10μmから約50μmの半径方向厚さ、およびn3<n2となるような第3の屈折率n3を有する。内側クラッドの外側クラッドに対する相対屈折率パーセント(%)は、約1.5%より大きい。
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