本発明は、様々なフッ化原料と非晶質シリカ（ＳｉＯ_２）及び硫酸を用いたテトラフルオロシラン（ＳｉＦ_４）の連続式製造方法に関する。本発明によれば、テトラフルオロシランの収率を高めることができ、低コストで環境に優しくテトラフルオロシランを連続製造できる。さらに、反応時に発生するフッ化水素の量を最小化し、装置の腐食を最小化することができ、ＳｉＦ_４と水の混合ガスである反応生成物を、高温でＨ_２ＳＯ_４スクラバーに通過させ、水を除去し、凝結された水とＳｉＦ_４の副反応によるシリカゲル及びヘキサフルオロケイ酸の発生を防止し得ることによって、配管の目詰まりやＳｉＦ_４の収率低下を防止することができる。 （もっと読む）

本発明は、アルカリ金属又はアルカリ土類金属とアルミニウムとのフッ化物塩の蒸解により四フッ化ケイ素を生成するための方法、任意にはケイ素源存在下で、四フッ化ケイ素を生成するためのシラン生成物の副産物の酸蒸解を含んで成るシラン生成方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種の無機シラン及び少なくとも１種の異種金属及び／又は異種金属を含有する化合物を含有する組成物を、前記組成物を少なくとも１種の有機アミノ官能化ポリマー吸着剤と接触させ、かつ異種金属及び／又は異種金属を含有する化合物の含量が低下されている組成物を取得することにより、処理する方法、並びに無機シランの組成物中の異種金属及び／又は異種金属を含有する化合物の含量の減少のための吸着剤の使用に関する。 （もっと読む）

アルカリ金属又はアルカリ土類金属のフルオロシリケートを流動層反応炉において熱分解することにより四フッ化ケイ素を調製するためのプロセス及びシステム。分解反応において発生する四フッ化ケイ素の一部を反応炉に循環させ流動化ガスとして使用して上記フルオロシリケート材料を分散させる。上記分解反応において発生したアルカリ金属又はアルカリ土類金属のフッ化物残渣を上記反応炉から排出し、フルオロケイ酸と反応させてアルカリ金属又はアルカリ土類金属のフルオロシリケートを生成させる。当該フルオロシリケートを、四フッ化ケイ素をさらに発生させるため上記反応炉に導入する。
（もっと読む）

【課題】ＢＦ３、ＳｉＦ４、ＧｅＦ４、ＰＦ５又はＡｓＦ５等のフッ化物ガスを、簡便かつ製造コストを低減して製造することが可能なフッ化物ガスの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のフッ化物ガスの製造方法は、フッ素原子との多原子イオンの形成が可能な原子を含む化合物を、フッ化水素溶液に添加することにより、当該多原子イオンをフッ化水素溶液中に生成させて、前記フッ素原子と、当該フッ素原子との多原子イオンの形成が可能な前記原子とで構成されるフッ化物ガスを発生させることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、四フッ化ケイ素原料ガスを１つ以上の精製工程にさらすことにより、四フッ化ケイ素原料ガスを精製する方法であって、精製工程が、四フッ化ケイ素原料ガスをイオン交換樹脂に接触させて酸性の汚染物質を除去する工程と、吸収液体を用いた二酸化炭素の除去と低温蒸留による不活性化合物の除去とにより、四フッ化ケイ素原料ガスを触媒に接触させて一酸化炭素を除去する工程と、を含む精製方法と、四フッ化ケイ素原料ガスから一酸化炭素を除去するのに適した触媒と、そのような触媒を製造する方法とに関する。
（もっと読む）

本発明は、四フッ化ケイ素と塩化水素とを含むガス流の処理方法に関する。例えば、本発明は、そのようなガス流を処理するために、塩化水素と反応する金属にガス流を接触させて、塩化水素の含有量の減少した処理済みのガス流を提供することを含むガス流の処理方法に関する。本発明はさらに、四フッ化ケイ素及び塩化水素を含有するガス流に高圧をかけて、輸送に適したガス流を提供する方法に関する。
（もっと読む）

本発明は、冶金学および／または化学に関し、特に、気体状四フッ化ケイ素、および気体状四フッ化ケイ素から多結晶シリコンを製造するための方法および設備に関する。ケイフッ化水素酸溶液から四フッ化ケイ素を製造する方法は、酸抽出物の発生、抽出物洗浄、抽出物乾燥および抽出物分解、および分離されていない気体状四フッ化ケイ素およびフッ化水素流を二酸化ケイ素を通してバブリングすることを含む。シリコン製造方法は、気体状四フッ化ケイ素をマグネシウム蒸気と相互作用させ、続いて最終製品を分離することを含む。本発明により、高純度のシリコンを製造すること、最終製品の収率を増加させること、製造の環境保全性を改良すること、シリコンの製造方法を簡素化すること、および最終製品の素原価を下げることができる。
（もっと読む）

【課題】 同位体交換反応法に於いてより簡便で安定した系を採用することにより、シリコンの同位体濃縮を低コストで大量に行うことが可能な同位体濃縮方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る同位体濃縮方法は、Ｈ_２Ｏ−Ｈ_２ＳｉＦ_６・ｎＳｉＦ_４（式中、ｎ≧０である。）の２成分を少なくとも含む水溶液と、前記ＳｉＦ_４を含む気体との間での同位体交換により、前記Ｓｉの安定同位体を濃縮することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 四フッ化ケイ素を製造する際の製造コストの低減、及び廃棄物量の低減が可能な四フッ化ケイ素の製造方法、及びそれに用いる製造装置を提供する。
【解決手段】 二酸化ケイ素を含む原料１と、フッ化水素酸及びケイフッ化水素酸を含む混合液とを反応させることにより、高シリカフルオロケイ酸水溶液を生成する高シリカフルオロケイ酸生成工程（ａ）と、前記高シリカフルオロケイ酸水溶液と硫酸とを反応させることにより、四フッ化ケイ素を生成する四フッ化ケイ素生成工程（ｃ）と、前記四フッ化ケイ素生成工程（ｃ）で副生するフッ化水素含有の硫酸を水蒸気蒸留することにより、硫酸を生成する硫酸生成工程（ｄ）とを有し、前記四フッ化ケイ素生成工程（ｃ）では、前記硫酸生成工程（ｄ）で生成する前記硫酸を再利用することを特徴とする。 （もっと読む）