【課題】従来にない形状を有する非球状シリカ、新たな製法により得られる非球状シリカ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径２〜１７ｎｍのシリカ微粒子が連なる形状を有する非球状シリカ、樹枝状を有する非球状シリカ、又はマイクロリアクターを用いて、ケイ酸塩溶液と酸及び／又は塩溶液とを接触させることにより得られる非球状シリカに関する。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度シリカ粒子を製造する方法において、生産性がよく、平均粒径が１００μｍ以上の高純度シリカ粒子を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、四塩化珪素および純水を入れた反応容器に電極を設置し、加水分解によって生成する塩酸を電気分解して除去しながら、四塩化珪素の加水分解を進めることを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、陽極に塩素発生過電圧の低い電極を用い、副生する塩酸を電気分解することによって反応液のｐＨを１.５以上に保持しながら加水分解を行う高純度シリカ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 銀イオンが安定して担持され、長期にわたって抗菌消臭性能を発揮する。
【解決手段】 抗菌消臭成分とシリカ系複合酸化物粒子とからなる抗菌消臭剤であって、抗菌消臭成分として銀イオンをＡｇ₂Ｏとして０．１〜２５重量％含み、シリカ系複合酸化物粒子がアルカリ金属イオンを含む。シリカ系複合酸化物粒子中のアルカリ金属イオンの含有量がＭ₂Ｏ（Ｍ：アルカリ金属を表す）として１〜２０重量％の範囲にあり、アルカリ金属イオンは代表的にはＮａイオンである。 （もっと読む）

【課題】液状のエポキシ樹脂組成物に含有させても、得られるエポキシ樹脂組成物の流動性の低下を抑制でき、さらに、凝集の発生を抑制できる表面処理シリカ粒子を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】シリカ粒子の表面にプラズマ処理を施す工程と、前記プラズマ処理が施されたシリカ粒子１００質量部に対して、エポキシ樹脂及び硬化剤を含む配合物３０〜４０質量部を混合する工程とを備えることを特徴とする表面処理シリカ粒子の製造方法を用いる。 （もっと読む）

【課題】フィラーとしてのシリカ粒子を充填してなる樹脂混合物において、フィラー充填率を高くしても高流動性を有する樹脂混合物、およびそのためのフィラーとしてのシリカ粒子を提供すること。
【解決手段】粒径範囲５００ｎｍ〜７５μｍのシリカ粒子（Ｘ）を９０質量％以上含有し、かつ粒径５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲に粒度分布の極大値をもち、かつその９５質量％以上が粒径範囲３０ｎｍ〜５００ｎｍのシリカ超微粒子（Ｙ）を０．５〜１０質量％含有するシリカ粒子を提供する。また、それを樹脂と混合した樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】同一工程を多数回繰り返す必要のない簡単な方法によって均一で粒径の大きいシリコンナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】カリックスアレーンを含む溶媒中でＳｉ塩を出発原料としてシリコンナノ粒子を合成させる工程、次いで、当該溶媒中で前記シリコンナノ粒子の表面を水素化させてＳｉの水素化物を形成させる工程、さらに当該溶媒中で前記Ｓｉの水素化物と表面修飾化合物とを反応させる工程を含むＳｉナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＰＫＷ−タイヤ中で使用される珪酸をＬＫＷ−タイヤ、オートバイタイヤ及びＰＫＷ用の高速タイヤ中で使用することは、異なる仕様プロフィルに基づき不適当であるため、特別にこれらの車両に適合された特性プロフィルを有する沈降珪酸を提供する。
【解決手段】１７８〜３０２ｍ^２／ｇのＢＥＴ−表面積、≧１７０ｍ^２／ｇのＣＴＡＢ―表面積、２００〜３００ｇ／（１００ｇ）有利に２０７〜２７６ｇ／（１００ｇ）のＤＢＰ−数及び１０〜２５ｍｌ／（５ｇ）、１０〜２０ｍｌ／（５ｇ）、１０〜１６ｍｌ／（５ｇ）のシェアズ(Sears)−数Ｖ_２を有する沈降珪酸によって解決される。 （もっと読む）

【課題】石炭と金属酸化物、二酸化ケイ素及び硫黄化合物を含有するフライアッシュを効率的に分離し、クリーンな処理石炭および二酸化ケイ素の製造方法を提供する。
【解決手段】処理石炭３８及び実質的に純粋な二酸化ケイ素４５を製造する方法は、［１］石炭とフライアッシュとの混合物２３をフッ化水素水溶液と反応させて、フッ化ケイ素と金属フッ化物とを含有する液体流２７及び未反応石炭と硫黄化合物とを含有する固体流２９を生じさせ、［２］硫黄化合物を水に溶解した金属硝酸塩と反応させて硝酸イオン、金属イオン及び硫黄イオンの水溶液を生成し、［３］硝酸イオン、硫黄イオン及び金属イオンの水溶液を固体石炭３８と分離し、［４］この処理石炭３８を水で洗浄し、［５］フッ化ケイ素及び金属フッ化物を金属硝酸塩と水性混合物中で反応させて固体二酸化ケイ素４５を生成し、固体二酸化ケイ素４５を水性混合物から分離する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】印刷紙用のインク吸収性フィラー、塗料の展着性改善剤、各種材料表面の親水性コーティング材、高強度バインダー、触媒用バインダー、電子材料用研磨材等に有用なコロイダルシリカを提供すること。
【解決手段】アルコールの存在下で活性珪酸を原料として製造されるコロイダルシリカであって、アルコールを含有し、透過型電子顕微鏡観察による長径／短径比が１．２〜６である非球状の異形シリカ粒子群を含有するコロイダルシリカである。これは、珪酸アルカリ水溶液とカチオン交換樹脂とを接触させて、活性珪酸水溶液を調製した後、この活性珪酸水溶液にアルコールおよびアルカリ剤を添加し、アルカリ性とした後、加熱してシリカ粒子を形成させ、続いてビルドアップの手法でシリカ粒子を成長させる工程を有することにより製造することができる。 （もっと読む）

【課題】不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる珪素微粒子の製造方法を得ること。
【解決手段】珪素塊１を粉砕して珪素微粒子を得る珪素微粒子の製造方法であって、酸素を放出して珪素に対する酸化作用を有する酸化性液体４中において前記珪素塊１を粉砕することにより、粉砕された珪素微粒子の表面に酸化珪素膜を形成しながら前記珪素塊１を粉砕して前記珪素微粒子を作製する。これにより、粉砕時の珪素内への不純物の拡散を防止することができ、不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】太陽電池に用いる電極として利用可能な新たな半導体電極、半導体電極を用いた太陽電池、及び半導体電極の製造方法を提供する。
【解決手段】太陽電池１は、半導体電極１０と、対向電極２０と、電解質３０と、封止材４０とを有する。半導体電極１０は、光透過性を有し、光が入射する入射面１１ａを有する。対向電極２０は、半導体電極１０に対向して配設される。電解質３０は、半導体電極１０と対向電極２０との間の空間に配設される。封止材４０は、空間に配設される電解質３０を封止する。半導体電極１０は、透明電極１２を有する。透明電極１２は、光透過性を有し入射面１１ａを有する基板１１において、入射面１１ａの反対の表面に配設される。透明電極１２は、基板１１が接合される表面の反対面に金属酸化物層１３が配設される。金属酸化物層１３は、金属酸化物の微粒子１４と、ケイ素微粒子１５とを含む。 （もっと読む）

【課題】微細化と共に耐熱性、機械的強度の高く、中空率の偏析のすくない無機質中空粉体と、その製造方法及びそれを含有したプラズマディスプレイパネル用隔壁材料、樹脂組成物を提供する。
【解決手段】粒子の中空率が６０体積％以上〜８０体積％未満の中空粒子の粉末が１０〜２０質量％、粒子の中空率が２０体積％以上〜６０体積％未満の中空粒子の粉末が７５〜８９．９質量％、粒子の中空率０体積％〜２０体積％未満の中空粒子の粉末が０．１〜５質量％で、最大粒子径が１０μｍ以下、ＢＥＴ法により求めた比表面積が２０ｍ^２／ｇ以下、平均球形度０．８５以上である無機質中空粉体。水分含有率が５〜３０質量％、細孔容積０．１〜１．０ｍｌ／ｇ、最大粒子径１０μｍ以下、ＳｉＯ_２含有量が９９．０質量％以上の無機質原料粉末を、火炎中に２００ｍ／ｓ以上の吐出速度で供給して、中空化させた無機質中空粉体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒径を大きくするに際して焼成に伴う不具合を抑制することの容易なポリオルガノシロキサン粒子の製造方法及びシリカ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン粒子は、Ｒ^１_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ｎで表されるアルコキシドの加水分解及び縮合を通じて製造される。こうしたアルコキシドとしては、例えばメチルトリメトキシシランが挙げられる。ポリオルガノシロキサン粒子及びシリカ粒子の製造方法では、アルコキシドを加水分解及び縮合させることで、液滴状のシード粒子が分散してなるシード粒子水性分散液を調製する。次に、シード粒子水性分散液とアルコキシドと混合することでシード粒子を成長させた成長粒子を得る。続いて、成長粒子を固化させることで固化粒子を得る。固化粒子は、光学顕微鏡で観察されるコアシェル構造を有しており、こうした固化粒子を焼成する。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、異方性粒子の異方性部位の面積を容易かつ精密に変えることが可能な異方性粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】
第一の粒子１１と、第一の粒子１１の平均粒径よりも平均粒径が小さく、かつ、第一の粒子１１とは異なる材料からなるマトリクス材１２、あるいはマトリクス材１２の前駆体とを含む液体１３を基板１４上に付与することにより、第一の粒子１１の間にマトリクス材１２が第一の粒子１１の平均粒径未満の高さで充填されている第一の粒子１１の単層膜を基板１４上に形成する工程と、第一の粒子１１のマトリクス材１２から露出している部分を改質することにより異方性粒子１５を得る工程と、異方性粒子１５を１４基板及びマトリクス材１２から分離する工程と、を有することを特徴とする異方性粒子１５の製造方法。 （もっと読む）

以下の物理化学的パラメータを有するミクロポーラス沈降シリカが本明細書に記載される：ＣＴＡＢ表面積５０から３００平方メートル／グラム、ＢＥＴ／ＣＴＡＢ比≧１．３、細孔径分布の相対幅γ≦３．５。上記沈降シリカは、Ｓｅａｒｓ数１０から２８及びＳｅａｒｓ数／ＣＴＡＢ比≦０．１６も有することができる。上記ミクロポーラス沈降シリカを含む、加硫可能及び加硫されたエラストマー組成物、例えばタイヤも本明細書に記載される。 （もっと読む）

【課題】 導電性を有すると共に、光学的な透明性を備えたシリカ系中空粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明に係る導電性シリカ系中空粒子の製造方法は、（ａ）シリカ系中空粒子を合成する工程と、（ｂ）前記シリカ系中空粒子に塩化スズ（ＩＶ）溶液を添加して、前記シリカ系中空粒子にスズイオンを吸着させる工程と、（ｃ）スズイオンが吸着されたシリカ系中空粒子を分離して焼成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【解決手段】
０．０１重量％未満の総鉱物性不純物と選択的に決定された炭素：シリコンの比率を含む、シリコン、炭化ケイ素および窒化ケイ素などのシリコン含有生成物。その生成物は、少なくとも３重量％のシリカを含む、籾殻および稲藁などの植物に由来する。制御された温度、圧力および反応時間の下、固定炭素：シリカのモル比を調節しながら、シリコン含有植物を硫酸水溶液で浸出して鉱物および金属を除去し、次いで、制御された条件下、熱的に処理して所望の生成物を生産することを特徴とする、そのような高純度のシリコン含有生成物を作るための方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】従来のコロイダルシリカよりも製造が容易で、製造コストが低く、金属不純物による汚染が少なく、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、半導体デバイスウエハ、磁気ディスク基板、水晶基板等の電子材料の研磨加工に用いることのできる新規なコロイダルシリカを提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液を原料としたコロイダルシリカのシリカ粒子をコアとし、その粒子表面をテトラアルコキシシランのアルカリ触媒を用いた加水分解によるシリカからなる厚さ１〜１０ｎｍのシェルで被覆したコア・シェル型シリカ粒子を含有することを特徴とするコロイダルシリカである。 （もっと読む）

１つの実施形態では、本発明の方法は、少なくとも１種のシリコン源ガス及びポリシリコンシリコンシードを反応区域に供給するステップ；反応区域内で、少なくとも１種のシリコン源ガスの熱分解の反応平衡に実質的に到達して元素シリコンが生成するように少なくとも１種のシリコン源ガスをその反応区域内で十分な温度と滞留時間に維持するステップ（その少なくとも１種のシリコン源ガスの分解は、以下の化学反応：４ＨＳｉＣｌ_３←→Ｓｉ＋３ＳｉＣｌ_４＋２Ｈ_２で進行するものであり、十分な温度は、約６００℃〜約１０００℃の温度範囲である）；及びｃ）ポリシリコンシリコンシードに元素シリコンが蒸着されて被覆粒子が生成するようにその反応区域中に十分な量のポリシリコンシリコンシードを維持するステップ；を包含している。 （もっと読む）

【課題】電気加熱の負担を減少させ、電気消耗量を減少させるとともに、従来に比べて短期間にポリシリコンを製造できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】反応チャンバーと、前記反応チャンバー内にシランガスを供給するためのガス供給部と、前記ガス供給部で供給されるシランガスにレーザービームを照射し、前記シランガスを熱分解してポリシリコン粒子を形成するためのレーザー照射部と、前記ポリシリコン粒子を収容するためのポリシリコン粒子収容部とを含んでポリシリコンの製造装置を構成する。 （もっと読む）