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Fターム[4G072CC10]の内容

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Fターム[4G072CC10]に分類される特許

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【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が0.45〜1.0cm/gであり、且つ、細孔直径2.5nm以下の領域に細孔分布のピーク(最大値)が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、pH10.5〜11.5でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、pH4〜7で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、pH0.5〜2で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】アミノアルキルチオ硫酸塩は、通常、吸湿性を有しており、さらに吸湿により潮解することがあるため、これを用いてゴム組成物を製造する際の作業性の改善が求められていた。
【解決手段】式(1)


(式中、R及びRはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは2〜9の整数を表す。Mはアルカリ金属を表す。)
で示されるアミノアルキルチオ硫酸塩が中性又は塩基性のシリカゲルに吸着されているアミノアルキルチオ硫酸塩含有シリカゲル。 (もっと読む)


【課題】 ゾルゲル法による3段階の階層的多孔構造を有するモノリス多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】 前駆体ゾルを調製するゾル調製工程と、有機ポリマー繊維を3次元的な広がりを有する塊状に構成してなるテンプレートを収容したゲル化容器内において、前記前駆体ゾルに対して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、前記有機ポリマー繊維の周囲の空間に、ヒドロゲル相と溶媒相の共連続構造体からなるゲルを形成するゲル化工程と、前記ゲルから前記溶媒相と前記有機ポリマー繊維を個別或いは同時に除去する除去工程とを有し、前記有機ポリマー繊維が、長手方向への伸長が拘束された状態で前記長手方向に垂直な断面が収縮可能な構造を有し、前記有機ポリマー繊維を除去した後の空隙にテンプレート孔を、前記溶媒相を除去した後の空隙に貫通孔を、前記ヒドロゲル相の骨格体に細孔を、夫々形成する。 (もっと読む)


【課題】 大型且つ一体型の3次元連続網目状構造のシリカゲルまたはシリカガラスからなるモノリス多孔体で均質な骨格構造のものをゾルゲル法で製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類を主成分として含むシリカ前駆体が溶媒相に混合されたゾルを調製するゾル調製工程と、前記ゾルを、所定のゲル化促進温度以上の温度下に維持して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、3次元連続網目状構造を有するシリカヒドロゲル相と前記溶媒相の共連続構造体を形成するゲル化工程と、前記共連続構造体から前記溶媒相を除去する除去工程と、を有し、前記ゾル調製工程において、前記溶媒相を構成する化合物と前記シリカ前駆体の反応系に添加する化合物の内の少なくとも何れか1つの化合物の強冷された固体からなる冷媒を前記溶媒相内に加えることにより、当該ゾル調製工程中における前記ゾルの温度上昇を抑制する。 (もっと読む)


【課題】アルカリ金属および合金を金属反応性を著しく喪失することなく、容易に取り扱うことのできる形態にした組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】真空または不活性雰囲気下で、シリカゲル粉末の細孔にナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムから選択された金属または合金を液相状態で含浸し、粉末状の組成物。さらに該組成物を前記雰囲気下で温度、保持時間の異なる加熱条件で処理し酸素との反応性をより低下させた各種の組成物。 (もっと読む)


【課題】望ましい研磨及び清掃性だけでなく優れた増粘性を示す歯磨剤内への配合が容易なシリカ系歯科用研磨剤を提供する。
【解決手段】現場製造されたゲル/沈降シリカの複合材料であって、該複合材料は20〜85体積%のシリカゲルを含み、ここで該複合材料は150ml/100gより大きいアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は約1.0〜5.0mg損失/100,000回転の範囲の10%Brass Einlehner硬度を示す複合材料。 (もっと読む)


【課題】増粘特性と研磨特性に優れたゲル/沈降シリカの複合材料、及び該複合材料を含有する歯磨配合物の提供。
【解決手段】5〜50体積%のシリカゲルを含み、該複合材料は40〜100ml/100gの範囲のアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は5〜30mg損失/100,000回転の範囲の10%Brass−Einlehner硬度を示す複合材料、および該複合材料を含有する歯磨配合物。該複合材料は、3〜20μmのメジアン粒径を示す粒子の形態であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル3と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器1を加熱する。これにより、溶媒3は湿潤ゲル容器1の上部空間8に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器2内に孔7を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を1〜2日保持することにより、溶媒3中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器2を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 (もっと読む)


【課題】高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が少ない合成シリカガラス製品のための原料に適する、合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末を焼成し、この焼成したシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径D50が10〜2000μmの合成非晶質シリカ粉末であって、BET比表面積を平均粒径D50から算出した理論比表面積で割った値が1.35を超え1.75以下、真密度が2.10〜2.20g/cm3、粒子内空間率が0〜0.05、円形度が0.50以上0.75以下及び球状化率が0.20以上0.55未満であり、炭素濃度が2ppm未満又は塩素濃度が2ppm未満のいずれか一方或いはその双方を満たすことを特徴とする。 (もっと読む)


外側表面及び内側の孔表面を有する処理された多孔質粒子であって、処理された多孔質粒子の外側表面の少なくとも一部分は疎水基を有し、内側の孔表面は親水性である。処理された多孔質粒子は、例えば乾燥剤として有用であり得る。吸収性物品(例えばおむつ及び生理用ナプキン)、並びに処理された多孔質粒子を含む吸収性物品の吸収性部品もまた開示される。
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【課題】平均粒子径100μm以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】特定の無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてW/O型エマルジョンを形成する工程、前記W/O型エマルジョンに金属アルコキシドを添加し、無機化合物を含む水性液体の液滴の外殻部に金属アルコキシドの加水分解による金属酸化物を生成させる工程、及び、前記金属酸化物の生成後のW/O型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る平均粒子径が100〜1000μmの無機質球状体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】鉄鋼スラグを原料として高純度シリカを短時間で簡便に製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の高純度シリカの製造方法は、塩化水素の濃度が0.01〜4mol/Lの塩酸に鉄鋼スラグを溶解させるステップと、溶解液から不溶解物を除去するステップと、不溶解物を除去した塩酸の塩化水素の濃度を上げて、溶解液中のケイ酸イオンをゲル化させるステップと、ゲル状のシリカを水洗するステップとを有する。本発明によれば、鉄鋼製造工程において副産物として発生する鉄鋼スラグを原料として、太陽電池やガラス、乾燥剤などの製造に有用な高純度のシリカを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、細孔を有するシリカゲルを原体とて用い、粒径を維持したまま、細孔径、細孔容積を減少させる、すなわち細孔物性が調整されたシリカゲルを製造する方法及び細孔を有するシリカゲルの細孔物性を調整する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】細孔を有するシリカゲルとアルコキシシラン及び/又はその誘導体を水存在下で加水分解し、マイクロ波を照射することで、シリカゲルの粒径を維持したまま、細孔物性を制御できる。すなわち、細孔径、細孔容積を減少させることができる。 (もっと読む)


【課題】 シリカゲルの用途の拡大を図るために、ケイ酸アルカリ溶液からシリカゲルを筒状又は板状に析出させることのできるシリカゲルの製法を提供することにある。
【解決手段】 ケイ酸アルカリ溶液のpH値を硫酸で11.0以上12.0以下に調整し、調整後のケイ酸アルカリ溶液を電気分解して陽極線の表面にシリカゲルを円筒状に析出させる。 (もっと読む)


【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル3と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器1を加熱する。これにより、溶媒3は湿潤ゲル容器1の上部空間8に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器2内に孔7を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を1〜2日保持することにより、溶媒3中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器2を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 (もっと読む)


【課題】 最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、不要な金属不純物の含有量が少なく、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。
【解決手段】 以下の特性を備えるようにする。
(a)細孔容積が0.6ml/g以上、1.6ml/g以下
(b)比表面積が50〜600m2/g
(c)最頻細孔直径(Dmax)が15nm以上
(d)固体Si−NMRでのQ4/Q3値が3以上
(e)非結晶質であること
(f)金属不純物の含有量が100ppm以下 (もっと読む)


【課題】高透過率かつ高導電性を有し、表面が平坦であり耐熱性に優れた金属微粒子で構成される網目状構造物を含有する透明導電性膜および前記透明導電性膜積層基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子において、Au、Ag、Cu、Pt、Pd、Fe、Co、Ni、Al、In、Snの金属あるいは前記金属を2種類以上含む合金を加熱焼成して得られる酸化ケイ素ゲル体膜を主成分とし、金属微粒子で構成される網目状構造物が内包されたことを特徴とする透明導電性膜及び透明導電性膜積層基板である。 (もっと読む)


【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が0.45〜1.0cm/gであり、且つ、細孔直径2.5nm以下の領域に細孔分布のピーク(最大値)が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、pH10.5〜11.5でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、pH4〜7で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、pH0.5〜2で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】単分散性に優れたシリカゲルを歩留まり良く、かつ、簡便安価に製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカゲルの製造方法は、第1の流路にシリカゾルを供給する工程と、第2の流路に液体を供給する工程と、該第1の流路と該第2の流路とが合流する合流点で該シリカゾルと該液体とを層流状態で接触させる工程と、該液体を接触させた該シリカゾルをゲル化する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】
効果的にPCB類やダイオキシン類等を含有する試料をクリーンアップ処理できるシリカゲル、及びこれを用いたPCB類やダイオキシン類等の高精度測定方法を提供すること。
【解決手段】
シリカゲルを97〜100%の硫酸で処理する、高濃度硫酸含有シリカゲルの製造法、該方法で得られた高濃度硫酸含有シリカゲルで処理する試料の前処理方法、該方法で処理した試料を用いる環境分析方法、該高濃度硫酸含有シリカゲルを含んでなるクロマトグラフィー用充填剤及び該充填剤を充填してなるクロマトグラフィー用カラム。 (もっと読む)


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