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Fターム[4G062GE02]の内容

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Fターム[4G062GE02]に分類される特許

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【課題】多孔質ガラス体へのフッ素の導入を400℃以下の低温で実施ができ、かつ安定して、最終的に得られる合成石英ガラスのフッ素濃度を1000質量ppm以上とすることができる合成石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】(a)ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を、基材に堆積、成長させて、多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体を、反応槽内にて、圧力Pb1および温度400℃以下のフッ素単体(F)含有雰囲気下に保持し、ついで、同反応槽内にて、前記圧力Pb1よりも低い圧力Pb2および温度400℃以下の条件下に保持して、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、(c)フッ素を含有した多孔質ガラス体を、ガラス化炉内にて、透明ガラス化温度まで加熱して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程とを有する合成石英ガラスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】レーザ封着に好適な封着材料、具体的にはレーザ光を吸収しやすく、且つ軟化点が低い封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 80〜99.7質量%と、顔料 0.3〜20質量%とを含有し、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】
厚み0.5〜300μmの長尺なガラスフィルムを巻き取ってガラスロールを作製した際に、ガラスロールの内層部に位置するガラスフィルムの破損を抑制すること。
【解決手段】
厚みが0.5〜300μmであり、密度が2.45g/cm未満のガラスフィルム10をロール状に巻き取ることによって、ガラスロール15を作製する。 (もっと読む)


【課題】無機系の中空微粒子粉末原料から、小孔や欠け等の欠陥のある中空微粒子や破壊された微粒子を高純度に含む微粒子粉末と、欠陥や破壊のない完全球体の中空微粒子を高純度に含む微粒子粉末とに分離し精製する分離精製方法を提供すること、簡単な操作により効率よく分離精製する方法を提供すること、それらの分離精製された微粒子粉末を提供すること。
【解決手段】無物系の中空微粒子粉末原料1を100℃以上の温度で加熱する加熱工程と、加熱された中空微粒子粉末原料1を室温以下の温度に保持された水107に投入して急冷し、水107中で沈降する沈降性成分2と水107中で浮上する浮上性成分3に分離する分離工程と、分離された浮上性成分3と沈降性成分2をそれぞれ回収する回収工程と、回収された浮上性成分3と沈降性成分2をそれぞれ乾燥させる乾燥工程を有する。 (もっと読む)


【課題】重ね塗りをせずに良好な厚盛り印刷をすることができる厚盛り印刷絵具及び厚盛り印刷方法並びに厚盛り印刷製品を提供する。
【解決手段】無機系材料に酸窒化チタンを有する発泡性材料が0.5〜10重量%の割合で混合された厚盛り印刷用絵具を被印刷物11表面に塗布し焼付温度400〜1000℃で所定時間加熱して、厚盛り印刷用絵具の無機系材料を被印刷物11表面に融着させるとともに酸窒化チタン中の窒素をガス化発泡させて発泡印刷層21を有する印刷部20を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高耐熱性を有し、且つPbO等の有害成分を含まなくても、低温封止性を有する半導体封止用ガラスを提供する。
【解決手段】歪点が650℃以上であり、且つ10dPa・sにおける温度が1200℃未満であることを特徴とし、具体的には、ガラス組成として、質量%で、SiO30〜50%、Al0〜10%、CaO+SrO(CaO、SrOの合量)0〜20%、BaO15〜35%、ZrO+TiO(ZrO、TiOの合量)0〜25%、La+Nb(La、Nbの合量)0〜20%を含有する。 (もっと読む)


【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO 40〜71%、Al 3〜21%、LiO 0〜3.5%、NaO 7〜20%、KO 0〜15%を含有すると共に、未研磨の表面を有し、端面部に面取り加工又はエッチング処理がなされていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラスを原料として、2種以上の異なる光触媒化合物を必要十分な量で含有し、優れた光触媒活性を有する光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 焼結体の製造方法は、組成が異なる2種以上のガラス粉粒体を混合して混合物を作製する工程と、混合物を加熱し、光触媒活性を有する結晶を含むガラスセラミックスの焼結体を作製する工程と、を備えている。得られる焼結体は、TiO結晶、WO結晶、ZnO結晶、RnNbO結晶、RnTaO結晶(ここで、Rnはアルカリ金属を意味する)、及びこれらの固溶体からなる群より選択される2種以上の結晶を含むことができる。 (もっと読む)


【課題】優れた光触媒活性を有するとともに、耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 TiO成分、WO成分、ZnO成分、Nb成分、及びTa成分からなる群より選択される1種以上の成分を、酸化物換算組成の全物質量に対して、モル%で、10〜75%含有し、光触媒活性を有する光触媒ガラスが提供される。この光触媒ガラスは、透明性を有しており、ファイバー状、ビーズ状、基材との複合体、粉粒体、スラリー等の形態で提供され、特に窓ガラス、ミラーなどの用途に好ましく利用できる。 (もっと読む)


【課題】高屈折率で高透明の光学ガラスを提供する。
【解決手段】1.945≦nd≦1.97の屈折率nd、33≦νd≦36のアッベ数νdならびに410nmおよび10mmの厚さで>80%の内部透過率を有する、鉛およびヒ素を含まない光学ガラスであって、前記ガラスはB3+35−46カチオン%、La3+25−35カチオン%、Ta5+6−14カチオン%、W6+6−13カチオン%、Zr4+1−7カチオン%、Gd3+0−5カチオン%、Nb5+0−4カチオン%、Y3+0−4カチオン%、Ba2+0−2カチオン%、Σアルカリ土類酸化物0−2カチオン%を有することを特徴とする光学ガラス。 (もっと読む)


【課題】広い温度範囲において熱膨張係数がほぼゼロとなるTiOを含有するシリカガラスの製造方法の提供。
【解決手段】TiOを含有するシリカガラスの製造方法であって、(a)ガラス形成原料を火炎加水分解して得られる石英ガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質ガラス体を形成する工程と、(b)多孔質ガラス体をフッ素含有雰囲気下にて保持し、フッ素を含有した多孔質ガラス体を得る工程と、(c)フッ素を含有した多孔質ガラス体を、透明ガラス化温度まで昇温して、フッ素を含有した透明ガラス体を得る工程と、(d)フッ素を含有した透明ガラス体を、軟化点以上の温度に加熱して所望の形状に成形し、フッ素を含有した成形ガラス体を得る工程と、(e)成形ガラス体を500℃を超える温度にて5時間以上保持した後に500℃まで10℃/hr以下の平均降温速度で降温するアニール処理を行う工程、を含む製造方法。 (もっと読む)


【課題】基材上に優れた光触媒活性を有するとともに耐久性にも優れた光触媒層を設けた複合体を提供する。
【解決手段】複合体は、基材と、この基材上に位置するガラスセラミックス層と、を備えるものであって、前記ガラスセラミックス層は、酸化物基準のモル%で、TiO成分を5.0%以上99.0%以下、並びに、SiO成分、B成分、P成分及びGeO成分からなる群より選択される1種以上を合計で1.0%以上85.0%以下含有し、前記ガラスセラミックス層が結晶相及びガラス相を有しており、前記ガラスセラミックス層の日本工業規格JIS R 1703−2:2007に基づくメチレンブルーの分解活性指数が3.0nmol/L/min以上である。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、微細気泡を有し、保温性及び断熱性に優れたグラスライニング施釉層を形成することができるグラスライニング組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明のグラスライニング組成物は、グラスライニング用フリット100質量部に対してナノメートルオーダーの気泡を有するナノ多孔質(nanoporous)セラミック粒子を1〜50質量部を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】リドロー成形時に安定して生産でき、また失透などがガラス表面に発生することのない、リドロー成形に好適なガラスからなる近赤外線カットフィルタガラスを提供すること。
【解決手段】CuOを含有する、ΔT=Tx−Tg(ただし、Txは結晶化開始温度、Tgはガラス転移点)が100〜220℃であるリン含有ガラスからなる板状母材を加熱しながら延伸成形したことを特徴とする近赤外線カットフィルタガラスである。 (もっと読む)


【課題】金属粉末およびガラスフリットを含有するペーストの使用下に、ガラスおよび琺瑯鋼支持体上に、導電性被膜を製造することのできる方法を呈示する。
【解決手段】本発明は、スクリン印刷可能なアルミニウムペーストの使用下にガラスおよび琺瑯鋼上に導電性被膜を製造する方法に関し、使用すべきペーストはアルミニウム粉末40〜80質量%、殊に50〜75質量%、400〜700℃、殊に420〜580℃の軟化開始温度を有するガラスフリット5〜40質量%、殊に9〜25質量%、液状または熱可塑性の媒体10〜35質量%および焼結助剤0〜10質量%を含有する。ペーストで塗布された支持体は、500〜750℃、殊に590〜690℃で焼付けられる。支持体上の被膜は、100μオーム・cmより小さい、殊に10〜70μオーム・cmの範囲内の低い抵抗率および良好な接着により優れている。 (もっと読む)


【課題】EUVL実施時において、光学部材全体の線熱膨張係数がほぼゼロとなるEUVL光学部材用基材の提供。
【解決手段】TiO2を含有するシリカガラスからなり、対向する2つの面における、線熱膨張係数(CTE)が0ppb/℃となる温度(クロスオーバー温度:Cross−over Temperature;COT)の差が5℃以上である、EUVリソグラフィ光学部材用基材。 (もっと読む)


本発明は、光電池、好ましくは薄膜光電池であって、アルミノケイ酸ガラスから作製される基板ガラスを有し、このアルミノケイ酸ガラスは、SiOおよびAlならびにアルカリ酸化物NaOおよびアルカリ土類酸化物CaO、MgO、およびBaO、ならびに任意にさらなる成分を有するガラス組成物を含み、このガラス組成物は、10〜16重量%のNaO、>0〜<5重量%のCaO、および>1〜10重量%のBaOを含有し、かつCaO:MgOの比は、0.5〜1.7の範囲にある光電池、好ましくは薄膜光電池に関する。本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、CaO/MgO選択された比のため結晶化に対して安定であり、かつ580℃を超える転移温度Tgおよび1200℃未満の加工温度VAを有する。それゆえ、本発明に従って使用されるアルミノケイ酸ガラスは、ソーダ石灰ガラスに対する熱的により安定な代替物となる。また本発明の目的は、光電池用、好ましくは薄膜光電池用、特にCdTe、CIS、もしくはCIGSなどの複合型半導体材料に基づく光電池用、好ましくは薄膜光電池用の基板ガラス、スーパーストレート構造ガラス、および/またはカバーガラスとしてのアルミノケイ酸ガラスの使用である。 (もっと読む)


【課題】アッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することのできる光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でNb成分を75.0%未満、及び、P成分を40.0%未満含有し、0.62以上0.69以下の部分分散比(θg,F)を有し、15以上27以下のアッベ数(ν)を有する。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】アッベ数(ν)が所望の範囲内にありながら、レンズの色収差をより高精度に補正することができ、且つ着色の少ない光学ガラス、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でNb成分を75.0%未満、P成分を40.0%未満、及び、RnO成分(式中、RnはLi、Na、K及びCsからなる群より選択される1種以上)を含有し、0.62以上0.69以下の部分分散比[θg,F]を有し、15以上27以下のアッベ数(ν)を有する。プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 (もっと読む)


【課題】精密プレス成形法によって高品質なガラス光学素子を得ることが可能なプレス成形用ガラス素材を提供すること。
【解決手段】光学ガラスからなる芯部と、少なくとも前記芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み15nm未満の珪素酸化物膜とを有し、かつ、三液法によって測定される表面自由エネルギーが75mJ/m以下であるプレス成形用ガラス素材。光学ガラスからなる芯部と、少なくとも芯部の光学機能面となる部位を覆う厚み15nm未満の珪素酸化物膜とを有するプレス成形用ガラス素材の製造方法。SiOからなる成膜材料を用いて、不活性ガスと酸素との混合ガス雰囲気であって、酸素含有率が5体積%以上20体積%未満の範囲である雰囲気下で成膜処理を行うことにより前記珪素酸化物膜を前記芯部の前記部位上に形成する。 (もっと読む)


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