【課題】 平面表示装置用スペーサーの作製に好適な素材ガラスを提供することであり、より具体的には（１）表面に製膜しても、膜の導電性が長時間変化しない、（２）周辺材料と適合する熱膨張係数を有する、（３）高い寸法精度を有し、平面表示装置の製造工程における熱処理工程で破損や変形が起こらない、（４）機械的強度が高い、等の要求を満たす平面表示装置用スペーサーを作製することが可能な素材ガラスを提供することである。
【解決手段】 質量％でＳｉＯ₂ ２５〜８０％、ＲＯ（ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ及び／又はＢａ） ２０〜６０％、Ｒ’₂Ｏ（Ｒ’はＬｉ、Ｎａ及び／又はＫ） ０〜８％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０〜２０％含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】１５以上の高い比誘電率と、０．３％以下の低い誘電損失とを有し、また、ガラス移転点（Ｔｇ）も低くて、高周波回路素子、ディスプレイ等の電子回路用基板や誘電材料の形成に好適に適用できるガラスを提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を２０〜９０％含有するガラスであって、１ＭＨｚでの比誘電率が１５以上で、誘電損失が０．３％以下である。また、好ましくは、ガラス転移点（Ｔｇ）が５００℃以下である。 （もっと読む）

【課題】放射線変換媒体として特に有利な特性を有する、特にスペクトルの青およびＵＶ領域における励起放射線の周波数逓降変換に適しているガラスセラミックおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、偶発的な不純物を除いてアルカリを含まず、かつ少なくとも１種のガーネット形成剤と少なくとも１種のランタノイドの酸化物とを含む出発ガラスを溶融する工程と、前記出発ガラスを粉砕してガラスフリットを形成する工程と、前記ガラスフリットをプレスにより成形し、ランタノイドを含む少なくとも１種のガーネット相が形成されるまで焼結する工程とを含む、ガラスセラミックの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】ガラスセラミック、特に低周波数変換のための光変換材料に特に適したガラスセラミックの製造方法を目的とする。
【解決手段】酸化物を基準として、５重量％〜５０重量％のＳｉＯ_２と、５重量％〜５０重量％のＡｌ_２Ｏ_３と、１０重量％〜８０重量％の、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌｕ_２Ｏ_３、Ｓｃ_２Ｏ_３、Ｇｄ_２Ｏ_３、およびＹｂ_２Ｏ_３からなるグループから選択される少なくとも１種の酸化物と、同様に０．１重量％〜３０重量％の、ランタノイドの酸化物およびＢ_２Ｏ_３からなるグループから選択される少なくとも１種の酸化物とからなる出発ガラスを製造する。その後、上記材料を、少なくとも１００Ｋ／分の加熱速度で、好ましくは赤外線加熱を用いて、１０００℃〜１４００℃の範囲の温度に、ガーネット相を含む微結晶が形成されるまで、セラミック化のために加熱する。その後、室温まで冷却する。 （もっと読む）

【課題】酸化性着色ガラスにおいて、カラーフィーダで着色可能で、所望の黄色系の色を安定して得られるようにする。
【解決手段】エルビウムとプラセオジムをそれぞれＥｒ_２Ｏ_３換算及びＰｒ_６Ｏ_１１換算で合計０．２５〜３２重量％含有し、かつ前記Ｅｒ_２Ｏ_３／Ｐｒ_６Ｏ_１１の重量比が０．１５〜１．７である、レドックスナンバー値がプラスで主波長λｄが５７０〜５９０ｎｍである酸化性着色ガラスとする。フリットにより着色する場合、フリットの比重は３〜３．４とし、エルビウムとプラセオジムをそれぞれＥｒ_２Ｏ_３換算及びＰｒ_６Ｏ_１１換算で合計２６〜３２重量％含有させる。 （もっと読む）

高硬度及び高インライン透過率を兼ね備えるガラスセラミック、及びその作製方法。 （もっと読む）

【課題】従来の技術の欠点を回避し、かつ照明手段、特にガス放電ランプの放出による機器の問題及び障害が生じないスクリーン若しくはディスプレイの背景照明のためのバックライトシステムの提供。
【解決手段】本発明によりカバーガラスを有する少なくとも１つの照明手段を含むディスプレイ又はスクリーンの背景照明のためのバックライトシステムにおいて、カバーガラスのガラス組成物がＩＲ放射線を吸収する１個又は複数個のドーピング酸化物でドープされており、及び／又は前記カバーガラスがＩＲ放射線吸収内部及び／又は外部コーティングを有し、及び／又は前記バックライトシステムがカバーガラス以外の素子にＩＲ放射線吸収コーティングを有するバックライトシステム。 （もっと読む）

ＬＥＤエクストラクタは、ＬＥＤダイの放射面と光学結合するように適合した入力面を有し、屈折率が少なくとも２、又は少なくとも２．２のガラス（ガラスセラミックスを含む）材料からなる。
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ガラス体予備成形品を、前記ガラス体予備成形品の体積の７０〜１３０％の範囲の空隙容量を有する空洞を有する金型内に置くことにより、Ｔ_ｇ及びＴ_ｘを有するガラス体を再形成する方法。再形成されたガラス体を形成するために、その後ガラス体予備成形品に圧力を印加している間に、前記ガラス体予備成形品は（Ｔ_ｇ）と（Ｔ_ｘ＋摂氏５０度）との間の温度に加熱される。
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【課題】鉛成分を含有せず、希土類酸化物とフッ素を同時に含有するガラス系において、鉛ガラスに匹敵する遮蔽能力を有し、しかも表面硬度が高く可視域での透明性が極めて高いガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｌｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群より選択される１種以上を示す。）を１〜８５％、フッ素を０．１〜２０％含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０３ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物である。また、ＳｉＯ_２及び／又はＢ_２Ｏ_３及び／又はＧｅＯ_２及び／又はＰ_２Ｏ_５の合計量を１０〜７０％含有させることで、失透に対して安定で、表面硬度が高く透明性も放射線遮蔽能力も優れたガラス組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】鉛成分を含有せず、ＢａＯ、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｌｎ_２Ｏ_３を含有するガラスにおいて、表面硬度が高く、可視域での透明性と放射線遮蔽能力が優れるガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、ＢａＯを１０％を超えて６０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｔａ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、Ｌｎ_２Ｏ_３（ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｙｂ、Ｌｕからなる群より選択される１種以上を示す。）の１種又は２種以上を合計量で１〜７０％含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量は０．０３ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物である。また、Ｐ_２Ｏ_５、Ｂ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２及びＧｅＯ_２の合計量を５〜７０％含有させることで、失透に対して安定で、表面硬度が高く透明性も放射線遮蔽能力も優れたガラス組成物を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】有害な鉛を含まず、誘電率が低く、軟化点が低く、ガラス転移点が高く、基板との熱膨張係数のマッチングが良く、耐水性の高い、信頼性の高いディスプレイパネルを作製可能とするガラス組成物を提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、含まれる元素の内、酸素（Ｏ）を除く元素の比率が原子％表示で、硼素（Ｂ）が７２％を越え８８％以下、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）の合計量が６％以上１６％以下、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）の合計が１％以上８％以下、珪素（Ｓｉ）が０％以上１２％以下、亜鉛（Ｚｎ）が２％を越え１８％以下である、ガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】高品質の画面を実現することができるプラズマディスプレイパネル。
【解決手段】プラズマディスプレイパネルを提供する。このプラズマディスプレイパネルのガラス材質の前面基板または第２誘電層の少なくとも１つの部材は、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、セレニウム（Ｓｅ）、鉄（Ｆｅ）、マンガン（Ｍｎ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、及びスカンジウム（Ｓｃ）からなる群より選択された１つ以上の遷移金属を含む遷移金属酸化物と、プラセオジミウム（Ｐｒ）、ネオジミウム（Ｎｄ）、サマリウム（Ｓｍ）、ティプロシウム（Ｄｙ）、及びホルミウム（Ｈｏ）からなる群より選択された１つ以上の稀土類元素を含む稀土類元素酸化物と、を含む。 （もっと読む）

【課題】鉛を含まず、低いガラス転移点（Ｔｇ）並びに耐水性や耐酸性等の化学的耐久性に優れ、適切な熱膨張係数を有した信頼性の高いビスマス系ガラス組成物を提供する。
【解決手段】ガラス組成物は、酸化物基準の質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３を５０〜９０％含有し、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５００℃以下、粉末法による化学的耐久性（耐水性）がクラス３〜１である。さらに、粉末法による化学的耐久性（耐酸性）がクラス４〜１である。また、熱膨張係数が９８×１０^−７〜１３０×１０^−７／℃の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】
散乱や吸収による光損失が少なく低ＯＨ濃度であり、発光効率の高い光学用希土類金属元素含有シリカガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】
シリカ粉と希土類金属元素及びＡｌを含む粉体からなる混合粉体を加熱溶融して希土類金属元素含有シリカガラスを作製する方法において、体積粒度分布の５０％径が１０μｍ以下かつ粒子径２０μｍ以上の粒子が１％未満である混合粉体を作成し、この混合粉体を減圧下で１７００℃以上１９００℃以下の温度に加熱保持してガラス化し、さらに軟化点以上の温度に加熱しながら攪拌するようにした。 （もっと読む）

【課題】
希土類金属元素とアルミニウムが適切な濃度でドーピングされ、かつ低散乱低吸収であり、泡が少なく低ＯＨ濃度であり、高効率のレーザー発振可能なレーザー媒質用シリカガラスを提供する。
【解決手段】
希土類金属元素とアルミニウムを含有し、かつ希土類金属元素濃度が０．２ｗｔ％以上５ｗｔ％以下、［アルミニウムモル数］／［希土類金属元素モル数］で表されるアルミニウムと希土類金属元素のモル比が２以上１０未満であり、可視から赤外領域の吸収波長以外の波長における光損失係数が０．０２／ｃｍ^-1以下、１００ｃｍ³あたりの泡の総断面積が０．１０ｍｍ²以下、ＯＨ基濃度が２０ｐｐｍ以下であるようにした。 （もっと読む）

直接的に、あるいは１層または複数層の中間層を介して、互いに接合される第１層および第２層を備えた絶縁体上半導体構造。上記第１層はゲルマニウムを含む実質的に単結晶の半導体材料を含むが、上記第２層は、上記第１層のゲルマニウムの線熱膨張係数の±２０×１０^−７／℃の範囲内の線熱膨張係数（２５〜３００℃）を有するガラスまたはガラスセラミックを含む。
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【課題】多層ＬＴＣＣ回路の製造に適用するのに適したガラス、ペーストおよびテープの組成物を提供すること。
【解決手段】モル％ベースで、４６〜５６％のＢ_２Ｏ_３、０．５〜８．５％のＰ_２Ｏ_５、ＳｉＯ_２およびそれらの混合物、２０〜５０％のＣａＯ、２〜１５％のＬｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは希土類元素およびそれらの混合物からなる群から選択される）、０〜６％のＭ’_２Ｏ（Ｍ’はアルカリ元素からなる群から選択される）ならびに０〜１０％のＡｌ_２Ｏ_３からなるガラス組成物であって、但し、その組成物は水系で粉砕可能である。 （もっと読む）

Ａｌ_２Ｏ_３少なくとも３５重量パーセント及び３マイクロメートル未満の平均セルサイズを有する複数のセルを含むセラミック材料及び物品。
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【課題】 赤外線照射加熱効率の高い情報記録媒体用基板、この基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラスまたは結晶化ガラスからなり、（１）２７５０〜３７００ｎｍの波長域に分光透過率が５０％以下となる領域が存在する、（２）波長２７５０〜３７００ｎｍにわたり、分光透過率が７０％以下となる、（３）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、垂直磁気記録媒体用に供される、（４）赤外線照射加熱用に供され、２００ｐｐｍ超の水分を含む、あるいは（５）特定の金属酸化物からなる赤外線吸収剤を含み、赤外線照射加熱後にスパッタリングによって形成される情報記録層を含む多層膜の支持用に供されることを特徴とする情報記録媒体用基板、および前記基板上に情報記録層を含む多層膜を設けてなる情報記録媒体、並びに情報記録媒体の製造方法である。 （もっと読む）