この発明は、屈折率が少なくとも１．５５で、以下の重量％をもつ、５０％以上のＳｉＯ_２、０．６％以上４％以下のＢ_２Ｏ_３、３％以下のＫ_２Ｏ、１２％以上１５％以下のＮａ_２Ｏ、４％以上１１％以下のＣａＯ、４．５％以上のＺｎＯ、０．２５％以上５％以下のＡｌ_２Ｏ_３、５％以下のＴｉＯ_２、並びに２％以下のＭｇＯ、特に６０％以下のＳｉＯ_２および８−１６％のＺｎＯを含み、Ｐｂ、Ｂａ、Ａｓの各酸化物の全量が０．１％未満、Ｔｉ、Ｌａの各酸化物の全量が５％未満、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙｂ、Ｙ、Ｗ、Ｂｉ、Ｚｒの各酸化物の全量が５％未満で、さらにＮｂ、Ｔａ、Ｙｂの各酸化物が多くとも１％、Ｙ、Ｗ、Ｂｉ、Ｚｒの各酸化物が多くとも３％であることを特徴とする、鉛およびバリウムを含まないクリスタルガラスに関する。 （もっと読む）

第一のランタノイド、好ましくは、Ｔｍ（ツリウム）をドーパントとして、別の酸化ランタノイド、例えば、Ｈｏ（ホルミウム）を共添加物として添加したテルライトガラス組成物を提供する。このガラスは、４乃至１２モル％のアルカリハロゲン化物ＸＹを含み、このＸは、Ｌｉ（リチウム），Ｎａ(ナトリウム)，Ｋ(カリウム)，Ｒｂ（ルビジウム），Ｃｓ(セシウム)，Ｆｒ（フランシウム）の元素グループから選択され、このＹは、Ｆ(フッ素)，Ｃｌ(塩素)、Ｂｒ(臭素)，Ｉ(ヨウ素)の元素グループから選択される。このガラスが、１０モル％のアルカリハロゲン化物であるＣｓＣｌ(塩化セシウム)を含有していることが好ましい。アルカリハロゲン化物ＸＹを添加することで、第一のランタノイドイオンから第二のランタノイドイオンへのエネルギー遷移を強化することができ、その結果として、第一のランタノイドイオンのエネルギー下準位に反転分布が形成される。第一のランタノイドイオンのエネルギー上準位寿命と下準位寿命との間の比率を１以下の値に下げる。結果として、効率的な増幅ファイバが実現できることになる。
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本発明は放射性および／または有害廃棄物、１つ以上の放射性核種、有害元素、有害化合物および／または他の化合物を含有する廃棄物を、ホウケイ酸ガラスに固定化する方法を提供する。また、本発明は放射性および／または有害廃棄物を固定化するのに使用するホウケイ酸ガラス組成物を提供する。 （もっと読む）

本発明は、ガラスの比重よりも高い比重を有する溶融金属のバス上で、少なくとも30重量％の酸化鉛を含むガラスを得るために、中性のガス雰囲気のフロートガラス設備において実施される連続フロートガラスプロセスにより、酸化鉛を多く含むフラットガラスを製造する方法に関する。本発明により、Ｘ線に対する保護のために有用な、酸化鉛を多く含むフラットガラスの製造が可能である。
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本発明は紫外線を吸収するソーダ−ライム−シリケート系タイプの透明ガラス組成物に関係するものであり、この組成物は以下の重量制限範囲内で含有率が変化する光吸収剤を含む。
Ｆｅ₂Ｏ₃（鉄総量） ０．０１〜０．１５％
Ｖ₂Ｏ₅（バナジウム総量） ０．１１〜０．４０％
ＭｎＯ（マンガン総量） ０．０５〜０．４０％
そして、厚さ３ｍｍの場合、紫外線透過率が４０％、かつ色度座標（ａ＊，ｂ＊）が−３から３の間を超えない。
これはまた前述の組成物から得られるガラス製中空容器または平面製品にも関係する。
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Ａｌ_２Ｏ_３と、ＲＥＯと、ＺｒＯ_２またはＨｆＯ_２の少なくとも１種と、Ｎｂ_２Ｏ_５またはＴａ_２Ｏ_５の少なくとも１種とを含む、ガラス−セラミックスを製造するための方法である。本発明によるガラス−セラミックスは、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子、および薄層コーティングに、製造し、形成させ、または変換させることができる。本発明によるガラス−セラミック粒子のいくつかの実施態様は、研磨粒子として特に有用である。

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【課題】従来と比較して高度な抗菌作用を特徴とする非水溶性ガラス粉末、特にケイ酸塩ガラス、ガラスセラミック粉末及びそのような粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】ケイ酸塩ガラス粉末が酸化物基準の重量％で示した次の組成：ＳｉＯ_２ ２０〜８０、Ｎａ_２Ｏ ５〜３０、Ｋ_２Ｏ ０〜５、Ｐ_２Ｏ_５ ０〜１５、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１０、ＣａＯ ４〜３０、ＭｇＯ ０〜８、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜７、Ｆｅ_２Ｏ_３ ０〜２と、常用の清澄剤の通常量を有するガラス粒子と、を有する非水溶性ケイ酸塩ガラス粉末に関する。本発明は、前記ガラス粒子が次の成分ＺｎＯ、ＡｇＯ、ＣｕＯ、ＣｅＯ_２、ＧｅＯ_２、ＴｅＯ_２の少なくとも１つを含有し、その際、前記成分は前記ガラス粒子の表面付近の領域に高濃度化されていることを特徴とする。 （もっと読む）

約０μｍから約２μｍの深さにおける金属イオン濃度、特にＡｇ濃度が０．６質量％、好ましくは０．８質量％、最も好ましくは１質量％よりも高い抗菌面を有する製品に関する発明が開示されている。 （もっと読む）

【課題】 高純度でシラノール基含量の極めて少ない合成石英ガラスを、効率よく得ることのできる石英ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 シリカを加熱し、第１加熱段階として１５０℃〜４００℃の温度範囲に３時間以上保持した後、第２加熱段階として１１００℃〜１３００℃の温度範囲に１時間以上保持する。 （もっと読む）