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Fターム[4G062PP16]の内容

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Fターム[4G062PP16]に分類される特許

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【課題】蛍光表示装置(VFD)、電界放射型ディスプレイ(FED)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、陰極線管(CRT)等の表示装置の封着等に用いることができるガラスおよびこれを用いた粉末材料を提供する。
【解決手段】下記酸化物換算のモル%表示で、ガラス組成として、V25 10〜60%、P25 5〜40%、Bi23 1〜30%、ZnO 0〜40%、TeO2 0〜40%、R2O 0〜20%(RはLi、Na、K、Cs)、R’O 0〜30%(R’はMg、Ca、Sr、Ba)を含有するバナジウムリン酸系ガラスを用いた粉末材料であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】焼成収縮率が低いにもかかわらず、焼成後に高い機械的強度を維持することのできる無機材料組成物、無機膜およびプラズマディスプレイパネル用隔壁部材を提供すること。
【解決手段】(A)無機粉末、(B)バインダー樹脂および(C)溶剤を含有し、前記(A)無機粉末は、ガラス粉末と前記ガラス粉末より軟化温度の高いフィラー粉末とを含み、前記ガラス粉末は、粒子径1.0μm以下である粒子の割合が40〜70質量%であり、かつ前記ガラス粉末を35〜65質量%およびフィラー粉末を35〜65質量%含有することを特徴とする無機材料組成物。該組成物を400℃以上の温度で焼成して得られる無機膜。該無機膜を含むプラズマディスプレイパネル用隔壁部材。 (もっと読む)


【課題】有機溶媒を使用せず、炭素残留物が少なく、高耐電圧なシールガラスペースト材料を得る。
【解決手段】本発明のシールガラスペーストは、少なくとも1種類のシールガラスフリット粉末と水溶液系のバインダーを有し、前記水溶液系のバインダーが、高分子材料の水溶液、分散液もしくは乳濁液と、水溶性の酸化剤を有しており、前記水溶性の酸化剤が475℃以下の温度で分解し、前記高分子材料が475℃以下の温度で燃焼もしくは分解し、その残留物の量が前記酸化剤の存在下バインダー固形分の総重量の2%以下となる。このシールガラスペーストは、陰極線管の組み立てにおいて使用できる。また、この水溶液系のバインダーを用いて、PbOを含むガラスと共にシールガラスペーストを調製することができる。 (もっと読む)


【課題】 低融点無鉛のガラス組成物であって、PDP等のFPDの背面基板に形成される誘電体層及び隔壁の形成素材として有用なガラス組成物を提供する。
【解決手段】 無鉛低融点ガラス組成物であって、その組成が重量%で、P2O5 5%以上〜20%未満、Al2O35〜15%、B2O3 15〜25%、SiO2 0〜10%、ZnO 10〜40%、MgO、CaO、SrO及びBaOからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜40%、Li2O、Na2O及びK2Oからなる群から選ばれる少なくとも1種0〜5%、F2 0〜3%、La2O30〜5%及びV2O5 0〜5%であることを特徴とするP2O5-ZnO-B2O3系低融点ガラス組成物。 (もっと読む)


【課題】 プラズマディスプレイパネル、蛍光表示管、あるいはフィールドエミッションディスプレイの誘電体又は隔壁形成に用いられ、有害物を含有せず環境負荷が小さいガラス組成物、およびこのガラス組成物を用いることで基板の反りを大幅に低減させることができるガラスペースト組成物を提供する。
【解決手段】 Pb、及びBiを実質的に含有せずにガラス転移点が430℃〜540℃であるガラス組成物であって、酸化物換算で、SiOを1〜15mol%、Bを10〜50mol%、ZnOを30〜50mol%、アルカリ金属の酸化物:RO(式中、Rは、K、Na又はLiから選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属元素を示す)を0〜12mol%、及びBaOを3〜20mol%含むことを特徴とするガラス組成物によって提供。 (もっと読む)


【課題】PbフリーかつTCRやSTOLを広範な組成において確実に小さな値とすることが可能な高抵抗厚膜抵抗体を実現する。
【解決手段】下記の組成を有することを特徴とする厚膜抵抗体用ガラス組成物である。ガラス組成物は、導電性材料および有機ビヒクルと混合されて厚膜抵抗体用ペーストとされ、これをたとえば印刷して焼き付けることで、厚膜抵抗体とされる。
CaO、SrO、BaOから選択される1種若しくは2種以上:13モル%〜45モル%、
:0〜40モル%(ただし、0は含まず)、
SiO:17モル%〜72モル%(ただし、72モル%は含まず)、
ZrO:0〜10モル%(ただし、0は含まず)、
Ta、Nbから選択される1種若しくは2種以上:0〜10モル%(ただし、0は含まず)。 (もっと読む)


【課題】 環境汚染を防ぐために、絶縁層を形成するガラス組成物中にPbOを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】
ガラス組成がSiO2 :16〜32mol%、Al23 :4〜8mol%、B23 :20〜35mol%、Li2 O+Na2 O+K2 Oの2種以上を含み合計が8〜14mol%、MgO+CaO+BaO+SrOの合計が3〜16mol%、ZnO:6〜33mol%、Cu2 O:0.01〜3mol%、Ag2 O:0.01〜1mol%、前記B23 とZnOの組成比が、ZnO/B23 =0.27〜1.3、を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、平均粒径1〜5μmで、最大粒径が20μm以下に粒度調整されたガラスフリットであり、ガラス転移点が500℃以下、平均線膨張係数が65〜80×10−7 /℃、耐水減量値0.1mg/cm2 以下で耐水性に優れたもので絶縁層を形成するための無鉛硼珪酸塩ガラスフリットである。 (もっと読む)


【課題】 高温高湿環境下における絶縁抵抗劣化の発生を抑制することが可能な導電性ペースト、電子部品、及び電子機器を提供すること。
【解決手段】 一対の端子電極11,13は、第1の電極層11a,13a、第2の電極層11b,13b、及び、第3の電極層11c,13cをそれぞれ有している。第1の電極層11a,13aは、コンデンサ素体3の外表面に形成されており、且つ導電性ペーストの焼付により形成されている。第2の電極層11b,13bは、第1の電極層11a,13a上に電気めっきにより形成されている。第3の電極層11c,13cは、第2の電極層11b,13b上に電気めっきにより形成されている。導電性ペーストは、金属粉末と、ガラスフリットと、有機ビヒクルと、ZnOとを含み、当該ZnOの添加量は金属粉末に対して5wt%以上15wt%以下に設定されている。 (もっと読む)


【課題】 半田食われが少なく、かつ、鉛を含有しない厚膜導体形成用組成物を提供する。
【解決手段】 導電粉末と、酸化物粉末と、有機ビヒクルとからなり、該酸化物粉末が、SiO2−B23−Al23−CaO−Li2O系ガラス粉末と、Al23粉末とを含む厚膜導体形成用組成物を用いる。SiO2−B23−Al23−CaO−Li2O系ガラス粉末の組成比は、SiO2:20〜60質量%、B23:2〜25質量%、Al23:2〜25質量%、CaO:20〜50質量%、およびLi2O:0.1〜10質量%であり、導電粉末100質量部に対し、SiO2−B23−Al23−CaO−Li2O系ガラス粉末が0.1〜15質量部、Al23粉末が0.1〜8質量部である。 (もっと読む)


【課題】 従来から使用されている非鉛系ガラス粉末よりも高い誘電率を有し、しかも、ガラス基板に適合する熱膨張係数を有し、500〜600℃で焼成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、ZnO−B23−K2O系非鉛ガラスに、Nb25+La23+WO3 1〜30質量%を含有してなるガラス粉末からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 Pbフリーで、TCRやSTOLに優れ、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を実現する。
【解決手段】 実質的に鉛を含まない導電性材料とガラス組成物と添加物とを含み、これらが有機ビヒクル中に分散されてなる抵抗体ペーストである。添加物として、アルカリ土類金属元素Aとチタンとを含みチタンの一部が置換元素Mによって置換された複合酸化物を含有する。置換元素Mは、Zr、Hfのうちの少なくとも1種類である。したがって、この複合酸化物は、一般式A(Ti1−x)O(ただし、Aは少なくとも1種類のアルカリ土類金属元素、Mは置換元素であり、0<x<1である。)で表すことができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】重量%でSiOを2〜18、Bを25〜55、ZnOを10〜45、RO(LiO+NaO+KO)を20.1〜35、CuOを0.1〜2含み、MnOを0〜2、RO(MgO+CaO+SrO+BaO)を0〜10含み、更にCo又はMnを酸化物として0〜2含むことを特徴とするSiO−B−ZnO−RO−CuO系無鉛低融点ガラスである。30℃〜300℃における熱膨張係数が(95.1〜120)×10−7/℃、軟化点が450℃以上600℃以下である特徴を有す。 (もっと読む)


【課題】プラズマディスプレイパネル(PDP)およびPDP等の緻密な隔壁を形成でき、PbOおよびFのいずれも含有しないガラスの提供を目的とする。
【解決手段】モル%で、SiO 24〜50%、B 13〜23%、ZnO 10〜32%、LiO 3〜20%、NaO 1〜9%、Al 1〜15%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、Bi 0〜9%、からなり、[(B+ZnO)−Al]≧24%であり、ZrOを含有する場合その含有量は2%以下であり、かつ、PbOおよびFのいずれも含有しない隔壁形成用ガラス。Biを含有しない前記ガラス。軟化点が615℃以下である前記ガラス。これらガラスを用いて形成された隔壁を有するPDP。 (もっと読む)


【課題】 PbO及びBiを原料として配合せず、安価で環境負荷が低減し、耐酸性及び耐アルカリ性に優れ、脱離ガス量の低減した被覆用組成物、混合体、ペースト、及び該ペーストからなる被覆層を有する電子部品を提供する。
【解決手段】 酸化リンの配合量が30〜45モル%、酸化亜鉛の配合量が45〜60モル%、及び酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、並びに酸化バリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種以上のアルカリ土類金属酸化物の配合量が5〜15モル%であるガラス組成物に、セラミックが添加されてなることを特徴とする被覆用組成物を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、被封着物と整合する熱膨張係数を有するとともに、優れた流動性を有し、気密封着できる封着ガラスに用いるフィラー粉末と、それに封着ガラス粉末を混合した封着用粉末およびペーストを提供するものである。
【解決手段】本発明のフィラー粉末は、コーディエライト、ウイレマイト、アルミナ、ジルコン、酸化錫、β−ユークリプタイト、KZr2(PO43、NbZr(PO43、Na0.5Nb0.5Zr1.5(PO43、K0.5Nb0.5Zr1.5(PO43、Ca0.5Zr2(PO43およびWO4Zr2(PO42からなる群等より選ばれた1種または2種以上のセラミックフィラー粉末が、耐火性微粉によって被覆されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 PbO及びBiを原料として配合しない、安価で環境負荷の低減した、メッキ液に対する耐食性に優れたガラス組成物、該ガラス組成物を含む混合体及びペースト、該ペーストからなるガラス被覆層を有する電子部品を提供。
【解決手段】 酸化リンの配合量が30〜45モル%、酸化亜鉛の配合量が45〜60モル%、及び酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、並びに酸化バリウムからなる群より選ばれる少なくとも1種以上のアルカリ土類金属酸化物の配合量が5〜15モル%のガラス組成物である。 (もっと読む)


【課題】封着温度以上で仮焼成しても結晶化することなく封着が可能であり、かつ白金や白金−ロジウム等の材質で長期間安定してガラスが熔解できるビスマス系ガラスおよびこのガラスからなる封着用組成物ならびに封着用ペーストを提供することを目的とする。
【解決手段】 実質的にPbOを含有せず、封着温度以上で仮焼成しても結晶化することなく封着が可能な低融点ガラスおよび封着用組成物ならびに封着用ペーストである。 (もっと読む)


【課題】基板上パターンの物性を簡便に予測する手段を提供する。また、プラズマディスプレイの隔壁焼成条件を簡便に決定する方法を提供する。
【解決手段】上記課題は、無機成分を含む成型物を焼成してモデル焼成物を作製し、同条件で焼成を行った基板上パターンの物性とモデル焼成物のかさ密度を予め関連付けた上で、特定の焼成条件で得られるモデル焼成物のかさ密度から同条件で焼成を行った際の基板上パターンの物性を予測することにより、また、プラズマディスプレイ基板に設ける隔壁の無機成分を含有する成型物を焼成してモデル焼成物を作製し、焼成温度、時間を変更してモデル焼成物のかさ密度が理論密度の89〜98%となるように焼成条件を決定することによって解決することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ガラス基板と整合する熱膨張係数を有するとともに、流動性に優れ気密封着することのできるPDP封着用粉末およびそれを用いてなるPDP封着用ペーストを提供するものである。
【解決手段】本発明のPDP封着用粉末は、SnO−P25系ガラス粉末とフィラー粉末からなり、フィラー粉末としてKZr2(PO43を使用することを特徴とし、本発明のPDP封着用ペーストは、SnO−P25系ガラス粉末とフィラー粉末からなり、フィラー粉末としてKZr2(PO43を使用してなるPDP封着用粉末とビークルとを混練してなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 例えば1MΩ/□以上の超高抵抗値を有し、抵抗値のばらつきを抑え、且つTCR特性及びSTOL特性を良好なものとすることができる抵抗体ペーストを提供する。
【解決手段】 希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物を含有する。前記希土類元素と、Ca、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種との複合酸化物は、R(2−x)(x)Ru(Rは元素番号57〜71の希土類元素から選ばれる少なくとも1種であり、AはCa、Sr、Ba、Mg、Cu、Ni、Coから選ばれる少なくとも1種である。また、0<x≦1.0である。)で表される。前記Rは、Nd、Sm、Gd、Dy、Er、Luから選ばれる少なくとも1種類である。 (もっと読む)


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