Fターム[4G062PP16]の内容
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Fターム[4G062PP16]に分類される特許
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイ装置
【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとし、かつその透明性を高くし、銀発色を抑制する。
【解決手段】モル%で、B2O3 25〜45%、SiO2 13〜40%、Li2O+Na2O+K2O 7〜20%、ZnO 0〜30%、CuO+CeO2+CoO 0〜5%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜12%、から本質的になり、PbOおよびAl2O3のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。表示面として使用される前面基板、背面基板および隔壁によりセルが区画形成されており、前面基板を構成するガラス基板上の透明電極が前記電極被覆用ガラスにより被覆されているプラズマディスプレイ装置。
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低融性無鉛ガラス材
【課題】低融点ガラス組成物として、無鉛系であって、低い温度で封着や焼結造形等の加工を行え、鉛系ガラスに代替し得る充分な実用的性能を具備するものを提供する。
【解決手段】Li2 B4 O7 と、ZnO及びBaOの少なくとも一方とからなる酸化物を主成分とする低融性無鉛ガラス材。
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抵抗体ペースト、抵抗体、及び前記抵抗体を用いた回路基板
【課題】 特に、抵抗値のばらつきが小さく、温度係数の小さい抵抗体を形成するための抵抗体ペースト、及び前記抵抗体ペーストを用いて形成された抵抗体、ならびに、前記抵抗体を用いて形成された回路基板を提供することを目的としている。
【解決手段】 本実施形態における抵抗体ペーストは、鉛を含有しないガラス組成物と、RuO2と、Ru2Nd2O7と、有機ビヒクルとを有する。Ru2Nd2O7の合成温度は、1100℃〜1300℃程度と高温であるため、前記抵抗体ペーストを焼成する温度で分解されることはなく、抵抗値のばらつきが小さい抵抗体を形成することが可能になる。また、Ru2Nd2O7の温度係数は負であり、RuO2の温度係数は正であり、これらの混合により、抵抗体の温度係数の絶対値を適切に且つ簡単に小さくすることが可能である。
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オーバーコート用ガラスペースト及び厚膜抵抗素子
【課題】鉛を実質的に含まず、低温、特に700℃以下の温度で焼成可能な、気密性及び化学的耐久性、特に耐酸性が優れたオーバーコート用ガラスペーストであって、厚膜抵抗素子のプリコートガラスとして用いたときには、抵抗体の安定性を損なうことなくレーザートリミングを容易に行うことができるオーバーコート用ガラスペーストを提供する。
【解決手段】低融点ガラス粉末と有機ビヒクルとを含むガラスペーストであって、前記低融点ガラスが、実質的にPbを含有せず、酸化物換算のモル%表示で、SiO2 20〜50%、Al2O3 0.5〜10%、BaO及びSrOからなる群から選択された少なくとも1種を5〜35%、ZnO 5〜35%、TiO2 1〜10%、Li2O、Na2O及びK2Oからなる群から選択された少なくとも1種を1〜13%、B2O3 0〜20%、及びWO3及びMoO3からなる群から選択された少なくとも1種を0〜5%で含有することを特徴とするオーバーコート用ガラスペースト。
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プラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】エネルギー効率が良好で、温度分布が生じ難く、誘電体前駆層を均一に焼成することが可能なプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板2と、該ガラス基板2上に配設された誘電体層とを備えるプラズマディスプレイパネルの製造方法において、(i)前記ガラス基板2上にガラスフリット及び有機樹脂バインダーを含む誘電体前駆層1を形成する工程と、(ii)前記ガラス基板上に形成された前記誘電体前駆層に300MHz〜300GHzのマイクロ波を照射して、該誘電体前駆層から誘電体層を生成させる工程とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
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ビスマス系無鉛ガラス組成物
【課題】600℃以下の軟化点を有し、優れた光透過性を有するPDPの誘電体層用ガラスの形成などに好適な無鉛ガラス組成物を提供することにある。
【解決手段】酸化物換算の質量%でBi2O3:25〜45%、BaO:5〜20%含有され、且つ前記Bi2O3と前記BaOとはBaO/Bi2O3の質量比の値が0.2〜0.7となる割合で含有されており、さらにSiO2:1〜10%、B2O3:10〜35%、ZnO:21〜35%、Al2O3:0〜5%、MgO、CaO、SrOの合計:0〜20%含有されてなることを特徴とするビスマス系無鉛ガラス組成物を提供する。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイパネル
【課題】PbOを含有せずBi2O3を含有する電極被覆用ガラスであって銀電極を被覆したときに銀発色等を抑制できるガラスの提供。
【解決手段】Bi2O3を含有しPbOを含有しない電極被覆用ガラスであって、CeO2およびMnO2を含有する電極被覆用ガラス。モル%表示で、B2O3 25〜60%、SiO2 0〜18%、ZnO 0〜60%、MgO+CaO+SrO+BaO 7〜18%、Bi2O3 3〜15%、Al2O3 0〜10%、CeO2 0.05〜0.2%、MnO2 0.05〜0.2%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス。
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低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】 重量%でSiO2を0〜6、B2O3を20〜40、ZnOを0〜15、PbOを18〜35、BaOを17〜37、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1かつ(CuO+La2O3+CeO2+CoO+MnO2)を0.1〜3含むことを特徴とするSiO2−B2O3−ZnO−BaO−PbO系低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が480℃以上580℃以下である特徴を有す。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイパネル
【課題】PbOを含有しないガラスであって焼成ガラス層の透過率を高くできる電極被覆用ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、B2O3 25〜32%、SiO2 0〜13%、ZnO 35〜60%(35%を除く)、BaO 7〜16%、Bi2O3 3〜7%、Al2O3 0〜5%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス。質量百分率表示で、B2O3 14〜22%、SiO2 0〜7%、ZnO 25〜50%(25%を除く)、BaO 10〜24%、Bi2O3 13〜30%、Al2O3 0〜5%、から本質的になり、PbOを含有しない電極被覆用ガラス。
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酸化物ガラスおよびこれを用いたディスプレイパネル
【課題】ディスプレイパネル等に好適に採用できる酸化物ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスは、含まれる元素のうち、酸素を除く他の元素の比率で表して、Bが55原子%以上85原子%以下、Siが0原子%以上15原子%以下、Znが0原子%以上15原子%以下、Kが0原子%以上10原子%以下、Naが0原子%以上10原子%以下、Biが1原子%以上10原子%以下、SiおよびZnの合計が5原子%以上30原子%以下、KおよびNaの合計が1原子%以上10原子%以下、K、NaおよびBiの合計が8原子%以上15原子%以下である。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイパネル
【課題】PbOを含有しないB2O3−SiO2−ZnO−BaO−Bi2O3系ガラスであって焼成ガラス層の透過率を高くできる電極被覆用ガラスの提供。
【解決手段】モル%表示で、B2O3 28〜32%、SiO2 13〜17%、ZnO 29〜35%、BaO 10〜14%、Bi2O3 7〜10%、Al2O3 0〜5%、から本質的になりPbOを含有しない電極被覆用ガラス。質量百分率表示で、B2O3 14〜20%、SiO2 6〜9%、ZnO 20〜25%、BaO 10〜19%、Bi2O3 30〜38%、Al2O3 0〜5%、から本質的になり、ZnO−(SiO2+Al2O3)が9.5%以上であり、PbOを含有しない電極被覆用ガラス。
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プラズマディスプレイパネル用誘電体材料
【課題】 ZnO−B2O3−R2O系非鉛ガラスにおいて、Nb2O5、La2O3及びWO3を添加しなくても、誘電率が高く、しかも、ガラス基板に適合する熱膨張係数を有し、600℃以下の温度で焼成することができ、透明性に優れた誘電体層を形成することが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、ZnO−B2O3−R2O系ガラス粉末を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体材料において、該ガラス粉末が、実質的にPbO、Nb2O5、La2O3及びWO3を含有せず、BaOを6質量%以上含有し、(BaO+ZnO)/B2O3の値が、質量比で2.50〜8.00であるガラスからなることを特徴とする。
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酸化物ガラスおよびこれを用いたディスプレイパネル
【課題】 Pbおよびアルカリ金属のいずれも含有しないにも関わらず、それらを含有するガラスと比較しても遜色ない特性を持った酸化物ガラスを提供する。
【解決手段】 本発明の酸化物ガラスは、実質的に、Pbおよびアルカリ金属を含有せず、Ba、SrおよびCaからなるアルカリ土類金属群より選ばれる少なくとも1種と、Znと、Bとを含有し、全ての構成元素から酸素を除いた元素群のうち、網目形成酸化物を構成する元素の含有率の合計がX 原子%、それ以外の元素の含有率の合計がY 原子%であるとき、次式を満足する。
1.02≦Y/X≦1.20
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低融点ガラス
【課題】プラズマディスプレイパネルに代表される電子材料基板開発で、銀反応による黄変が抑制され、かつ可視光透過率の高い低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】 重量%でSiO2を0〜5、B2O3を17〜28、ZnOを20〜30、PbOを1〜20、BaOを13〜22、RO(MgO+CaO+SrO)を0〜10、Al2O3を0〜8、Bi2O3を5〜38、CuOを0〜2、La2O3を0〜3、CeO2を0〜2、CoOを0〜1、MnO2を0〜1かつ(CuO+La2O3+CeO2+CoO+MnO2)を0.1〜3含むことを特徴とするB2O3−ZnO−BaO−PbO−Bi2O3低融点ガラス。30℃〜300℃における熱膨張係数が(65〜95)×10−7/℃、軟化点が480℃以上580℃以下である特徴を有す。
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雰囲気制御に使用するための事前水和された乾燥剤を含む厚膜ゲッターペースト組成物
【課題】通常の温/湿度環境下における安定性を有する乾燥剤を含み、およびレオロジー的挙動安定性を有するスクリーン印刷可能なゲッター組成物の提供。
【解決手段】(a)ガラスフリット、(b)事前水和された乾燥剤、および(c)有機媒体を含み、(a)および(b)が(c)に分散されたゲッター組成物。ガラスフリットは、1〜50%のSiO2、0〜80%のB2O3、0〜90%のBi2O3、0〜90%のPbO、0〜90%のP2O5、0〜60%のLi2O、0〜30%のAl2O3、0〜10%のK2O、0〜10%のNa2O、および0〜30%のMO(MはBa、Sr、Ca、Zn、Cu、Mgおよびそれらの混合物から選択される)を含む低軟化温度ガラスであってもよい。
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アルミニウム厚膜組成物、電極、半導体デバイスおよびそれらを作製する方法
【課題】鉛を含むことなしに、優れた電気性能を提供する導電体組成物の提供。
【解決手段】(a)アルミニウム含有粉末と;(b)少なくとも1つのガラスフリット組成物と;(c)有機媒質とを含み、成分(a)および(b)が成分(c)中に分散され、ガラスフリット組成物(b)は焼成時に再結晶プロセスを受けてガラスおよび結晶相の両方を遊離させ、再結晶プロセスにおいて発生するガラス相はガラスフリット組成物(b)の当初軟化点よりも低い軟化点を有するガラスを含むことを特徴とする厚膜導電体組成物。この厚膜導電体組成物は、太陽電池の裏面電極を形成することにおいて有用である。
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混合分散剤を含むペースト組成物及びそれを採用した表示素子
【課題】混合分散剤を含むペースト組成物及びそれを採用した表示素子を提供する。
【解決手段】親水部が酸性作用基を含む分散剤、親水部が塩基性作用基を含む分散剤、無機粒子、及び有機溶媒を含むペースト組成物である。これにより、分散性に優れて粘度が低い、ペースト組成物を使用して製造された表示素子は、充填密度などの改善が可能である。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイ装置
【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛、ビスマスを含有しないものとする。
【解決手段】モル%表示で、P2O5 30〜60%、ZnO 35〜50%、Li2O+Na2O+K2O 1〜10%、BaO 0〜5%、Al2O3 0〜10%、SiO2 0〜10%、B2O3 0〜10%、から本質的になり、PbOおよびBi2O3のいずれも含有しない電極被覆用ガラス。前面基板または背面基板に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているプラズマディスプレイ装置。
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電極被覆用ガラスおよびプラズマディスプレイ装置
【課題】プラズマディスプレイ装置の前面基板等の電極被覆ガラス層を鉛を含有しないものとする。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、B2O3 15〜65%、SiO2 2〜30%、MgO+CaO+SrO+BaO 5〜45%、Li2O+Na2O+K2O 2〜25%、Al2O3 0〜30%、Bi2O3 0.1〜15%、P2O5 0〜15%、から本質的になり、ZnOを含有する場合その含有量が5モル%未満であり、PbOを含有しない電極被覆用ガラス。前面基板または背面基板に形成された電極が前記電極被覆用ガラスによって被覆されているプラズマディスプレイ装置。
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ガラス、導電性接合材料、およびこの導電性接合材料を用いて接合されたスペーサを備えた画像表示装置
【課題】 画像表示装置の表示パネルにおけるスペーサを固定するためのPbフリーの導電性接合材のための導電性ガラス組成物を提供する。
【解決手段】 MVxOy(M:Ag,Cu,Cr,Li,Sr,Ca)、(x:1〜10,y:2〜30)を含有する。MVxOyとして、例えば、AgV7O18またはAg2V4O11を用いる。
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