【課題】水溶性ケイ酸塩と水溶性高分子化合物とからＷ／Ｏ／Ｗエマルジョンを用いて得られるマクロな孔を殻部分に持つ酸化ケイ素から構成される中空粒子が、全粒子中に当該粒子が占める割合を高めることができる製造技術を提供する。
【解決手段】水溶性ケイ酸塩とマクロ孔形成用水溶性高分子および無機塩を含む第１水相粒子を油相中に分散してなるＷ／Ｏエマルジョンに沈殿剤水溶液を作用させることを特徴とする、複数のマクロ孔を有するケイ素酸化物から構成される中空粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリカフュームに代表されるシリカ質微粉末の分散性を効率よく改善し、コンクリートやモルタルなどの圧縮強度や流動性の改善に寄与しうるシリカ質微粉末を得ることを一の目的とする。
【解決手段】 本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触させることを特徴とするシリカ質微粉末の改質方法を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られたことを特徴とする改質シリカ質微粉末を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られた改質シリカ質微粉末を含むことを特徴とするセメント組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】疎水化度が高く、且つ、吸湿性が格段に低減されている疎水性シリカ粒子の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の疎水性シリカ粒子の製造方法は、シリカを基材とする疎水性シリカ粒子の製造方法であって、該シリカが孤立シラノール基含有量が０．０１〜０．３ｍｍｏｌ／ｍ^２であり、且つ、比表面積値Ｓｓが、下記式（１）で示される理論表面積Ｓｓ_０に対する比表面積比（Ｓｓ／Ｓｓ_０）が２以下を満足するものであり、該シリカにオルガノシリル化剤を反応させることを特徴とする。該シリカはアルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を６５０〜１１８０℃で焼成することによって、孤立シラノール基含有量並びに比表面積を所定範囲に制御されたシリカを製造する工程と、該シリカにオルガノシリル基を導入する工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】安価なアルカリ珪酸塩をシリカ源とし、無毒性の非イオン性界面活性剤をテンプレートとするとの本発明者によりこれまでに開発された技術を踏まえ、反応容器の腐食ばかりでなく、作業工程及び作業環境上の安全対策、すなわち強酸性の反応溶液から繊維状多孔質シリカ粒子前駆体を分離する工程では、作業を実施する者や周辺器械を、塩酸蒸気やミストの発生・接触から遮断する処置を講じたり、あるいは反応溶液を充分冷却してから分離工程を行わなければならないといった全ての問題点を解消し、作業工程及び作業環境が安全であり、しかも、細孔特性並びに繊維形状を制御することが可能な、メソ孔とマイクロ孔を併せ持つ繊維状多孔質シリカ粒子を工業的に極めて有利に製造する方法を提供する。
【解決手段】酸性水溶液及び非イオン性界面活性剤の混合液に、アルカリ珪酸塩水溶液を３０℃から４５℃の温度条件下で攪拌しながら混合し、一定温度で所定時間以上攪拌し続けたら反応懸濁液の攪拌を停止して、反応生成物を溶液相から分離・洗浄して得られる湿潤状態の生成物もしくはその乾燥物を、中性もしくは弱アルカリ性の水溶液中において熟成後、溶液相から分離して得られた繊維状粒子前駆体中の非イオン性界面活性剤を除去して繊維状多孔質シリカ粒子を得る。 （もっと読む）

【課題】研摩傷の発生が少ないセリウム系研摩材を、簡易に製造する方法及びセリウム系研摩材の処理方法を提供する。
【解決手段】本発明は、焙焼後のセリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理工程を有するセリウム系研摩材の製造方法において、該セリウム系研摩材原料が含有するＳｉのモル数をＳｉ^＊、フッ化水素酸のモル数をＨＦ^＊としたとき、ＨＦ^＊／４Ｓｉ^＊が１．０以上で、該セリウム系研摩材原料とフッ化水素酸との混合処理前又は混合処理後に、（ｉ）該セリウム系研摩材原料の湿式分級処理、（ｉｉ）該セリウム系研摩材原料をスラリーとし、所定のストークス径以上の粗粒子を除去する沈降分離処理。（ｉｉｉ）該セリウム系研摩材原料のフィルタリング処理、の少なくとも１種の処理を行う。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度シリカ粒子の製造する方法において、生産性がよく、平均粒径が１００μｍ以上の高純度シリカ粒子を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、塩酸を抽出する難水相溶性の有機溶媒を反応溶液に予め混合し、反応液中の塩酸を該有機溶媒中に抽出して加水分解を行うことを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、四塩化珪素の導入量が純水１リットルに対して１.５モル以上であり、生成したゲル中のシリカ含有量が５.０重量％以上であって、１００μｍ以上の平均粒子径を有する高純度シリカ粒子を製造する方法。 （もっと読む）

【解決手段】珪素ナノ粒子が酸化珪素中に分散した構造を有する複合粒子であって、珪素ナノ粒子のサイズが１〜１００ｎｍであり、かつ０＜酸素／珪素（モル比）＜１．０である複合粒子からなる非水電解質二次電池用負極材。
【効果】本発明で得られた非水電解質二次電池用負極材をリチウムイオン二次電池負極材として用いることで、初回充放電効率が高く、高容量でかつサイクル性に優れたリチウムイオン二次電池を得ることができる。また、製造方法についても簡便であり、工業的規模の生産にも十分耐え得るものである。 （もっと読む）

【課題】無機ナノ粒子の分散性を改善し、また高分子膜の気体透過特性を改善する。
【解決手段】ナノオーダーの粒子径を有するシリカナノ粒子のような無機ナノ粒子の表面に、ハイパーブランチ高分子またはデンドリマー高分子を付加することにより得られた表面ハイパーブランチまたはデンドリマー修飾無機ナノ粒子をマトリクス樹脂中に分散し、製膜することにより気体分離膜を作製する。表面ハイパーブランチ修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を１個のカルボキシル基および２個以上のアミノ基またはハロゲン原子を有する化合物と反応させることにより作製することができ、表面デンドリマー修飾シリカナノ粒子は、例えば、シリカナノ粒子をアミノ基含有トリアルコキシシランで処理し、次いでこの粒子を３個以上のカルボキシル基を有する化合物で処理、反応させた後、２個のアミノ基を有する化合物で処理、反応させ、これを繰り返すことにより作製することができる。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度合成シリカ粒子を生成する方法において、加水分解によって生成するゲルから効率よく塩酸を除去して高純度シリカ粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカと塩酸を含むゲル状物質から高純度のシリカ粒子を製造する方法において、水相溶性を有する易揮発性の有機溶媒によってゲル中の塩酸を置換させた後に該ゲルを乾燥することを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法、好ましくは、有機溶媒としてメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトンのいずれかあるいは１種以上の混合物を使用し、７０〜１５０℃で乾燥を行う製造方法。 （もっと読む）

本発明は、黒鉛状炭素相Ｃおよび（半）金属相および／または（半金属）酸化物相（ＭＯ_x相）を含む新規の電気活性物質ならびにリチウムイオンセル用の陽極中での該電気活性物質の使用に関する。本発明は、この種の物質の製造法にも関する。電気活性物質は、次のもの：ａ）炭素相Ｃ；ｂ）少なくとも１つのＭＯ_x相を含み、その中でＭは、金属または半金属を表わし、ｘは、０ないし＜ｋ／２を表わし、この場合ｋは、金属または半金属の最大原子価を意味する。本発明による電気活性物質において、炭素相ＣおよびＭＯ_x相は、本質的に共連続相ドメインを形成し、この場合同一の相の２つの隣接したドメインの平均間隔は、１０ｎｍ以下、殊に５ｎｍ以下、特に２ｎｍ以下である。 （もっと読む）

金属酸化物前駆体、溶媒およびエポキシドの混合物からゾルを製造すること、およびゾルから金属酸化物材料を調製することにより調製される誘電体酸化物材料。種々の形態において、混合物は、共溶媒、１以上の追加の金属酸化物前駆体、水、またはガラス形成酸化物の前駆体、またはこれらの任意の組合せをも含み得る。調製された誘電体酸化物材料は、κ値が高く、漏電が少なく、誘電正接値が低い薄膜の形態であり得る。
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【課題】低密度シリカナノ中空粒子及びその製造方法において、塗料等を始めとする材料中に混入等をすることによって、極めて低い熱伝導率を得るために有効であること。
【解決手段】炭酸カルシウム２を結晶成長させた（Ｓ１０）後に、熟成（Ｓ１１）、脱水し（Ｓ１２）、固体微粉末状とした後、エタノールに分散させ（Ｓ１３）、シリコンアルコキシド及びアンモニアを添加して、ゾル−ゲル法によりシリカをコーティングする（Ｓ１４）。このようにして作製したシリカコーティング粒子３を洗浄した（Ｓ１５）後に、水に分散させて（Ｓ１６）、塩酸を添加して内部の炭酸カルシウム２を溶解させて流出させることによって（Ｓ１７）、流出孔を有する立方体状形態のシリカ殻からなるナノ中空粒子４が形成され、乾燥した（Ｓ１８）後に、加熱工程において４００℃で加熱し流出した孔を塞ぐことによって（Ｓ１９）、低密度シリカナノ中空粒子１が製造される。 （もっと読む）

ナノシリカ粒子の表面が、アルデヒド官能基を含有するシロキサン置換基で修飾され、ポリマーコーティング組成物等の組成物に容易に組み込まれる粒子を提供し、引っかき抵抗性、吸塵抵抗性、非接着性を向上させる一方で、優れた膜形成特性を維持する。新規のシリカ粒子、それらを調製するための簡素で経済的なプロセス、ならびに防塵塗料およびそれらを含有するポリマー成形組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明の主題の１つは、水溶性の孔形成剤、例えばシクロデキストリン誘導体またはサッカリドを使用することを含む多孔質シリカ粒子を調製するプロセスである。その主題はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子に関し、それら種々の使用および用途に関する。
【解決手段】本発明は、水溶性孔形成剤を含むシリカ粒子を調製する工程；次いで前記孔形成剤を溶解により除去する工程で構成される工程を含む多孔質シリカ粒子の調製プロセスに関する。本発明はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子、およびそれらの種々の使用および用途に関する。 （もっと読む）

【課題】軽量性、保温性、耐久性に優れ、汚れが付き難く、臭気が移り難い特性を有し、食材収納材料用として好適な粒材と、その粒材を含有した食材収納材料を提供する。
【解決手段】食材収納材料を形成する樹脂に分散させるシリカ質微粒子であり、粒子数で５０％以上の粒子が内部空隙を有し、該内部空間に隔壁を有する中空微粒子であることを特徴とする食材収納材料用粒材であって、好ましくは、内部空間が隔壁によって区切られた複数の独立気泡によって形成されている粒材、および該粒材が混合分散された樹脂からなる食材収納材料、該材料によって形成された食材容器ないし食材梱包材。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によってシリカ粉を製造する方法において、四塩化珪素を無極性の有機溶媒と混合して四塩化珪素の加水分解を行い、この加水分解で副生する塩酸に水酸化アンモニウムを添加して中和しながら反応を進行させてシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを乾燥して合成シリカ粉を製造することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、無極性の有機溶媒としてベンゼンまたはヘキサンを用い、溶液のｐＨを１〜７好ましくは１〜２に制御してシリカ質のゲルを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、表面改質されたことを特徴とする、エアロゲル型ストラクチャードシリカ、エアロゲル型ストラクチャードシリカを調製し、場合によってまず水又は酸性化した水、及び次に溶媒に場合によって溶解されていてよいシラン化剤を吹きつけ、後混合し、及び混合物をコンディショニングすることを特徴とする、表面改質された、エアロゲル型ストラクチャードシリカの製造方法、その使用を提供する。
【効果】本発明により、表面改質されたことを特徴とする、エアロゲル型ストラクチャードシリカ、その製造方法、その使用を提供できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高密度半導体の成形不良率を低減、特に、ワイヤー流れ量を低減させた半導体封止材を調製することのできるシリカ質粉末と、それを含有してなる組成物を提供する。
【解決手段】粒子径２５μｍ以上６３μｍ未満の粒子含有率が３０質量％以上８５質量％以下であり、粒子径２５μｍ以上６３μｍ未満の粒子について、平均包絡度が０．９０以上、包絡度０．８５未満の粒子の割合が１５％以下、包絡度０．７５未満の粒子の割合が５％以下であるシリカ質粉末。シリカ質原料粉末を火炎中に噴射して溶融、非晶質化した後、シリカ質粉末を目開き３０〜７５μｍの網を用い、水平方向の振幅を８〜１５ｍｍ、粉末１ｋｇあたりの篩い分け時間を５〜１５秒／ｋｇ・ｍ^２として篩い分けた篩下の粉末を、さらに同様の条件で１回以上篩い分けるシリカ質粉末の製造方法。シリカ質粉末を含有してなる樹脂組成物及び樹脂組成物を用いた半導体封止材。 （もっと読む）

【課題】微粒子同士の凝集が抑制され、樹脂中に分散させた場合には耐光性及び光透過性に優れる樹脂を提供することができる金属酸化物微粒子、該微粒子を反応させて得られるシリコーン樹脂組成物、該シリコーン樹脂組成物を含有する光半導体素子封止材料、ならびに、該樹脂組成物又は光半導体素子封止材料で封止された光半導体装置を提供すること。
【解決手段】炭素数4〜20のアルケニル基を有するケイ素化合物を含有する表面修飾剤で処理されてなる、金属酸化物微粒子。 （もっと読む）

【課題】優れた研磨性能を発揮し、かつ、長時間の研磨に供しても、研磨レートの低下が最小限に抑制された研磨用組成物を提供する。
【解決手段】水系分散媒に、真球度が０．９以上、１．０以下の範囲にある球状シリカ粒子と真球度が０．３以上、０．９未満の範囲にある非球状シリカ粒子とが分散してなり、非球状粒子に対する球状粒子の重量比が２／９８〜３５／６５の範囲にある研磨用組成物である。球状粒子の平均粒子径が２０〜１５０ｎｍの範囲にあり、非球状粒子の平均粒子径が５〜１００ｎｍの範囲にある。 （もっと読む）